触摸屏结构制造技术

本实用新型专利技术公开了一种触摸屏结构，包含：一盖板玻璃，在盖板玻璃的一已加工表面上具有均匀分布的数个微细凹坑，微细凹坑的深度范围介于0.5

【技术实现步骤摘要】
触摸屏结构


[0001]本技术涉及触摸屏领域，尤指一种使用浮法玻璃制作具备高透光率及抗菌效果的触摸屏结构。

技术介绍

[0002]浮法玻璃(Float glass)具有价廉的优势，但在光学玻璃应用范畴较少；如所知的是，浮法玻璃采用锡槽成型的方法，在玻璃与锡面接触的面，即玻璃基板的锡面，玻璃成型后在锡面的氧化亚锡(SnO)容易形成沾锡、彩虹、斑点或小波纹等缺陷，当这类玻璃产品想要作为触摸屏使用的光学玻璃时，需要对玻璃锡面进行优化处理，例如：使用机械抛光(Mechanicalpolishing)或湿式蚀刻手段来改善锡面的缺陷。其中，以机械抛光手段改善锡面缺陷，如中国专利申请公布号CN109926914A的玻璃面研磨剥片装置，其研磨平整的工艺技术难度较高、生产效率低，加工成本及设备成本均较高昂，而且工作面积的长宽大都受到限制在15英寸以下，对于目前广泛在公众场所使用需要的大尺寸面板无法适用，造成应用方面的困扰。另外，湿式蚀刻手段则具有较高生产效率、工艺技术难度低以及加工成本较低廉的优点，所以目前已被广泛使用，湿式蚀刻后会使玻璃表面粗糙化，形成具有雾度(Haze)的玻璃面，而具有雾度表面会使通过玻璃板体的光线产生漫射(diffuse reflection)现象，达到防眩光、抗反射效果，但也会减损玻璃板的透光率，通常玻璃表面的雾度越高、透光率降低越多；这种通过以湿式蚀刻手段处理锡面的玻璃板，如果被应用作为触摸屏的迭层组成组件时，会降低组成的整体触摸屏的透光率，因此克服该问题乃为业界共同努力的目标。
[0003]除此之外，如果使用浮法玻璃作为抗菌玻璃基板，通常在银离子抗菌处理后会产生相当程度的色变(金黄色)问题，这是因为在锡面侧的玻璃基板表面，锡成分在玻璃中扩散，若在该面内形成银离子扩散层，银离子扩散层中的银由于锡成分而被还原变成银胶质，引起的玻璃着色；经实验结果表明，若玻璃由于银胶质而着色时，对波长带域在428nm附近数百纳米范围的吸收波长会变得很大，使得玻璃板的透光率也受到影响，这结果导致价格相对便宜的浮法玻璃较难以扩展在抗菌玻璃方面的应用。

