一种用于硅片清洗系统的纯水加热、补给系统技术方案

本实用新型专利技术公开了一种用于硅片清洗系统的纯水加热、补给系统，自前端向后端依次包括中水换热部分、空压机换热部分和自动加热补给部分，所述中水换热部分用于完成自纯水站输出的纯水和中水之间的换热；所述空压机换热部分用于中水换热部分输出的纯水与空压机之间的换热；所述自动加热补给部分用于将空压机换热部分输出的纯水加热至目标温度，最后将目标温度纯水输出到硅片清洗系统中。本实用新型专利技术的纯水加热、补给系统是相对于硅片清洗系统独立设置的集中加热系统，具备独立的集中供水泵浦及管路系统。与原有纯水管路系统分开，加热效率显著提升，减少补水时对正常工作机台的影响，同时缩短补水时间，能够显著提升产能。能够显著提升产能。能够显著提升产能。

【技术实现步骤摘要】
一种用于硅片清洗系统的纯水加热、补给系统


[0001]本技术提供一种用于硅片清洗系统的纯水加热、补给系统。

技术介绍

[0002]当前光伏行业正处在技术快速进步，产业高速发展的轨道中，行业从原料、辅料、工艺等方面都在不断寻求技术突破，降本增效，追求产业链上各工序的低成本运营，尽早实现平价上网以及碳中和、碳达峰的远景目标；晶硅太阳能硅片生产环节，清洗工序中，为获得更好的产品品质，清洗机各槽体要求水温较高，清洗机纯水槽体清洗工艺要求水温在40
‑
100℃设定。其中9槽水温要求90
±
10℃。随着清洗刀数的增加，清洗水槽内纯水硅粉含量增加，影响出片品质，必须间隔时间进行更换新鲜纯水。目前工艺的硅片清洗系统，纯水经空压机换热后直接进入清洗系统，因空压机余热回收功率有限，车间纯水需求流量较之前升高，纯水温升只能维持15～20℃，冬季时节，因纯水原水温度较低(10℃)，经余热回收加热后最大只能提供30℃热水，实际需求的90℃以上的热纯水只能通过清洗机槽体自带电加热器加热获得，等待时间仍然较长。根据现场操作工作等待时间长达80分钟以上，导致清洗此段工序呆滞造成产能瓶颈和产品品质下降；而且，纯水供水母管路因同时供应机台纯水溢流，换水时影响其余工作机台的纯水正常溢流量，造成补水时间加长且影响清洗品质。

