一种全密闭真空溶剂清洗系统技术方案

技术编号:31708326 阅读:33 留言:0更新日期:2022-01-01 11:11
本实用新型专利技术涉及真空清洗技术领域,尤其涉及一种全密闭真空溶剂清洗系统,包括铰接有炉盖的清洗炉,清洗炉内设置有清洗机构,清洗机构下方设置有可转动的清洗盘,所述清洗盘设置有夹紧机构,夹紧机构包括设置在清洗盘两端的夹紧组件,夹紧组件包括支点转动安装在清洗盘端部的杠杆,杠杆的阻力臂内侧面贴合有防滑垫,清洗盘内部的空腔设置有伸缩组件,需要清洗的设备放置在清洗盘上,夹紧机构的伸缩组件运动,带动杠杆的阻力臂向清洗盘内侧摆动,阻力臂上的防滑垫与设备产生摩擦,两个阻力臂同时做相向或相背的摆动动作,对清洗盘上的待清洗设备进行固定,防止设备清洗时出现晃动的现象,一方面对设备进行了保护,另一方面对清洗炉也进行了保护。炉也进行了保护。炉也进行了保护。

【技术实现步骤摘要】
一种全密闭真空溶剂清洗系统


[0001]本技术涉及真空清洗
,尤其涉及一种全密闭真空溶剂清洗系统。

技术介绍

[0002]随着现在机械制造行业的不断发展,使人们对机械密封配件的加工要求和制作工艺也随之不断提高,一些精密的设备和配件需要通过密封真空的状态下,通过溶剂进行清洗,从而提高洁净度,从而对这些设备进行维护保养,提高使用寿命。
[0003]现有的密封清洗空间在清理时,设备通过转动盘悬空搁置在清洗空间内,转动盘在转动时设备容易晃动,导致设备与清洗空间产生磕碰,造成损坏。

技术实现思路

[0004]本技术的目的在于针对现有技术的不足提供一种全密闭真空溶剂清洗系统。
[0005]为实现上述目的,本技术的技术方案如下:
[0006]一种全密闭真空溶剂清洗系统,包括铰接有炉盖的清洗炉,清洗炉内设置有清洗机构,清洗机构下方设置有可转动的清洗盘,所述清洗盘设置有夹紧机构,夹紧机构包括设置在清洗盘两端的夹紧组件,夹紧组件包括支点转动安装在清洗盘端部的杠杆,杠杆的阻力臂向上延伸并且在阻力臂内侧面贴合有防滑垫,清洗盘还本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种全密闭真空溶剂清洗系统,包括铰接有炉盖的清洗炉,清洗炉内设置有清洗机构,清洗机构下方设置有可转动的清洗盘,其特征在于:所述清洗盘设置有夹紧机构,夹紧机构包括设置在清洗盘两端的夹紧组件,夹紧组件包括支点转动安装在清洗盘端部的杠杆,杠杆的阻力臂向上延伸并且在阻力臂内侧面贴合有防滑垫,清洗盘还设置有驱动杠杆的动力臂运动的伸缩组件。2.根据权利要求1所述的一种全密闭真空溶剂清洗系统,其特征在于:所述杠杆的支点通过轴杆可转动地安装在清洗盘两端,清洗盘内成型有工作腔,杠杆的动力臂端部向工作腔内延伸。3.根据权利要求2所述的一种全密闭真空溶剂清洗系统,其特征在于:所述伸缩组件包括固定安装在工作腔内的双向气缸,双向气缸的两个活塞杆...

【专利技术属性】
技术研发人员:方言卓孙国罡
申请(专利权)人:广东博思杜尔实业有限公司
类型:新型
国别省市:

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