本实用新型专利技术涉及一种X光机防辐射抗干扰装置，包括X光机，所述X光机的保护罩前侧设有前屏蔽帘，保护罩的后侧设有后屏蔽帘，所述X光机的保护罩前端入口处还设有第一延长保护罩，所述第一延长保护罩的入口处还设有第三屏蔽帘，所述第三屏蔽帘用于在前屏蔽帘被行李顶开时，屏蔽射向X光机外部的射线；所述X光机的保护罩后端出口处还设有第二延长保护罩，所述第二延长保护罩的出口处还设有第四屏蔽帘，所述第四屏蔽帘用于在后屏蔽帘被行李顶开时，屏蔽射向X光机外部的射线。通过采用双层屏蔽方案，可以大幅减少从X光机泄露出的X射线，从而减少X光机对周边核辐射检测仪的干扰，降低误报警的几率。率。率。
【技术实现步骤摘要】
一种X光机防辐射抗干扰装置
[0001]本技术涉及安检设备
，尤其涉及一种X光机防辐射抗干扰装置。
技术介绍
[0002]现有技术中安检查验通道上的查验设备的种类越来越丰富，比如X光机、核辐射检测仪、核定位仪(也称放射源定位仪)等设备，当这些设备应用于同一查验通道时，就能获得多种查验功能，但同时带来的不利结果是查验通道长，占用空间大，人们常常通过压缩相邻设备之间的距离来缩短查验通道的长度，并获得不错的效果。
[0003]有一种查验通道包括X光机和核辐射检测仪，当这二种查验设备在靠近时，发现核辐射检测仪经常误报警，分析原因发现虽然X光机前后两侧都设置了屏蔽帘(一般为铅帘)，但屏蔽帘被行李顶开时，仍然会泄露出少量的X射线，正是这部分泄露的X射线导致核辐射检测仪误报警，所以X光机和核辐射检测仪之间需要设置足够长的距离，才能减少或避免核辐射检测仪误报警，查验通道无法进一步缩短，有待改进。
技术实现思路
[0004]本技术的目的在于提供一种X光机防辐射抗干扰装置，可以有效降低对周边核辐射检测仪的影响，减少误报警的次数。
[0005]本技术提供的技术方案为：一种X光机防辐射抗干扰装置，包括X光机，所述X光机的保护罩前侧设有前屏蔽帘，保护罩的后侧设有后屏蔽帘，所述X光机的保护罩前端入口处还设有第一延长保护罩，所述第一延长保护罩的入口处还设有第三屏蔽帘，所述第三屏蔽帘用于在前屏蔽帘被行李顶开时，屏蔽射向X光机外部的射线；所述X光机的保护罩后端出口处还设有第二延长保护罩，所述第二延长保护罩的出口处还设有第四屏蔽帘，所述第四屏蔽帘用于在后屏蔽帘被行李顶开时，屏蔽射向X光机外部的射线。
[0006]其中，所述第一延长保护罩、第二延长保护罩和X光机的保护罩为一体成型。
[0007]其中，所述第三屏蔽帘与前屏蔽帘之间的距离至少为60CM；所述第四屏蔽帘与后屏蔽帘之间的距离至少为60CM。
[0008]其中，所述装置还包括前屏蔽帘提升机构，所述前屏蔽帘提升机构包括第一拉杆、第一横向杆、第一导向套和第一弹簧，所述第一导向套固定在第一延长保护罩的内侧顶部，所述第一拉杆滑动设置在第一导向套内，第一拉杆的外侧端伸出第一延长保护罩，第一横向杆设置在第一拉杆的内侧端，所述第一弹簧套设在第一拉杆上，两端分别与第一导向套和第一横向杆抵顶，用于第一拉杆和第一横向杆的复位，所述第一横向杆位于前屏蔽帘的顶部内侧，通过向外拉动第一拉杆带动第一横向杆外移，第一横向杆带动前屏蔽帘提升。
[0009]其中，所述装置还包括后屏蔽帘提升机构，所述后屏蔽帘提升机构包括第二拉杆、第二横向杆、第二导向套和第二弹簧，所述第二导向套固定在第二延长保护罩的内侧顶部，所述第二拉杆滑动设置在第二导向套内，第二拉杆的外侧端伸出第二延长保护罩，第二横向杆设置在第二拉杆的内侧端，所述第二弹簧套设在第二拉杆上，两端分别与第二导向套
和第二横向杆抵顶，用于第二拉杆和第二横向杆的复位，所述第二横向杆位于后屏蔽帘的顶部内侧，通过向外拉动第二拉杆带动第二横向杆外移，第二横向杆带动后屏蔽帘提升。
[0010]本技术的有益效果为：所述X光机防辐射抗干扰装置在X光机前侧设置前屏蔽帘，后侧设置后屏蔽帘，可起到基本的屏蔽作用，X光机的保护罩前端设置第一延长保护罩和第三屏蔽帘，第三屏蔽帘用于在前屏蔽帘被行李顶开时，屏蔽射向X光机外部的射线；X光机的后端设置第二延长保护罩和第四屏蔽帘，第四屏蔽帘用于在后屏蔽帘被行李顶开时，屏蔽射向X光机外部的射线，通过采用双层屏蔽方案，可以大幅减少从X光机泄露出的X射线，从而减少X光机对周边核辐射检测仪的干扰，降低误报警的几率。
附图说明
[0011]图1是本技术所述X光机防辐射抗干扰装置实施例的立体图；
[0012]图2是本技术所述X光机防辐射抗干扰装置实施例的俯视图；
[0013]图3是图2中A处放大图；
[0014]图4是本技术所述X光机防辐射抗干扰装置实施例的半剖示意图(正常状态)；
