一种全自动硅片表面高效刷洗清洁装置及操作方法制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种全自动硅片表面高效刷洗清洁装置及操作方法，包括外壳，所述外壳的内部开设有空腔，所述空腔的中部设置有用于放置硅片进行清洗的支撑机构，所述支撑机构的上下两侧均固定安装有储水箱，所述支撑机构一侧设置有导向板，所述导向板的下方设置有回收机构，所述回收机构的一侧外壳的内壁上设置有用于冷却硅片的降温机构，通过第二转轴运转带动不完全齿轮转动，使得移动板在第二滑槽内往复限位滑动，喷头在固定销的作用下发生转动，通过喷头的喷气端摆动均匀的将冷气喷射到烘干后的硅片上，不仅加快硅片的降温速度，同时还均匀喷射冷气将降低硅片受热不均匀导致损坏的概率。的概率。的概率。

【技术实现步骤摘要】
一种全自动硅片表面高效刷洗清洁装置及操作方法


[0001]本专利技术涉及硅片清洗
，具体为一种全自动硅片表面高效刷洗清洁装置及操作方法。

技术介绍

[0002]硅片在切割完成后需要经过脱胶、清洗；硅片在清洗机内清洗过后还有通过热风进行烘干；目前硅片清洗机烘干出来的硅片温度在60
‑
70摄氏度，温度过高会影响分选机对硅片的检测准确性。
[0003]传统的解决方案是通过放置一段时间待硅片温度降低到30摄氏度左右的时候，再上分选机进行分选；这样就造成了加工时间的延长，影响了生产效率，通过固定的喷头对硅片吹冷气不能有效的对硅片进行降温，同时，传统的硅片清洗方式，不能有效的对硅片的两面进行同时清洗，造成了硅片清洗效率较低的情况。

技术实现思路

[0004]本方案解决的技术问题为：
[0005](1)如何通过设置降温机构，通过驱动电机运转，使得移动板发生往复移动，使得喷头发生往复摆动，从而方便冷气均匀的对硅片进行降温散热；
[0006](2)如何通过设置支撑机构，通过第一喷射管与第二喷射管相互本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种全自动硅片表面高效刷洗清洁装置，包括外壳(1)，其特征在于：所述外壳(1)的内部开设有空腔，所述空腔的中部设置有用于放置硅片进行清洗的支撑机构(13)，所述支撑机构(13)的上下两侧均固定安装有储水箱(11)，所述支撑机构(13)一侧设置有导向板(3)，所述导向板(3)的下方设置有回收机构(8)，所述回收机构(8)的一侧外壳(1)的内壁上设置有用于冷却硅片的降温机构(4)。2.根据权利要求1所述的一种全自动硅片表面高效刷洗清洁装置，其特征在于，所述降温机构(4)包括与外壳(1)内壁固定连接的制冷压缩机(401)和支撑板(403)，所述支撑板(403)的顶面开设有转动孔，所述制冷压缩机(401)的输出端连通有软管(402)，所述软管(402)的底端固定安装有喷头(404)，所述喷头(404)的顶部一侧面开设有第一滑槽，所述喷头(404)的中部通过固定销与转动孔的内壁转动连接。3.根据权利要求2所述的一种全自动硅片表面高效刷洗清洁装置，其特征在于，所述支撑板(403)的顶部固定安装有安装块(408)，所述安装块(408)的顶面开设有第二滑槽，所述第二滑槽的内部滑动连接有移动板(407)，所述移动板(407)的一端与第一滑槽活动连接，所述移动板(407)的顶面开设有转动槽，所述转动槽的两侧内壁均固定连接有若干个转动齿，所述转动槽的内部设置有第一转轴(406)。4.根据权利要求3所述的一种全自动硅片表面高效刷洗清洁装置，其特征在于，所述第一转轴(406)通过不完全齿轮(410)与若干个所述转动齿传动连接，所述第一转轴(406)的底端活动贯穿安装块(408)和支撑板(403)且通过两个锥齿轮传动连接有第二转轴(409)，所述第一转轴(406)的中部设置有限位板(405)，所述第一转轴(406)活动贯穿限位板(405)。5.根据权利要求1所述的一种全自动硅片表面高效刷洗清洁装置，其特征在于，所述回收机构(8)包括与外壳(1)内壁固定连接的回收箱(805)，所述回收箱(805)的顶部连通有进水管(801)，所述回收箱(805)的底部连通有排水管(803)，所述排水管(803)的两个输出端分别与两个储水箱(11)相互连通，所述排水管(803)的中部设置有水泵(802)，所述排水管(803)与回收箱(805)的连接处设置有过滤网(80...

【专利技术属性】
技术研发人员：戚定定，
申请(专利权)人：杭州中欣晶圆半导体股份有限公司，
类型：发明
国别省市：