一种高透疏水光学聚酰亚胺复合薄膜材料及制备方法技术

本发明专利技术公开了一种高透疏水光学聚酰亚胺复合薄膜材料及制备方法，该复合薄膜由三层薄膜材料复合而成，中间层为聚酰亚胺薄膜，聚酰亚胺薄膜上下两面为二氧化硅增透疏水膜。本发明专利技术得到了在可见光区域高透且表面疏水的光学用柔性聚酰亚胺复合薄膜材料。该复合薄膜在屏幕显示、光学成像、太阳能电池、高能激光系统、航空航天等领域有很大的应用前景。航空航天等领域有很大的应用前景。航空航天等领域有很大的应用前景。

【技术实现步骤摘要】
一种高透疏水光学聚酰亚胺复合薄膜材料及制备方法


[0001]本专利技术属于材料领域，具体涉及一种高透疏水光学聚酰亚胺复合薄膜材料，还涉及该材料的制备方法。

技术介绍

[0002]聚酰亚胺薄膜材料具有面密度轻、热稳定性好、强度高、抗电阻性、优异的抗化学腐蚀性，合成及成型工艺温和、改性空间大等优点被广泛的应用于航空航天、电子工业及屏幕显示等领域。
[0003]但通常芳香族聚酰亚胺材料分子间存在电荷转移络合作用(CTC)，是由分子链上重复的二酐和二胺结构单元产生的富电和缺电基团靠近时产生的电荷转移或电荷极化造成，这种相互作用对材料的光学性能有明显的影响。宏观来看在可见光区域薄膜材料透过率较低，限制了在光学领域的进一步应用。
[0004]传统聚酰亚胺材料虽然性能优越，但分子链中存在亲水性较强的基团，例如羰基(可以和水形成氢键作用)和酰亚胺环(强极性物质)。同时由于分子链聚集态的不同可能造成自由水的物理吸附，导致聚酰亚胺具有较强的吸湿特性。吸湿后在材料中形成微小的残余应力。对于光学应用级聚酰亚胺薄膜材料，这些微小的残余应力即可带来光学聚酰本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种高透疏水光学聚酰亚胺复合薄膜材料，其特征在于：所述聚酰亚胺复合薄膜材料首先由芳香族二胺和芳香二酐单体在摩尔比为1：(0.98～1.01)条件下发生缩聚反应，将形成的聚酰胺酸胶液经旋凃成膜、热亚胺化得到聚酰亚胺薄膜，然后通过提拉法将薄膜浸渍于二氧化硅溶胶中，通过紫外辐照固化，在聚酰亚胺薄膜上下两面获得二氧化硅薄膜，并经过表面疏水处理后得到。2.根据权利要求1所述高透疏水光学聚酰亚胺复合薄膜材料，其特征在于：所述的芳香二酐为3,3',4,4'
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联苯四甲酸二酐(BPDA)或均苯四甲酸二酐(PMDA)中的一种或几种混合；所述芳香二胺为4,4
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二氨基苯酰替苯胺(DABA)或4,4'
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二氨基二苯醚(ODA)中的一种或几种混合；所述二氧化硅溶胶为正硅酸乙酯(TEOS)和六甲基二硅氮烷(HMDS)与溶剂混合作为前驱体经过常温陈化数天后加入光引发剂搅拌制得。3.根据权利要求1所述高透疏水光学聚酰亚胺复合薄膜材料，其特征在于：所述提拉法的提拉速度为2cm/min～8cm/min；所述紫外辐照固化方法采用高压汞灯作为紫外光源；所述表面疏水处理采用十八烷基三氯硅烷(OTS)进行疏水处理。4.根据权利要求1所述高透疏水光学聚酰亚胺复合薄膜材料，其特征在于：复合薄膜中聚酰亚胺薄膜厚度为18～30μm，上表面增透疏水二氧化硅薄膜厚度为60～200nm，下表面增透疏水二氧化硅薄膜厚度为60～200nm；优选地，复合薄膜中聚酰亚胺薄膜厚度为25μm，上表面增透疏水二氧化硅薄膜厚度为100nm，下表面增透疏水二氧化硅薄膜厚度为100nm。5.权利要求1
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4任一项所述高透疏水光学聚酰亚胺复合薄膜材料的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：
①
在氮气保护下，将二胺单体...

【专利技术属性】
技术研发人员：殷家家，毛丹波，范斌，
申请(专利权)人：中国科学院光电技术研究所，
类型：发明
国别省市：