[0015]图5是本技术所述X光机防辐射抗干扰装置实施例的半剖示意图(前屏蔽帘和后屏蔽帘被提升后的状态)。
[0016]其中，1、X光机；11、保护罩；12、前屏蔽帘；13、后屏蔽帘；2、第一延长保护罩；3、第三屏蔽帘；4、第二延长保护罩；5、第四屏蔽帘；6、前屏蔽帘提升机构；61、第一拉杆；62、第一横向杆；63、第一导向套；64第一弹簧；7、后屏蔽帘提升机构；71、第二拉杆；72、第二横向杆；73、第二导向套；74、第二弹簧。
具体实施方式
[0017]为了使本技术的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本技术进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本技术，并不用于限定本技术。
[0018]作为本技术所述X光机防辐射抗干扰装置的实施例，如图1至图5所示，包括X光机1，所述X光机1的保护罩11前侧设有前屏蔽帘12，保护罩11的后侧设有后屏蔽帘13，所述X光机1的保护罩11前端入口处还设有第一延长保护罩2，所述第一延长保护罩2的入口处还设有第三屏蔽帘3，所述第三屏蔽帘3用于在前屏蔽帘12被行李顶开时，屏蔽射向X光机1外部的射线；所述X光机1的保护罩11后端出口处还设有第二延长保护罩4，所述第二延长保护罩4的出口处还设有第四屏蔽帘5，所述第四屏蔽帘5用于在后屏蔽帘13被行李顶开时，屏蔽射向X光机1外部的射线。
[0019]所述X光机防辐射抗干扰装置在X光机1前侧设置前屏蔽帘12，后侧设置后屏蔽帘13，可起到基本的屏蔽作用，X光机1的保护罩11前端设置第一延长保护罩2和第三屏蔽帘3，第三屏蔽帘3用于在前屏蔽帘12被行李顶开时，屏蔽射向X光机1外部的射线；X光机1的后端设置第二延长保护罩4和第四屏蔽帘5，第四屏蔽帘5用于在后屏蔽帘13被行李顶开时，屏蔽射向X光机1外部的射线，通过采用双层屏蔽方案，可以大幅减少从X光机1泄露出的X射线，从而减少X光机对周边核辐射检测仪的干扰，降低误报警的几率。最终达到防辐射抗干扰的目的。
[0020]在本技术中，对于现有的X光机进行技术改造时，把第一延长保护罩、第二延长保护罩和X光机的保护罩拼接在一起即可，对于制造全新的产品时，优选第一延长保护罩、第二延长保护罩和X光机的保护罩为一体成型，这样零件数量少，组装简单。
[0021]在本技术中，所述第三屏蔽帘与前屏蔽帘之间的距离至少为60CM；所述第四屏蔽帘与后屏蔽帘之间的距离至少为60CM。普通行李的尺寸虽然不固定，但一般交通工具都对行李尺寸有限制，22寸及以下的拉杆箱是最为常见的尺寸，60CM对应24寸拉杆箱的长度，24寸以上的行李尺寸太大，比较少见。所以第三屏蔽帘3与前屏蔽帘12之间、以及第四屏蔽帘5与后屏蔽帘13之间的距离至少为60CM，可以解决大部分因行李尺寸过大，导致的第三屏蔽帘3和前屏蔽帘12同时被顶开的情况，以及第四屏蔽帘5和后屏蔽帘13同时被顶开的情况本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种X光机防辐射抗干扰装置，包括X光机，所述X光机的保护罩前侧设有前屏蔽帘，保护罩的后侧设有后屏蔽帘，其特征在于，所述X光机的保护罩前端入口处还设有第一延长保护罩，所述第一延长保护罩的入口处还设有第三屏蔽帘，所述第三屏蔽帘用于在前屏蔽帘被行李顶开时，屏蔽射向X光机外部的射线；所述X光机的保护罩后端出口处还设有第二延长保护罩，所述第二延长保护罩的出口处还设有第四屏蔽帘，所述第四屏蔽帘用于在后屏蔽帘被行李顶开时，屏蔽射向X光机外部的射线。2.根据权利要求1所述的X光机防辐射抗干扰装置，其特征在于，所述第一延长保护罩、第二延长保护罩和X光机的保护罩为一体成型。3.根据权利要求1所述的X光机防辐射抗干扰装置，其特征在于，所述第三屏蔽帘与前屏蔽帘之间的距离至少为60CM；所述第四屏蔽帘与后屏蔽帘之间的距离至少为60CM。4.根据权利要求1所述的X光机防辐射抗干扰装置，其特征在于，所述装置还包括前屏蔽帘提升机构，所述前屏蔽帘提升机构包括第一拉杆、第一横向杆、第一导向套和第一弹簧，所...
【专利技术属性】
技术研发人员：陈玉墩，何牧，朱岚斐，华振胜，
申请(专利权)人：盛视科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：
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