技术实现思路

[0003]技术目的：本技术旨在提供一种能够独立于硅片清洗系统、进而避免工序呆滞，影响产能的用于硅片清洗系统的纯水加热、补给系统。
[0004]技术方案：本技术所述的一种用于硅片清洗系统的纯水加热、补给系统，自前端向后端依次包括中水换热部分、空压机换热部分和自动加热补给部分，
[0005]所述中水为硅片清洗系统排污废水至废水站完成生化处理后排出的中水，水温在25℃以上，所述中水换热部分用于完成自纯水站输出的纯水和中水之间的换热；
[0006]所述空压机换热部分用于中水换热部分输出的纯水与空压机之间的换热；
[0007]所述自动加热补给部分用于将空压机换热部分输出的纯水加热至目标温度，最后将目标温度纯水输出到硅片清洗系统中。该套热纯水补水系统与车间原有纯水管路相独立，终端供水泵合适选型，槽体补水时间可以较之前大为缩短，且补水时对车间正常工作的清洗机溢流量不会造成影响，进而保障了清洗品质。
[0008]进一步的，所述中水换热部分包括第一纯水管路、中水管路和第一换热设备，所述纯水管路输入端与纯水站连接，所述纯水和中水分别进入第一换热设备的不同通道完成换热，所述第一纯水管路输出端与空压机换热部分连接。
[0009]进一步的，所述第一换热设备为原水加热换热设备。
[0010]进一步的，所述空压机换热部分包括第二纯水管路、空压机和第二换热设备，所述第二纯水管路的输入端与第一纯水管路的输出端连接，流入所述第二纯水管路的纯水和空压机通过第二换热设备的不同通道完成换热，所述所述第二纯水管路输出端与自动加热补
给部分连接。
[0011]进一步的，所述第二换热设备为余热回收换热设备。
[0012]进一步的，所述自动加热补给部分包括加热锅炉，所述加热锅炉将第二纯水管路输出的热水加热至目标温度。
[0013]进一步的，所述空压机换热部分和自动加热补给部分之间设有纯水箱，所述第二纯水管路的纯水输出到纯水箱，通过供水泵将纯水箱中定量的纯水输出到加热锅炉中加热至目标温度，最后将目标温度纯水输出到硅片清洗系统中。纯水中间水箱最大化保障加热系统工作效率及安全，同时增加供水的稳定性和可靠性
[0014]进一步的，中水换热部分将纯水站原水温度提升8
‑
10℃。
[0015]进一步的，空压机换热部分将中水换热部分输出的纯水温度提升15
‑
20℃。
[0016]进一步的，所述目标温度纯水先回流到所述纯水箱中，在通过终端供水泵输出到硅片清洗系统中。
[0017]有益效果：本技术所涉及的用于硅片清洗系统的纯水加热、补给系统，是相对于硅片清洗系统独立设置的集中加热系统，具备独立的集中供水泵浦及管路系统。与原有纯水管路系统分开，加热效率显著提升，减少补水时对正常工作机台的影响，同时缩短补水时间，能够显著提升产能。其次，本纯水加热、补给系统能够大幅度减少利用清洗系统的清洗槽加热的时间，减少单台清洗机加热器的维护成本；第三，由于本纯水加热、补给系统独立设置，明显减少纯水供应时对正常工作机台的溢流影响，提高清洗品质。
附图说明
[0018]图1本技术实施例所述用于硅片清洗系统的纯水加热、补给系统的结构框图。
具体实施方式
[0019]为进一步了解本技术的内容，结合附图及实施例对本技术作详细描述。
[0020]本实施例所述的一种用于硅片清洗系统的纯水加热、补给系统，如图1所示，自前端向后端依次包括中水换热系统1、空压机换热系统2、纯水箱3和自动加热补给部分，车间清洗机排污废水正常保持在30
‑
40℃，至废水站完成生化处理后的中水，冬季时节水体温度仍可达25℃以上；所述中水换热系统包括第一纯水管路、中水管路和原水加热换热设备，所述纯水管路输入端与纯水站连接，所述纯水和中水分别进入原水加热换热设备的不同通道完成换热，所述第一纯水管路输出端与空压机换热系统连接；所述空压机换热系统包括第二纯水管路、空压机和余热回收换热设备，所述第二纯水管路的输入端与第一纯水管路的输出端连接，流入所述第二纯水管路的纯水和空压机通过余热回收换热设备的不同通道完成换热，完成空压机换热系统的纯水输出到纯水箱，所述自动加热补给部分包括加热锅炉一4和加热锅炉二5，先通过锅炉供水泵6将纯水箱中的纯水输送至加热锅炉一和加热锅炉二中，所述加热锅炉一和加热锅炉二将锅炉中的纯水加热至目标温度；最后将目标温度纯水回流到纯水箱中，再通过终端供水泵7输出至硅片清洗系统，其中A为废水站中水，B为完成换热后的中水排放，C为成品水。纯水中间水箱最大化保障加热系统工作效率及安全，同时增加供水的稳定性和可靠性。
[0021]车间清洗机排污废水正常保持在30
‑
40℃，至废水站完成生化处理后的中水，冬季
时节水体温度仍可达25℃以上，我们通过加装高效换热装置提取废水站外排的中水热量与纯水站原水直接换热，可将纯水原水温度提升8
‑
10℃。中水提温后的纯水送至空压站与空压机余热回收系统换热，温度提升15
‑
20℃，二次提温后的纯水引入本系统纯水水箱，通过电加热锅炉与水箱循环加热制成90℃以上的成品水(可根据末端温度需要进行温度设定)，再通过终端供水泵浦供至车间每台清洗机。该纯水加热、补给系统极大缩短清洗机纯水换水时间，纯水换水时间由之前大于80min，可缩短至7
‑
10min，减少清洗工序的呆滞时间，提升清洗产能，且进一步保障清洗品质，减少车间人力、物力、财力的消耗。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于硅片清洗系统的纯水加热、补给系统，其特征在于，自前端向后端依次包括中水换热部分、空压机换热部分和自动加热补给部分，所述中水为硅片清洗系统排污废水至废水站完成生化处理后排出的中水，水温在25℃以上，所述中水换热部分用于完成自纯水站输出的纯水和中水之间的换热；所述空压机换热部分用于完成中水换热部分输出的纯水与空压机之间的换热；所述自动加热补给部分用于将空压机换热部分输出的纯水加热至目标温度，最后将目标温度纯水输出到硅片清洗系统中。2.根据权利要求1所述的纯水加热、补给系统，其特征在于，所述中水换热部分包括第一纯水管路、中水管路和第一换热设备，所述纯水管路输入端与纯水站连接，所述纯水和中水分别进入第一换热设备的不同通道完成换热，所述第一纯水管路输出端与空压机换热部分连接。3.根据权利要求2所述的纯水加热、补给系统，其特征在于，所述空压机换热部分包括第二纯水管路、空压机和第二换热设备，所述第二纯水管路的输入端与第一纯水管路的输出端连接，流入所述第二纯水管路的纯水和空压机通过第二换热设备的不同通道完成换热，所述第二纯水管路输出端与自...

【专利技术属性】
技术研发人员：王福寿，吴旸，
申请(专利权)人：苏州协鑫光伏科技有限公司，
类型：新型
国别省市：