【技术实现步骤摘要】
一种托盘基座、气流驱动装置及外延设备的反应室机构
[0001]本专利技术涉及外延生长
,特别涉及一种托盘基座、气流驱动装置及外延设备的反应室机构。
技术介绍
[0002]外延生长工艺中,为了提高外延均匀性,具有衬底的托盘需保持一定速度的匀速旋转,以使得衬底上晶体均匀生长。
[0003]托盘一般利用托盘基座进行承托,并伴随托盘基座旋转而旋转。
[0004]现有的托盘基座一般需要搭配气流导出底座使用;气流导出底座送出的气流在托盘基座和气流导出底座之间形成涡流使得托盘基座旋转并浮起,然而,现有的托盘基座常常出现尚未浮起便开始旋转的现象,导致托盘基座产生磨损且起始时托盘基座旋转不稳定。
[0005]因此,现有技术有待改进和发展。
技术实现思路
[0006]本申请的目的在于提供了一种托盘基座、气流驱动装置及外延设备的反应室机构,实现托盘基座先浮起后旋转的启动方式,防止托盘基座在未完全浮起时进行旋转而与气流导出底座摩擦造成损伤,并保证托盘基座启动平稳、无卡滞。
[0007]第一方面, ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种托盘基座,用于承托托盘并驱动所述托盘浮起旋转以进行外延生长,所述托盘基座(100)呈圆盘状,所述托盘基座(100)底部设有多个圆周阵列的气流槽,其特征在于,所述托盘基座(100)底部还设有一进气槽(101),多个所述气流槽通过一所述进气槽(101)连通,所述气流槽包括:内槽(102),与所述进气槽(101)连通;外槽(103),与所述内槽(102)和所述托盘基座(100)边缘连通;所述内槽(102)深度小于所述外槽(103)深度以使得所述进气槽(101)导入的气流进入所述内槽(102)中增大动压而托起所述托盘基座(100)后,再进入所述外槽(103)中朝外释放而驱动所述托盘基座(100)旋转。2.根据权利要求1所述的一种托盘基座,其特征在于,所述托盘基座(100)上所述外槽(103)中心线和所述托盘基座(100)边缘的交点所在的径向线与所述外槽(103)中心线之间的夹角为36
‑
40
°
,所述外槽(103)中心线与所述内槽(102)中心线的夹角为148
‑
154
°
。3.根据权利要求1所述的一种托盘基座,其特征在于,所述气流槽为3
‑
10个。4.根据权利要求1所述的一种托盘基座,其特征在于,所述内槽(102)的槽宽为朝向所述托盘基座(100)边缘变大,所述内槽(102)两侧壁所在平面的夹角为18
‑
20
°
。5.根据权利要求1所述的一种托盘基座,其特征在于,所述外槽(103)的槽宽为朝向所述托盘基座(100)边缘变大,所述外槽(103)两侧壁所在平面的夹角为5
‑8°
。6.根据权利要求1所述的一种托盘基座,其特征在于,所述外槽(103)深度为朝向所述托盘基座(100)边缘变小,所述外槽(103)槽底与水平面夹角为0.7
‑
0.8
°
。7.一种气流驱动装置,用于承托托盘并驱动所述托盘浮起旋转以进行外延生长,所述气流驱动装置包括:托盘基座(100),用于承托所述托盘;气流导出底座(200),通过转轴(203)与所述托盘基座(100)间隙连接,用于朝所述托盘基座(100)送入气流以驱动所述托盘基座(100)浮起旋转;所述托盘基座(100)呈圆盘状,所述托盘基座(100)底部设有多个圆周阵列的气流槽,其特征在...
【专利技术属性】
技术研发人员:孔倩茵,唐卓睿,赵海英,王慧勇,刘欣,
申请(专利权)人:季华实验室,
类型:发明
国别省市:
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