制造具有低可见性导电微网格的触摸传感器的方法技术

技术编号:29027279 阅读:19 留言:0更新日期:2021-06-26 05:29
通过用钝化涂层包封金属线并在图案化的光刻胶中包括非反射纳米颗粒来减少或防止来自金属网格触摸传感器的光反射。将光刻胶与催化纳米颗粒混合,其中,形成纳米颗粒以最小化光反射。纳米颗粒可以是涂覆碳的金属颗粒或无涂覆的钯纳米颗粒。此外,在基板和光刻胶组合物之间可以包括隔离光刻胶层,以防止来自金属线的边缘的反射。线的边缘的反射。线的边缘的反射。

【技术实现步骤摘要】
制造具有低可见性导电微网格的触摸传感器的方法
[0001]相关申请
[0002]本申请要求2019年11月11日提交的美国临时申请62/933576号的优先权权益,该申请的全部公开内容通过引用并入本申请。


[0003]本公开的实施例总体上涉及启用触摸屏幕的系统。更具体地,本公开的实施例涉及具有金属微网格的触摸传感器。

技术介绍

[0004]启用触摸屏幕的系统允许用户通过在屏幕上的触摸或触笔来控制系统的各个方面。用户可以通过由触摸传感器所感测到的触摸或触笔来与显示设备上所描述的一个或多个对象进行直接交互。触摸传感器通常包括设置在基板上的导电图案,所述导电图案被配置为感测触摸。触摸屏幕通常用于消费者、商业和工业系统。
[0005]触摸屏幕的导电图案传统上由诸如氧化铟锡(ITO)的透明导电材料制成。然而,随着多点触摸屏幕系统和大型显示器的出现,具有高度导电的微网格系统(例如,使用铜细线的导电微网格系统)是有利的。铜是比ITO好得多的导体。然而,对于包括导电网格触摸传感器的高度导电微网格系统存在许多挑战。例如,导电网格触摸传感器的一个大挑战是对终端用户的眼睛的可见性。在某些角度,特别是在强光下或户外,导电网格触摸传感器的导电线可能是高度反射的并且分散终端用户的注意力。
[0006]具体地,存在可能由触摸传感器的导电线引起的两个反射源。首先,射到上部导电网格的顶部的光被朝向用户反射回来,使得线可见。其次,射到下部导电网格的底部的光也可以朝向用户反射,使得下部导电网格的导电线可见。需要减少或者优选地消除这两种反射。

技术实现思路

[0007]以下呈现了一个或多个方面的简化概述,以提供对这些方面的基本理解。该概述不是对所有预期方面的广泛综述,并且既不旨在识别所有方面的关键或重要的元素,也不旨在描绘任何或所有方面的范围。其唯一目的是以简化形式呈现一个或多个方面的一些构想,作为稍后呈现的更详细的描述的序言。
[0008]本文公开了用于制造具有低可见性导电微网格的触摸传感器的方法。该方法通过将基板两侧上的导电线包封在低反射率材料中来对偏角观察者反射率问题提供解决方案。线具有低反射率材料的涂层以减少或防止射到线的顶部的光的反射。这些线还具有处于线的下侧之下的阻挡材料,以减少或阻挡来自线的底部的光反射。
[0009]在所公开的方面中,催化纳米颗粒(例如,涂覆碳的纳米颗粒)可以分散到光刻胶中以具有光刻胶组合物。随后可以将光刻胶组合物施加到光透明的基板。随后可以对涂覆碳的纳米颗粒光刻胶组合物进行曝光、显影和蚀刻。然后,可以镀覆高度导电材料(例如,
铜)。接下来,可以施加金属钝化层或保护涂层(例如,深色钯)。以此方式,触摸传感器可以具有微网格图案,该微网格图案具有低的光反射率和可见性。
[0010]在本公开的一方面中,提供了制造具有导电微网格的触摸传感器的方法。该方法包括将催化纳米颗粒分散到光刻胶中以具有催化光刻胶组合物。该方法还包括将包括光刻胶和催化纳米颗粒的催化光刻胶组合物施加到触摸传感器的透明的基板上。该方法包括将催化光刻胶组合物光图案化以具有催化光刻胶图案层。该方法包括在催化光刻胶图案层上镀覆金属层。该方法还包括在金属层之上施加金属钝化层。
[0011]在本公开的一方面中,公开了具有导电微网格的触摸传感器。该触摸传感器包括透明基板和催化光刻胶组合物的催化光刻胶图案层,该催化光刻胶组合物包括光刻胶和催化纳米颗粒。该触摸传感器还包括在催化光刻胶图案层上的具有导电图案的金属导电层。该触摸传感器还包括在金属层之上的金属钝化层。
[0012]在本公开的其他方面中,提供了具有带有低可见性导电微网格的触摸传感器的触摸屏幕。触摸屏幕包括显示层(例如,LCD、OLED等)、用光透明粘合剂粘附到显示层的触摸传感器、以及在触摸屏幕之上的盖玻璃。该触摸传感器包括透明基板和催化光刻胶组合物的催化光刻胶图案层,该催化光刻胶组合物包括光刻胶和催化纳米颗粒。该触摸传感器还包括在催化光刻胶图案层上的具有导电图案的金属导电层。该触摸传感器还包括在金属层之上的金属钝化层。
[0013]为了实现前述和相关目的,一个或多个方面包括下文充分描述且在权利要求中特别指出的特征。以下描述和附图详细阐述了一个或多个方面的某些说明性特征。然而,这些特征仅指示其中可以采用各个方面的原理的各种方式中的一些方式,并且本描述旨在包括所有这些方面及其等效物。
附图说明
[0014]在附图的图中,通过示例而非限制的方式示出了本公开的实施例,在附图中,相似的附图标记指示类似的元件。
[0015]图1是示出根据一些实施例的触摸屏幕的横截面的框图。
[0016]图2A和图2B是示出根据一些实施例的触摸传感器的横截面图的示例的框图。
[0017]图3A和图3B是示出根据一些实施例的触摸传感器的横截面图的示例的框图。
[0018]图4A和图4B是示出根据一些实施例的触摸传感器的横截面图的示例的框图。
[0019]图5A

