【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种用于减少浸入式光刻中的污染物的装置，包括：晶片卡盘组件，包括配置为在其支撑表面上保持半导体晶片的晶片卡盘；所述晶片卡盘中具有的缝隙，所述缝隙与所述晶片的外边缘相邻，并且所述缝隙中包含一定量的浸入式光刻液体；以及液 体循环路径，配置在所述晶片卡盘中，以便促进在所述缝隙中的所述浸入式光刻液体的向外辐射运动，从而相对于所述半导体晶片的上表面，将所述浸入式光刻液体的弯月面保持在选定高度。
【技术特征摘要】
...
【专利技术属性】
技术研发人员：D施奈德，黎家辉，RJ贝扎马，DL戈德法布，
申请(专利权)人：国际商业机器公司，
类型：发明
国别省市：US[美国]
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