硬涂膜、具备硬涂膜的物品及图像显示装置制造方法及图纸

根据本发明专利技术，提供一种具有基材和硬涂层的硬涂膜、具备上述硬涂膜的物品以及图像显示装置，该硬涂膜满足下述式(i)及(ii)。其中，E

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】硬涂膜、具备硬涂膜的物品及图像显示装置


[0001]本专利技术涉及一种硬涂膜、具备硬涂膜的物品及图像显示装置。

技术介绍

[0002]在利用了阴极射线管(CRT)的显示装置、等离子显示器(PDP)、电致发光显示器(ELD)、荧光显示器(VFD)、场发射显示器(FED)及液晶显示器(LCD)之类的图像显示装置中，为了防止显示面受损，优选在基材上设置具有硬涂层的层叠体(硬涂膜)。
[0003]例如，专利文献1中记载有一种硬涂膜，其在基材上具有由包含阳离子固化性硅酮树脂及流平剂的固化性组合物的固化物构成的硬涂层。
[0004]以往技术文献
[0005]专利文献
[0006]专利文献1：日本特开2018
‑
83915号公报

技术实现思路

[0007]专利技术要解决的技术课题
[0008]近年来，例如在智能手机等中，对超薄型柔性显示器的需求不断增加，伴随于此，对能够兼顾硬度和耐反复折弯性(即使反复折弯，也不会产生龟裂的性质)的硬涂膜的需求增加。尤其，将基材向内侧(硬涂层向外侧)折弯时，硬涂层容易产生龟裂，技术难度高。
[0009]本专利技术人等进行研究的结果，发现专利文献1中记载的硬涂膜无法兼顾硬度和耐反复折弯性。
[0010]本专利技术的课题在于提供一种硬度及耐反复折弯性优异的硬涂膜、具备上述硬涂膜的物品以及图像显示装置。
[0011]用于解决技术课题的手段
[0012]本专利技术人等深入研究的结果，发现通过下述方法能够解决上述课题。
[0013]<1>一种硬涂膜，其具有基材和硬涂层，上述硬涂膜满足下述式(i)及(ii)，
[0014](i)E
’
(0.4)HC
×
d
HC
≥8000MPa
·
μm
[0015](ii)E
’
(4)HC
×
d
HC
≤4000MPa
·
μm
[0016]其中，
[0017]E
’
(0.4)HC
是伸长率为0.4％时的硬涂层的弹性模量，
[0018]E
’
(4)HC
是伸长率为4％时的硬涂层的弹性模量，
[0019]d
HC
是硬涂层的膜厚。
[0020]<2>一种硬涂膜，其具有基材和带耐擦伤层的硬涂层，其中，
[0021]上述带耐擦伤层的硬涂层具有硬涂层及耐擦伤层，上述硬涂层存在于比上述耐擦伤层更靠近上述基材侧的位置，
[0022]上述硬涂膜满足下述式(iii)及(iv)，
[0023](iii)E
’
(0.4)RHC
×
d
RHC
≥8000MPa
·
μm
[0024](iv)E
’
(4)RHC
×
d
RHC
≤4000MPa
·
μm
[0025]其中，
[0026]E
’
(0.4)RHC
是伸长率为0.4％时的带耐擦伤层的硬涂层的弹性模量，
[0027]E
’
(4)RHC
是伸长率为4％时的带耐擦伤层的硬涂层的弹性模量，
[0028]d
RHC
是带耐擦伤层的硬涂层的膜厚。
[0029]<3>根据<1>或<2>所述的硬涂膜，其中，
[0030]上述基材满足下述式(vi)，
[0031](vi)100000MPa
·
μm≤E
’
(0.4)S
×
d
S
≤520000MPa
·
μm
[0032]其中，
[0033]E
’
(0.4)S
是伸长率为0.4％时的基材的弹性模量，
[0034]d
S
是基材的膜厚。
[0035]<4>根据<1>至<3>中任一项所述的硬涂膜，其中，
[0036]上述硬涂层包含含有聚有机硅倍半氧烷的硬涂层形成用组合物的固化物。
[0037]<5>根据<4>所述的硬涂膜，其中，
[0038]上述聚有机硅倍半氧烷含有结构单元(S1)及与上述结构单元(S1)不同的具有交联性基团的结构单元(S2)，上述结构单元(S1)具有包含能够形成氢键的氢原子的基团。
[0039]<6>根据<5>所述的硬涂膜，其中，
[0040]上述结构单元(S1)所具有的包含能够形成氢键的氢原子的基团是选自酰胺基、氨基甲酸酯基及脲基中的至少1个基团。
[0041]<7>根据<5>或<6>所述的硬涂膜，其中，
[0042]上述结构单元(S1)具有(甲基)丙烯酰氧基或(甲基)丙烯酰胺基。
[0043]<8>根据<5>至<7>中任一项所述的硬涂膜，其中，
[0044]上述结构单元(S2)所具有的交联性基团是(甲基)丙烯酰胺基。
[0045]<9>根据<5>至<8>中任一项所述的硬涂膜，其中，
[0046]上述聚有机硅倍半氧烷的重均分子量为10000～1000000。
[0047]<10>根据<1>至<9>中任一项所述的硬涂膜，其中，
[0048]上述硬涂层的膜厚为2～14μm。
[0049]<11>根据<1>至<10>中任一项所述的硬涂膜，其中，
[0050]上述基材的膜厚为15～80μm。
[0051]<12>根据<1>至<11>中任一项所述的硬涂膜，其中，
[0052]上述基材含有选自酰亚胺系聚合物及聚芳酰胺(aramid)系聚合物中的至少1种聚合物。
[0053]<13>一种物品，其具备<1>至<12&本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种硬涂膜，其具有基材和硬涂层，所述硬涂膜满足下述式(i)及(ii)，(i)E
’
(0.4)HC
×
d
HC
≥8000MPa
·
μm(ii)E
’
(4)HC
×
d
HC
≤4000MPa
·
μm其中，E
’
(0.4)HC
是伸长率为0.4％时的硬涂层的弹性模量，E
’
(4)HC
是伸长率为4％时的硬涂层的弹性模量，d
HC
是硬涂层的膜厚。2.一种硬涂膜，其具有基材和带耐擦伤层的硬涂层，其中，所述带耐擦伤层的硬涂层具有硬涂层及耐擦伤层，所述硬涂层存在于比所述耐擦伤层更靠近所述基材侧的位置，所述硬涂膜满足下述式(iii)及(iv)，(iii)E
’
(0.4)RHC
×
d
RHC
≥8000MPa
·
μm(iv)E
’
(4)RHC
×
d
RHC
≤4000MPa
·
μm其中，E
’
(0.4)RHC
是伸长率为0.4％时的带耐擦伤层的硬涂层的弹性模量，E
’
(4)RHC
是伸长率为4％时的带耐擦伤层的硬涂层的弹性模量，d
RHC
是带耐擦伤层的硬涂层的膜厚。3.根据权利要求1或2所述的硬涂膜，其中，所述基材满足下述式(vi)，(vi)100000MPa

【专利技术属性】
技术研发人员：芥川畅之，松本彩子，福岛悠太，田村显夫，北村哲，永田裕三，
申请(专利权)人：富士胶片株式会社，
类型：发明
国别省市：