磁共振成像装置的梯度线圈，其包括线圈单元(20)。线圈单元设置于中央孔(31)的外侧，以在中央孔内形成沿X方向或Y方向的梯度磁场。线圈单元包括初级线圈(21)、次级线圈(23)和一组连接件(25)。初级线圈用于形成主梯度磁场。初级线圈具有数个初级串接端(211)。次级线圈设置于初级线圈的背离中央孔的一侧且用于形成与主梯度磁场方向相反的屏蔽磁场。次级线圈具有数个次级串接端(231)。各连接件连接一个初级串接端和一个次级串接端以使初级线圈和次级线圈形成串联电路。各连接件呈管状。初级串接端和次级串接端分别插设于连接件的两端。该磁共振成像装置的梯度线圈便于生产。此外还提供了磁共振成像装置。供了磁共振成像装置。供了磁共振成像装置。
【技术实现步骤摘要】
磁共振成像装置的梯度线圈及磁共振成像装置
[0001]本技术涉及一种磁共振成像装置的梯度线圈，尤其是一种便于生产的梯度线圈及包括其的磁共振成像装置。
技术介绍
[0002]梯度线圈是磁共振成像(Magnetic Resonance Imaging，MRI)装置的核心部件之一，其主要作用是在成像区域内产生一个近似线性的、可快速开关的梯度磁场。梯度线圈包括三个正交的线圈组件，通常称为X线圈组件、Y线圈组件和Z线圈组件，以分别产生沿相互正交的X方向、Y方向和Z方向的梯度磁场。各线圈组件通常由多个线圈单元组合而成，各线圈单元包括用于形成主梯度磁场的初级线圈和用于形成屏蔽磁场的次级线圈。
[0003]对于组成X线圈组件或Y线圈组件的线圈单元，为了缩短线圈长度，可以将初级线圈和次级线圈切割，然后将切割形成的多个端头就近直接通过焊接连接使初级线圈和次级线圈形成串联电路。目前，连接端头的工序较为复杂，成本较高，不便于梯度线圈的生产。
技术实现思路
[0004]本技术的目的是提供一种磁共振成像装置的梯度线圈，其便于生产。
[0005]本技术的另一个目的是提供一种磁共振成像装置，其梯度线圈便于生产。
[0006]本技术提供了一种磁共振成像装置的梯度线圈。梯度线圈形成有一个沿Z方向延伸的中央孔。梯度线圈包括一个线圈单元。线圈单元设置于中央孔的外侧，以在中央孔内形成沿X方向或Y方向的梯度磁场。X方向、Y方向和Z方向相互垂直。线圈单元包括一个初级线圈、一个次级线圈和一组连接件。初级线圈用于形成主梯度磁场。初级线圈具有数个初级串接端。次级线圈设置于初级线圈的背离中央孔的一侧且用于形成与主梯度磁场方向相反的屏蔽磁场。次级线圈具有数个次级串接端。各连接件连接一个初级串接端和一个次级串接端以使初级线圈和次级线圈形成串联电路。各连接件呈管状。通过一个连接件连接的初级串接端和次级串接端分别插设于连接件的两端。
[0007]该磁共振成像装置的梯度线圈，其中初级串接端和次级串接端分别插设于连接件的两端，以实现初级线圈和次级线圈的串联，借此使得梯度线圈便于生产，且利于提高梯度线圈的性能并利于降低虚焊的风险。
[0008]在磁共振成像装置的梯度线圈的另一种示意性实施方式中，连接件设置于梯度线圈的沿Z方向的端部。借此可给连接连接件与初级串接端和次级串接端的操作提供足够的空间。
[0009]在磁共振成像装置的梯度线圈的再一种示意性实施方式中，梯度线圈还包括一个支撑体。支撑体呈沿Z方向延伸的管状且形成中央孔。支撑体还形成有数个沿Z方向延伸的匀场槽。数个匀场槽环绕中央孔分布。初级线圈设置于匀场槽的靠近中央孔的一侧；次级线圈设置于匀场槽的远离中央孔的一侧。连接件设置于相邻的匀场槽之间。通过这样的结构可使梯度线圈的整体结构更加紧凑。
[0010]在磁共振成像装置的梯度线圈的还一种示意性实施方式中，梯度线圈还包括保持架。位于相邻的两个匀场槽之间的数个连接件连接保持架以保持绝缘距离。借此利于提高梯度线圈的整体性能的稳定性。
[0011]在磁共振成像装置的梯度线圈的还一种示意性实施方式中，支撑体为浇筑而成的浇筑体。线圈单元包埋于支撑体内。借此提高梯度线圈的稳定性。
[0012]在磁共振成像装置的梯度线圈的还一种示意性实施方式中，各连接件具有一个沿连接件的长度方向贯通的连接孔。各初级串接端包括一个初级弯折部和一个初级插入部。初级弯折部呈90度弯折状，初级插入部连接初级弯折部且用于沿长度方向插入连接孔。各次级串接端包括一个次级弯折部和一个次级插入部。次级弯折部呈90度弯折状，次级插入部连接次级弯折部且用于沿长度方向的反方向插入连接孔。该结构简单、便于生产。
[0013]在磁共振成像装置的梯度线圈的还一种示意性实施方式中，初级串接端和次级串接端通过冷压加工、焊接或铆接固定连接连接件。
[0014]在磁共振成像装置的梯度线圈的还一种示意性实施方式中，梯度线圈设置有两组线圈单元，每组四个。其中一组线圈单元用于形成沿X方向的梯度磁场，另一组线圈单元用于形成沿Y方向的梯度磁场。各组线圈单元分为沿Z方向分布的两个亚组，每亚组两个。各亚组的两个线圈单元沿其要形成的梯度磁场的方向设置于中央孔的两侧。