技术实现思路

[0004]有鉴于此，本技术主要目的在于提供一种使用浮法玻璃制作具备高透光率及抗菌效果的触摸屏结构。
[0005]本技术提供一种触摸屏结构，可使具有雾度表面的盖板玻璃与触摸传感器在密接叠合组成一体后，仍可确保整体触摸屏的良好透光率。
[0006]根据本技术所提供的触摸屏结构，其包含一盖板玻璃、一接合层及一触摸传感器，在所述盖板玻璃的一已加工表面上具有均匀分布的数个微细凹坑，所述微细凹坑的深度范围介于0.5μm至10μm之间，相邻的二个所述微细凹坑之间的间距范围介于1μm至20μm 之间；所述接合层是由透明的光学树脂材料所制成的软黏性薄层，所述接合层被覆设在所
述已加工表面上，并使所述接合层的光学树脂材料被填补入所述微细凹坑中，其中，所述接合层与所述盖板玻璃之间的相对折射率介于1.04至0.96之间；使所述触摸传感器、所述接合层及所述盖板玻璃依序密接叠合，借由所述接合层将所述触摸传感器与所述盖板玻璃组合成一体。
[0007]根据本技术的一实施例，所述盖板玻璃选用折射率为1.523的浮法玻璃，所述接合层选用折射率为1.485的光学胶。
[0008]在本技术的触摸屏结构中，所述接合层的光学树脂材料被填补入所述盖板玻璃表面的微细凹坑中，以钝化所述盖板玻璃表面的雾度，且所述盖板玻璃与所述接合层具有相近的折射率，据此可降低光线通过所述盖板玻璃板体时的漫射效应，从而提升触摸屏的透光率及可瞻性。
[0009]本
技术实现思路
以简化形式介绍一些选定概念，在下文的具体实施方式中将进一步对其进行描述。本
技术实现思路
并非意欲辨识申请专利的标的的关键特征或基本特征，亦非意欲用于限制申请专利的标的的范围。
附图说明
[0010]图1为本技术实施例的制备方法流程图。
[0011]图2为本技术实施例的叠层架构示意图。
[0012]图3为图2在IV部位的放大示意图。
[0013]图4为本技术实施例的制备方法中的抗菌处理流程图。
[0014]附图中的符号说明：
[0015]10盖板玻璃；
[0016]11锡面；
[0017]12微细凹坑；
[0018]20接合层；
[0019]30触摸传感器；
[0020]S1～S4步骤。
具体实施方式
[0021]如后附各图描述了本技术的较佳实施例，其中，为提供更清楚的描述及更易理解本技术的技术特征，图式内各部分并没有依照其相对尺寸绘图，某些尺寸与其他相关尺度相比已经被夸张；不相关的细节部分也未完全绘出，以求图式的简洁。
[0022]请参阅图1及图2所示，本技术触摸屏的制备方法包含步骤S1至步骤S3，以及一可选择性实施的步骤S4；其中，步骤S1、对盖板玻璃10的锡面11进行一优化处理，并在所述锡面11上形成均匀分布的数个微细凹坑12：
[0023]提供一盖板玻璃10，该盖板玻璃10选用长宽在15英寸以上、折射率约为1.523的浮法玻璃，例如是N
‑
KF9国际玻璃码523515.250的浮法玻璃；对该盖板玻璃10的锡面11进行一优化处理，以去除玻璃表面残留杂质及瑕疵，并在该锡面11形成均匀分布的数个微细凹坑(Micropit)12。
[0024]前述优化处理包含：I、提供一蚀刻液，其由水溶性无机盐类、酸液、分散剂、稳定剂
以及去离子水等材料均匀混合而成溶液；特别是，该水溶性无机盐类占总重量比10％至 35％、该酸液占总重量比5％至60％、该分散剂占总重量比0.5％至5％、该稳定剂占总重量比1％至10％以及其余量为去离子水；该水溶性无机盐类选自于氢氟酸、氟化钾、碳酸氢钠、碳酸氢钾、过氯酸铵中的一种或几种的混合物，该酸液选自于磷酸、柠檬酸、醋酸、乳酸、硼酸、酒石酸的一种或几种的混合物，该分散剂选自于硝酸、硫酸、氢氟酸、盐酸中一种或几种的混合物，该稳定剂选自于乙基硫醇锡、氯化镁、硅酸化钠、有机镍化合物类中一种或几种的混合物。
[0025]II、将该蚀刻液作用于该锡面11，使该蚀刻液温度维持在40℃至50℃之间，作用时间约10至30分钟，然后对锡面11施予清洗以去除残留的蚀刻液，因此在该锡面11形成数个微细凹坑，使表面粗糙化以达降低反射光及防眩光的效果；特别是，前述蚀刻液与该锡面 11的作用方式可经由多种手段实践，例如，可将该蚀刻液盛装于一工作槽中，并将该盖板玻璃10投入该工作槽内，使该锡面11完全浸渍于该蚀刻液中以进行蚀刻，而熟悉此项技术人士知道，除前述作用方式之外，亦可使用连续性喷洒方式，例如是，该蚀刻液以持续地喷洒于该锡面10a上以进行蚀刻；因此该蚀刻液与该锡面11的作用方式并不以前述的技术手段为限。
[0026]在本技术的优化处理制程中，该盖板玻璃10上除了该欲加工的锡面10a保持敞露状态之外，其余的表面均本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种触摸屏结构，其特征在于，包含：一盖板玻璃，在所述盖板玻璃的一已加工表面上具有均匀分布的数个微细凹坑，所述微细凹坑的深度范围介于0.5
µ
m至10
µ
m之间，相邻的二个所述微细凹坑之间的间距范围介于1
µ
m至20
µ
m之间；一接合层，其由透明的光学树脂材料所制成的软黏性薄层，所述接合层被覆设在所述已加...

【专利技术属性】
技术研发人员：白志强，林孟癸，
申请(专利权)人：洋华光电股份有限公司，
类型：新型
国别省市：