图5C是示出根据一些实施例的在光刻处理和无电镀覆之后的触摸传感器的横截面图的示例的框图。
[0020]图6是示出根据一些实施例的制造导电网格触摸传感器的方法的框图。
具体实施方式
[0021]将参考以下讨论的细节来描述本公开的各种实施例和方面,并且附图将示出各种实施例。以下描述和附图是本公开的说明,而不应被解释为限制本公开。描述了许多具体细节以提供对本公开的各种实施例的透彻理解。然而,在某些实例中,为了提供对本公开的实施例的简明讨论,没有描述公知或常规的细节。
[0022]说明书中对“一个实施例”或“实施例”的引用意味着结合该实施例描述的特定特
征、结构或特性可以被包括在本公开的至少一个实施例中。在说明书中的各个地方出现的短语“在一个实施例中”不必都指同一实施例。
[0023]现在将参考附图描述专利技术性的金属网格触摸传感器的实施例。不同的实施例或其组合可以用于不同的应用或实现不同的益处。取决于寻求实现的结果,本文公开的不同特征可以单独或与其它特征组合而被部分或完全利用,从而平衡优点与要求和约束。因此,将参考不同的实施例(但并不限于所公开的实施例)突出某些益处。也就是说,本文公开的特征不限于在其中描述它们的实施例,而是可以与其它特征“混合和匹配”并且并入其它实施例中。
[0024]图1示出了可以实施根据本公开的实施例的触摸传感器的触摸屏幕100的横截面。触摸屏幕100包括显示设备110(例如LCD、OLED等)和覆在显示设备110的可视区域的至少一部分上的触摸传感器130。在某些实施例中,光透明粘合剂(“OCA”)或树脂140可以将触摸传感器130的底侧接合到显示设备110的顶侧或面向用户侧。在其他实施例中,隔离层或空气间隙140可以将触摸传感器130的底侧与显示设备110的顶侧或面向用户侧分开。透明盖透镜150可以覆在触摸传感器130的顶侧或面向用户侧上。透明盖透镜150可以由聚酯、玻璃或适合用作盖本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种制造具有导电微网格的触摸传感器的方法,包括:将涂覆碳的金属纳米颗粒或钯纳米颗粒中的一个分散到光刻胶中,以形成催化光刻胶组合物;将所述催化光刻胶组合物施加到所述触摸传感器的透明基板上;光图案化所述催化光刻胶组合物,以具有催化光刻胶图案层;将金属层镀覆在所述催化光刻胶图案层上;以及将金属钝化层施加在所述金属层之上。2.根据权利要求1所述的方法,包括将涂覆碳的金属纳米颗粒或钯纳米颗粒中的所述一个分散,以在光刻胶组合物中形成按重量在5%与70%之间的范围内的催化剂组分含量,所述光刻胶组合物形成按重量在30%与95%之间的范围内的光刻胶组分含量。3.根据权利要求2所述的方法,其中,所述催化光刻胶组合物包括按重量在50%与70%之间的范围内的负光刻胶组分含量和按重量在30%与50%之间的范围内的催化剂组分含量。4.根据权利要求1所述的方法,其中,涂覆碳的金属纳米颗粒或钯纳米颗粒中的所述一个具有15纳米到30纳米之间的尺寸。5.根据权利要求1所述的方法,还包括将光刻胶隔离层施加在所述催化光刻胶组合物与所述透明基板之间。6.根据权利要求1所述的方法,还包括将所述催化光刻胶组合物施加到所述基板的两侧。7.根据权利要求1所述的方法,其中,所述催化纳米颗粒包括涂覆碳的银纳米颗粒。8.根据权利要求1所述的方法,其中,所述催化纳米颗粒包括涂覆碳的氧化铜纳米颗粒。9.根据权利要求1所述的方法,其中,所述催化纳米颗粒包括无涂覆的钯纳米颗粒。10.根据权利要求1所述的方法,其中,所述金属层包括铜。11.根据权利要求1所述的方法,其中,所述金属钝化层包括钯。12.一种导电网格触摸传感器,包括:透明基板;催化光刻胶组合物的催化光刻胶图案层,所述催化光刻胶组合物包括光刻胶和选自涂覆碳的金属纳米颗粒或钯纳米颗粒的...

【专利技术属性】
技术研发人员:R
申请(专利权)人:未来科技基金有限责任公司
类型:发明
国别省市:

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