[0015]在磁共振成像装置的梯度线圈的还一种示意性实施方式中，梯度线圈还包括一个Z线圈组件。Z线圈组件设置于中央孔的外侧以在中央孔内形成沿Z方向的梯度磁场。
[0016]本技术还提供了一种磁共振成像装置，磁共振成像装置包括一个上述的梯度线圈。该磁共振成像装置的梯度线圈便于生产。
附图说明
[0017]以下附图仅对本技术做示意性说明和解释，并不限定本技术的范围。
[0018]图1为磁共振成像装置的梯度线圈的一种示意性实施方式的结构示意图。
[0019]图2为用于显示用于形成沿Y方向的梯度磁场的一组线圈单元的结构示意图。
[0020]图3为用于说明初级线圈和次级线圈的接线方式的示意图。
[0021]图4为线圈单元的局部剖视图。
[0022]图5为用于说明梯度线圈内部的线圈分布的结构示意图。
[0023]图6为用于说明连接件和匀场槽的位置关系的结构示意图。
[0024]标号说明
[0025]20 线圈单元
[0026]21 初级线圈
[0027]211 初级串接端
[0028]211a 初级弯折部
[0029]211b 初级插入部
[0030]23 次级线圈
[0031]231 次级串接端
[0032]231a 次级弯折部
[0033]231b 次级插入部
[0034]25 连接件
[0035]251 连接孔
[0036]30 支撑体
[0037]31 中央孔
[0038]33 匀场槽
[0039]40 保持架
[0040]51Z初级线圈
[0041]53Z次级线圈
[0042]100 梯度线圈
[0043]L 连接件的长度方向
[0044]X X方向
[0045]Y Y方向
[0046]Z Z方向
具体实施方式
[0047]为了对技术的技术特征、目的和效果有更加清楚的理解，现对照附图说明本技术的具体实施方式，在各图中相同的标号表示结构相同或结构相似但功能相同的部件。
[0048]在本文中，“示意性”表示“充当实例、例子或说明”，不应将在本文中被描述为“示意性”的任何图示、实施方式解释为一种更优选的或更具优点的技术方案。
[0049]为使图面简洁，各图中只示意性地表示出了与本技术相关的部分，它们并不代表其作为产品的实际结构。
[0050]图1为磁共振成像装置的梯度线圈的一种示意性实施方式的结构示意图，图1中X方向、Y方向和Z方向相互垂直。如图1所示，梯度线圈100包括一个支撑体30，其主要起支撑本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.磁共振成像装置的梯度线圈，所述的梯度线圈形成有一个沿Z方向延伸的中央孔(31)，所述的梯度线圈包括一个线圈单元(20)，所述线圈单元(20)设置于所述中央孔(31)的外侧，以在所述中央孔(31)内形成沿X方向或Y方向的梯度磁场，所述X方向、所述Y方向和所述Z方向相互垂直，其特征在于，所述线圈单元(20)包括：一个初级线圈(21)，其用于形成主梯度磁场，所述初级线圈(21)具有数个初级串接端(211)，一个次级线圈(23)，其设置于所述初级线圈(21)的背离所述中央孔(31)的一侧且用于形成与所述主梯度磁场方向相反的屏蔽磁场，所述次级线圈(23)具有数个次级串接端(231)，及一组连接件(25)，各所述连接件(25)连接一个所述初级串接端(211)和一个所述次级串接端(231)以使所述初级线圈(21)和所述次级线圈(23)形成串联电路；各所述连接件(25)呈管状，通过一个所述连接件(25)连接的所述初级串接端(211)和所述次级串接端(231)分别插设于所述连接件(25)的两端。2.如权利要求1所述的梯度线圈，其特征在于，所述连接件(25)设置于所述的梯度线圈的沿所述Z方向的端部。3.如权利要求2所述的梯度线圈，其特征在于，所述的梯度线圈还包括一个支撑体(30)，所述支撑体(30)呈沿所述Z方向延伸的管状且形成所述中央孔(31)，所述支撑体(30)还形成有数个沿所述Z方向延伸的匀场槽(33)，数个所述匀场槽(33)环绕所述中央孔(31)分布；所述初级线圈(21)设置于所述匀场槽(33)的靠近所述中央孔(31)的一侧，所述次级线圈(23)设置于所述匀场槽(33)的远离所述中央孔(31)的一侧；所述连接件(25)设置于相邻的所述匀场槽(33)之间。4.如权利要求3所述的梯度线圈，其特征在于，所述的梯度线圈还包括保持架(40)，位于相邻的两个所述匀场槽(33)之间的数个所述连接件...
【专利技术属性】
技术研发人员：彭卫平，
申请(专利权)人：西门子深圳磁共振有限公司，
类型：新型
国别省市：
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