一种评估石墨烯薄膜洁净度的方法技术

本发明专利技术提供了一种评估石墨烯薄膜洁净度的方法，包括通过水与石墨烯薄膜的接触角的大小来判断所述石墨烯薄膜表面的洁净度，所述洁净度是指所述石墨烯薄膜表面的洁净面积占所述石墨烯薄膜表面面积的比例。本发明专利技术一实施方式的方法，可快速、无损、大面积评估石墨烯薄膜的洁净度。的洁净度。的洁净度。

【技术实现步骤摘要】
一种评估石墨烯薄膜洁净度的方法


[0001]本专利技术涉及石墨烯薄膜，具体为一种可快速、无损、大面积评估石墨烯薄膜洁净度的方法。

技术介绍

[0002]石墨烯薄膜是一种由单层碳原子构成(体现六重对称性没有用处)的准二维材料。石墨烯在电学、光学、热学以及力学等方面表现出的优良性质，引起了物理、化学、生物和材料等领域的广泛关注。化学气相沉积方法制备的超洁净石墨烯薄膜可避免大量本征污染物的形成，具有优异的综合性质和广阔的应用前景。
[0003]然而，目前大面积石墨烯薄膜表面洁净度的评估方法非常有限，包括蒸镀、熏蒸和TEM表征等方法。蒸镀和熏蒸表征石墨烯薄膜表面洁净度时，处理工艺复杂，而且会对石墨烯薄膜造成不可逆的损害，使其无法回收再利用。TEM表征需要将石墨烯薄膜转移到合适的基底上，单次表征面积小，成本高。
[0004]基于现有表征石墨烯薄膜表面洁净度方法的局限性，发展一种快速无损大面积的石墨烯薄膜洁净度的评估方法对于降低研发成本，加快CVD石墨烯薄膜产业化进程都尤为重要。

技术实现思路

[0005]本专利技术的一个主本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种评估石墨烯薄膜洁净度的方法，包括通过水与石墨烯薄膜的接触角的大小来判断所述石墨烯薄膜表面的洁净度，所述洁净度是指所述石墨烯薄膜表面的洁净面积占所述石墨烯薄膜表面面积的比例。2.根据权利要求1所述的方法，包括如下步骤：分别制备已知洁净度的石墨烯薄膜和待测石墨烯薄膜；所述已知洁净度的石墨烯薄膜的洁净度为m，分别对所述已知洁净度的石墨烯薄膜与水滴的接触角θ
m
、所述待测石墨烯薄膜与水滴的接触角θ
x
进行测量，若θ
x
＜θ
m
，则所述待测石墨烯薄膜的洁净度大于m；若θ
m
＜θ
x
，则所述待测石墨烯薄膜的洁净度小于m；若θ
x
＝θ
m
，则所述待测石墨烯薄膜洁净度为m。3.根据权利要求2所述的方法，其中，所述待测石墨烯薄膜或所述已知洁净度的石墨烯薄膜与水滴的接触角的测定方法包括：(1)将水设置于石墨烯薄膜的表面，形成水滴；(2)读取所述水滴与所述石墨烯薄膜表面的接触角；(3)除去所述石墨烯薄膜表面的水分。4.根...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘忠范，彭海琳，张月新，张金灿，陈恒，李广亮，张孟奇，
申请(专利权)人：北京大学，
类型：发明
国别省市：