一种电子元器件制造用清洗装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种电子元器件制造用清洗装置，涉及清洗装置技术领域，其技术方案要点是包括清洗箱，清洗箱的顶部为开口结构，清洗箱底部的一侧固定安装有出料管，出料管上设有密封套，且清洗箱的底部为倾斜结构，清洗箱的底部靠近出料管所在的一侧位置最低，效果是通过设置转轴，转轴的外围包裹有刷毛，将需要清洗的零件放置在相邻两个转轴之间，驱动转轴转动，利用转轴上的刷毛对零件进行清洗，由于不同零件的大小不同，清洗一段时间以后，调节两个转轴之间的间距逐渐变大，位于两个转轴之间的零件慢慢落下，最终位于两个转轴之间的零件全部清洗干净并落下，这样的清洗方式可以使得零件全部清洗干净。使得零件全部清洗干净。使得零件全部清洗干净。

【技术实现步骤摘要】
一种电子元器件制造用清洗装置


[0001]本技术涉及清洗装置
，更具体地说，它涉及一种电子元器件制造用清洗装置。

技术介绍

[0002]电子元器件是电子元件和电小型的机器、仪器的组成部分，大部分电子元器件在制造过程中会产生粉尘，需要对粉尘进行清洗。
[0003]现有的电子元器件制造用清洗方式基本都是直接用水进行冲洗，或采用筐式清洗，其清洗效果较差，故需要对清洗装置进行改进。

技术实现思路

[0004]针对现有技术存在的不足，本技术的目的在于提供一种清洗效果好的电子元器件制造用清洗装置。
[0005]为实现上述目的，本技术提供了如下技术方案：一种电子元器件制造用清洗装置，包括清洗箱，清洗箱的顶部为开口结构，清洗箱底部的一侧固定安装有出料管，出料管上设有密封套，且清洗箱的底部为倾斜结构，清洗箱的底部靠近出料管所在的一侧位置最低，清洗箱的内腔活动连接有等间距分布的对电子元器件进行清洗的清洗件；
[0006]清洗件包括两个转轴，转轴的外围包裹有刷毛，且相邻两个转轴之间转动的方向相反，清洗箱上设有驱动转轴转动的动本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种电子元器件制造用清洗装置，其特征是：包括清洗箱(10)，清洗箱(10)的顶部为开口结构，清洗箱(10)底部的一侧固定安装有出料管(8)，出料管(8)上设有密封套，且清洗箱(10)的底部为倾斜结构，清洗箱(10)的底部靠近出料管(8)所在的一侧位置最低，清洗箱(10)的内腔活动连接有等间距分布的对电子元器件进行清洗的清洗件；清洗件包括两个转轴(19)，转轴(19)的外围包裹有刷毛，且相邻两个转轴(19)之间转动的方向相反，清洗箱(10)上设有驱动转轴(19)转动的动力源，清洗箱(10)的内部还设有调节相邻两个转轴(19)之间间距进行调节的第一驱动件。2.根据权利要求1所述的一种电子元器件制造用清洗装置，其特征是：清洗箱(10)的顶部设有存储箱(1)，存储箱(1)的底部固定安装有等间距分布的出料口(3)，出料口(3)底部的中心位于相邻两个转轴(19)中心的正上方，存储箱(1)的外围设有透明观察窗(2)。3.根据权利要求1所述的一种电子元器件制造用清洗装置，其特征是：第一驱动件包括螺杆(7)，螺杆(7)与清洗箱(10)的内腔活动连接，且螺杆(7)位于清洗箱(10)内腔的一侧，每个转轴(19)靠近螺杆(7)所在的一侧活动连接有滑块(11)，滑块(11)与螺杆(7)螺纹连接，且螺杆(7)上位于相邻两个滑块(11)内部的螺纹的旋转方向相反，清洗箱(10)的内部设有驱动螺杆(7)进行转动的第二驱动件。4.根据权利要求3所述的一种电子元器件制造用清洗装置，其特征是：第二驱动件包括第一齿轮(5)，第一齿轮(5)的数量为两个，其中一个第一齿轮(5)固定套接在螺杆(7)外围的边缘，另一个第一齿轮(5)位于螺杆(7)上第一齿轮(5)的正上方，位于螺杆(7)上方第一齿轮(5)位于清洗箱(10)内腔的顶部，且两个第一齿轮(5)之间通过第一齿形带(6)传动连接，位于清洗箱(10)内腔顶部的第一齿轮(5)靠近清洗箱(10)内腔侧壁的一端通过第一滚轴与清洗箱(10)的内腔活动连接，清洗箱(10)的外侧固定安装有第一电机(4)，第一电机(4)的输出轴与第一滚轴固定连接。5.根据权利要求3所述的一种电子元器件制造用清洗装置，其特征是：动力源...

【专利技术属性】
技术研发人员：董加银，
申请(专利权)人：淮安永捷电子科技有限公司，
类型：新型
国别省市：