用于光刻制造双侧触摸传感器的方法技术

通过在基材中包括UV阻隔剂材料或在基材上沉积UV阻隔层来制造在基材的两个表面上均具有导电电路的触摸传感器。这可被用于制造具有透明导体电路或具有对可见光是不透明的金属电路的传感器。将光刻胶施加到基材的两个表面上，并且通过暴露于UV辐射将图案转移至该光刻胶。UV阻隔层防止被施加到一侧的UV辐射暴露于另一侧。如果需要，可以通过分开一个UV束同时曝光两个光刻胶层。时曝光两个光刻胶层。时曝光两个光刻胶层。

【技术实现步骤摘要】
用于光刻制造双侧触摸传感器的方法


[0001]本公开的实施例主要涉及启用触摸屏的系统。更具体地，本公开的实施例涉及具有导电微网的触摸传感器。

技术介绍

[0002]启用触摸屏的系统使用户能够通过手指触摸或屏幕上的触控笔来控制该系统的各个方面。用户可以通过由触摸传感器感测到的触摸或触控笔与在显示装置上描绘的一个或多个对象直接交互。触摸传感器通常包括导电图案，该导电图案被设置在被配置为感测触摸的基材上。触摸屏通常用在消费者系统、商业系统和工业系统中。
[0003]对于需要精确地对准透明基材的两侧上的电路的触摸屏应用，可以使用双侧光刻法同时以光刻的方法刻画电路图案。但是，考虑到基材和某些导体材料(如同铟锡氧化物(ITO))的光学透明性，通常不可能考虑到用于使该材料的一侧曝光的光也将使另一侧曝光。代替仅在基材的一侧上出现独特图案，相同的图案也将出现在相反侧上。
[0004]解决此问题的一种方法是使用两个单独的基材，暴露出各个基材上的独特的图案，对准这两个图案化的基材，然后将利用光学透明的粘合剂层将这些基材连结起来。这种方法的几个缺点是附加基材的成本、第二基材和粘合剂层的附加厚度以及维持各个基材上的图案之间的精确对准的难度。
[0005]已经提出了通过选择特定的基材和感光材料以及并不重叠的曝光波长来使用单个基材的替代方法。例如，选择不透射低于375nm的光的基材材料，选择对365nm敏感的光敏材料，并使用发出365nm并过滤掉超过370nm的所有波长的光源。在这种情况下，该基材对于经过滤的光源是不透明的，并且光将不会到达相反表面。光敏材料将对经过滤的光源波长作出响应。可以将独特的图案同时施加于基材的每一侧。这种方法的主要缺点是，诸如COP(环烯烃聚合物)和PET(聚对苯二甲酸乙二醇酯)之类的用于触摸传感器应用的许多理想的基材将透射低至315nm的光。存在响应于低于315nm的波长的光敏材料，但是它们以其他特性(例如对其他化学处理的抵抗性、对基材的粘附性和机械强度)为代价。曝光光源也可在315nm以下是可用的，但是它们往往很昂贵，并且对来自曝光光源的光进行安排所需的光学元件也变得昂贵和专业化。

