一种真空镀膜机的通用型镀锅制造技术

技术编号:31728008 阅读:25 留言:0更新日期:2022-01-05 15:55
本申请提供真空镀膜机的通用型镀锅,所述通用型镀锅位于真空镀膜机的腔室的顶部,所述通用型镀锅包括镀锅主体、设置在镀锅主体上的第一通孔和托环,镀锅主体为伞面形状,镀锅主体在第一通孔的边沿位置具有第一凹陷部,第一凹陷部的形状与第一通孔的形状相对应,托环为中空的结构,所述第一凹陷部上用于放置托环,第一通孔有三个且均匀分布在镀锅主体上,第一通孔为12寸,托环有多个,托环具有多种形状或/和尺寸,托环的中心处具有一个第二通孔,或者托环具有多个均匀分布的第二通孔,托环在第二通孔的边沿位置具有第二凹陷部,第二凹陷部用于放置被镀膜工件。于放置被镀膜工件。于放置被镀膜工件。

【技术实现步骤摘要】
一种真空镀膜机的通用型镀锅


[0001]本技术涉及真空蒸镀机
,更具体地,涉及一种真空镀膜机的通用型镀锅。

技术介绍

[0002]真空蒸镀机为在真空条件下,通过电流加热、电子束轰击加热和离子源轰击等方式,蒸发镀膜材料(或称膜料)并使之气化,再使气化后的粒子飞至基片表面而凝结,最后形成薄膜。真空蒸镀具有成膜方法简单、薄膜纯度和致密性高、膜结构和性能独特等优点,因此得到广泛的应用。
[0003]在真空蒸镀的加工工艺中,在真空条件下采用坩埚气化镀膜材料,坩埚包括:蒸镀腔室、设置在蒸镀腔室内的蒸镀源,加热蒸镀源使蒸镀源蒸内的蒸镀材料经过加热发生汽化,以扇形的结构向上蒸发,坩埚上方具有用来承载被镀膜工件的伞状结构的镀锅,镀锅上固定有被镀膜工件,因此使得蒸镀材料分子沉积到被镀膜工件上形成镀膜。为了镀膜的均匀性,真空蒸镀机内的一个或多个镀锅会进行旋转,镀锅主体设置有多个的通孔,并且通孔上面放置有托环,托环为中空的薄片,被镀膜工件放置在托环上,托环的内直径需大于被镀膜工件的直径,被镀膜工件的上方再加上压盖和压条将被镀膜工件与镀锅主体固定,被镀膜工本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种真空镀膜机的通用型镀锅,所述通用型镀锅位于真空镀膜机的腔室的顶部,所述通用型镀锅包括镀锅主体(1)、设置在镀锅主体(1)上的第一通孔(2)和托环(3),镀锅主体(1)为伞面形状,镀锅主体(1)在第一通孔(2)的边沿位置具有第一凹陷部(11),第一凹陷部(11)的形状与第一通孔(2)的形状相对应,托环(3)为中空的结构,所述第一凹陷部(11)上用于放置托环(3),其特征在于,第一通孔(2)有三个且均匀分布在镀锅主体(1)上,第一通孔(2)为12寸,托环(3)有多个,托环(3)具有多种形状或/和尺寸,托环(3)的中心处具有一个第二通孔(31),或者托环(3)具有多个均匀分布的第二通孔(31),托环(3)在第二通孔(31)的边沿位置具有第二凹陷部(32),第二凹陷部(32)用于放置被镀膜工件。2.如权利要求1所述的真空镀膜机的通用型镀锅,其特征在于,被镀膜工件的形状与第一通孔(2)和第二通孔(31)的形状相同,托环(3)的形状与被镀膜工件的形状相对应。3.如权利要求2所述的真空镀膜机的通用型镀锅,其特征在于,所述第一通孔(2)和第二通孔(31)的形状为圆形,则托环(3)为圆环形,所述第一通孔(2)和第二通孔(31)的形状为正方形,则托环(3)为中空的正方形,中空的形状也为正方形。4.如权利要求3所述的真空镀膜机的通用型镀锅,其特征在于,所述第一凹陷部(11)和第二凹陷部(32)的形状与托环(3)的形状相同。5.如权利要求1所述的真空镀...

【专利技术属性】
技术研发人员:薛蒙晓
申请(专利权)人:苏州佑伦真空设备科技有限公司
类型:新型
国别省市:

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