技术实现思路

[0006]下面给出对于一个或多个方面的简化概述，以便提供对这些方面的基本理解。该概述并不是所有预期方面的详尽概述，并且既不旨在标识所有方面的关键或至关重要的元件，也不旨在描绘任何或所有方面的范围。其唯一目的是以简化形式将一个或多个方面的一些概念呈现为被稍后呈现的更为详细描述的序言。
[0007]本文公开了一种用于制造在基材的两侧上具有低可见性导电电路的触摸传感器的方法。该方法为需要在透明基材的两侧上的电路的触摸屏应用提供了解决方案。在一些实施例中，将紫外线(UV)吸收层施加到透明基材的一个表面上。然后将光敏材料在一侧上
施加到UV吸收层上，并在相反侧上直接施加在基材表面上。可以调节UV吸收层以阻止UV频率激活该光刻胶。
[0008]在本公开的一方面，提供了一种制造在基材的两侧上具有导电电路的触摸传感器的方法。该方法包括：将UV阻隔层施加到触摸传感器的透明基材的第一表面；在UV阻隔层上施加第一光刻胶层并在透明基材的第二表面上施加第二光刻胶层；将第一光刻胶层和第二光刻胶层图案化以生成第一图案化层和第二图案化层；以及在第一图案化层和第二图案化层上形成导电线。在一种实施例中，可以在施加第一光刻胶层和第二光刻胶层之前，在UV阻隔层、第二表面或两者上施加隔离光刻胶层。在实施例中，形成导电线可以包括沉积透明的导电线，例如铟锡氧化物(ITO)或锑锡氧化物(ATO)。在实施例中，第一光刻胶层和第二光刻胶层可以包含催化光刻胶组合物。在实施例中，形成导电线可以包括在第一图案化层和第二图案化层上镀覆金属层，其中，金属层由在可见光谱中是不透明的金属材料制成。在实施例中，该方法可以进一步包括在金属层上施加金属钝化层。
[0009]在本公开的一方面，公开了一种具有导电微网的触摸传感器。触摸传感器包括透明基材、被沉积在透明基材的第一表面上的UV阻隔层。而且，可选择地，可以在UV阻隔层上形成第一光刻胶图案层，并且可以在透明基材的第二表面上形成第二光刻胶层。触摸传感器还包括导电图案。在实施例中，光刻胶隔离层可被形成在光刻胶层下方的UV阻隔层上或基材的相反表面上。在实施例中，光刻胶层可以是催化光刻胶组合物。在实施例中，导电图案可以包括铟锡氧化物(ITO)或锑锡氧化物(ATO)线。在实施例中，导电图案可以包括诸如铜或铜合金之类的金属。触摸传感器还包括位于金属上的金属钝化层。
[0010]为了实现前述和相关目的，一个或多个方面包括在下文中被充分描述并且在权利要求中特别指出的特征。以下描述和附图详细阐述了一个或多个方面的某些说明性特征。然而，这些特征仅指示可以采用各个方面的原理的多种方式中的几种，并且该描述旨在包括所有这些方面及其等效方案。
附图说明
[0011]在所附视图的图中以示例而非限制的方式示出了本公开的实施例，在附图中，相似的附图标记指示相似的元件。
[0012]图1是示出了根据一些实施例的触摸屏的截面的框图。
[0013]图2A
‑
图2F是示出了根据一些实施例的触摸传感器的截面图的示例的框图。
[0014]图3是示出了根据一些实施例的在光刻处理和化学镀之后的触摸传感器的截面图的示例的框图。
[0015]图4是示出了根据一些实施例的在光刻处理和化学镀之后的触摸传感器的截面图的示例的框图。
[0016]图5是示出了根据一些实施例的具有隔离(standoff)光刻胶层的触摸传感器的截面图的示例的框图。
[0017]图6是示出了根据一些实施例的制造触摸传感器的方法的示例的流程图。
[0018]图7是示出了根据一些实施例的触摸传感器的卷对卷制造的示意图。
具体实施方式
[0019]将参考下面讨论的细节来描述本公开的多个实施例和方面，并且附图将示出多种实施例。以下描述和附图是对本公开的说明并且不应被解释为限制本公开。描述了许多具体细节以提供对本公开的多个实施例的透彻理解。然而，在某些情况下，为了提供对本公开的实施例的简要讨论，不描述众所周知的或常规的细节。
[0020]在本专利说明书中对“一个实施例”或“一种实施例”的引用是指结合该实施例描述的具体特征、结构或特性可被包括在本公开的至少一个实施例中。本专利说明书中的各个地方出现的短语“在一个实施例中”并不必然全都指的是同一实施例。
[0021]现在将参考附图描述本专利技术的触摸传感器的实施例。不同的实施例或其组合可被用于不同的应用或获得不同的利益。根据力求实现的结果，可以单独地或与其他特征组合地、部分地或最大程度地利用本文中公开的不同特征，从而在优点与要求和约束之间取得平衡。因此，将参考不同的实施例强调某些益处，但是并不限于所公开的实施例。即，本文公开的特征不限于在其中描述它们的实施例，而是可以与其他特征“混合和匹配”并被结合在其他实施例中。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种制造具有导电线的触摸传感器的方法，包括：将紫外线阻隔层施加到透明基材的第一表面上，所述紫外线阻隔层对于紫外线辐射是不透明的；在所述紫外线阻隔层上施加第一光刻胶层；在所述透明基材的第二表面上施加第二光刻胶层；使用紫外线辐射对所述第一光刻胶层和所述第二光刻胶层进行光图案化；显影所述第一光刻胶层和所述第二光刻胶层；根据由所述第一光刻胶层形成的图案在所述第一表面上形成第一金属电路；以及，根据由所述第二光刻胶层形成的图案在所述第二表面上形成第二金属电路。2.如权利要求1所述的方法，其中，所述紫外线阻隔层被形成为在电磁光谱的315纳米至400纳米的区域中是不透明的。3.如权利要求2所述的方法，其中，所述紫外线阻隔层通过在聚合物粘合剂溶剂组合物中混合以下中的至少一种来形成：2,2亚甲基双[6
‑
(2H
‑
苯并三唑
‑2‑
基
‑
4(1,1,3,3
‑
四甲基丁基)苯酚],2,2
’‑
对亚苯基双
‑
4H
‑
3,1
‑
苯并噁嗪
‑4‑
酮；和2
‑
(4,6
‑
双
‑
(2,4
‑
二甲基苯基)
‑
1,3,5
‑
三嗪
‑2‑
基)5
‑
(辛氧基)
‑
苯酚。4.如权利要求3所述的方法，其中，所述聚合物粘合剂溶剂组合物是丙烯酸、环氧树脂、尿烷或酯官能材料中的一种。5.如权利要求4所述的方法，其中，所述混合包括混合重量百分比为0.01％至4％的紫外线阻隔材料。6.如权利要求4所述的方法，其中，所述混合包括混合20％至25％的固体聚合物和3％至4％的紫外线吸收剂材料。7.如权利要求1所述的方法，其中，所述第一金属电路和所述第二金属电路由透明导体材料形成。8.如权利要求1所述的方法，其中，所述第一金属电路和所述第二金属电路由在可见光谱中是不透明的金属导体材料形成。9.如权利要求8所述的方法，其中，所述第一光刻胶层和所述第二光刻胶层包括催化光刻胶，所述催化光刻胶具有被混合在光刻胶材料中的催化纳米颗粒。10.如权利要求9所述的方法，其中，所述方法还包括在施加所述第二光刻胶层之前，在所述透明基材的所述第二表面上形成隔离光刻胶层。11.如权利要求9所述的方法，其中，所述方法还包括在施加所述第一光刻胶层之前，在所述紫外线阻隔层上形成隔离光刻胶层。12.如权利要求1所述的方法，其中，光图案化包括同时将所述第一光刻胶层和所述第二光刻胶层暴露于紫外线辐射。13.如权利要求1所述的方法，其中，所述紫外线阻隔层被形成为在干燥后具有至少5微米的厚度。14.一种制造具有导电线的触摸传感器的方法，包括：通过将紫外线阻隔材料混合到透明基材材料中来形成透明基材，所述紫外线阻隔层对于紫外线辐射是不透明的；在所述透明基材的第一表面上施加第一光刻胶层；
在所述透明基材的第二表面上施加第二光刻胶层；使用紫外线辐射对所述第一光刻胶层和所述第二光刻胶层进行光图案化；显影所述第一光刻胶层和所述第二光刻胶层；根据由所述第一光刻胶层形成的图案在所述第一表面上形成...

【专利技术属性】
技术研发人员：R，
申请(专利权)人：未来科技基金有限责任公司，
类型：发明
国别省市：