有源矩阵有机发光二极体显示器用阳极蚀刻液的制备装置制造方法及图纸

技术编号:31565620 阅读:39 留言:0更新日期:2021-12-25 11:00
本实用新型专利技术公开了有源矩阵有机发光二极体显示器用阳极蚀刻液的制备装置,包括罐体;所述罐体顶部的中央位置处安装有动力机构,所述动力机构的底部安装有破碎机构;本实用新型专利技术通过在罐体的内壁安装有恒温机构,通过温度传感器可以实时监测液体的温度,当液体温度过高时温度传感器通过将指令发送至控制箱,控制箱控制风机工作使冷却装置内部的冷却液变成冷空气然后通过连接管传送至罐体的内部,进而对罐体内部的溶液进行冷却,当液体温度过低时温度传感器通过将指令发送至控制箱,控制箱控制通过加热装置内部的电板向加热管输送电能,加热管将电能转换成热能,然后对对罐体内部的溶液进行加热,从而使液体保持恒温状态。从而使液体保持恒温状态。从而使液体保持恒温状态。

【技术实现步骤摘要】
有源矩阵有机发光二极体显示器用阳极蚀刻液的制备装置


[0001]本技术涉及蚀刻液制备
,具体为有源矩阵有机发光二极体显示器用阳极蚀刻液的制备装置。

技术介绍

[0002]有源矩阵有机发光二极体显示器是一种用于显示通过特定的传输设备传输的一定的电子文件的画面并反射至人眼,以方便使用者获取想要的信息的附属装置,其在画面显示的领域中得到了广泛的使用,蚀刻液是通过利用侵蚀材料的特性来进行雕刻的一种液体。
[0003]现有的有源矩阵有机发光二极体显示器用阳极蚀刻液的制备装置的缺陷是:
[0004]1、现有的有源矩阵有机发光二极体显示器用阳极蚀刻液的制备装置一般在制作液体的过程中,通过化学物质之间的反应会产生大量的热量,当液体温度过高时会导致化学成分比例失调,当液体温度过低时会影响蚀刻速率,而装置无法很好的对液体温度进行控制;
[0005]2、现有的有源矩阵有机发光二极体显示器用阳极蚀刻液的制备装置一般液体中的ph值过低时,会导致液体出现沉淀,并在装置底部形成泥状沉淀,从而使装置底部出口堵塞,进而影响人们的使用。
技术本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.有源矩阵有机发光二极体显示器用阳极蚀刻液的制备装置,包括罐体(1);其特征在于:所述罐体(1)的内壁安装有恒温机构(6),所述罐体(1)顶部的中央位置处安装有动力机构(3),所述动力机构(3)的底部安装有破碎机构(4);所述恒温机构(6)包括温度传感器(601)、加热装置(602)和冷却装置(603),所述罐体(1)的内壁安装有加热装置(602),所述加热装置(602)的一侧安装有温度传感器(601),所述罐体(1)外侧的背面安装有冷却装置(603);所述破碎机构(4)包括连接座(401)和刀片(402),所述动力机构(3)的底部安装有连接座(401),所述连接座(401)的外侧等距安装有刀片(402)。2.根据权利要求1所述的有源矩阵有机发光二极体显示器用阳极蚀刻液的制备装置,其特征在于:所述罐体(1)的外侧等距安装有连接板(101),连接板(101)远离罐体(1)的一侧设有支撑腿(102),支撑腿(102)的底部设有底座(103)。3.根据权利要求1所述的有源矩阵有机发光二极体显示器用阳极蚀刻液的制备装置,其特征在于:所述动力机构(3)包括电机(301)、连接杆(302)和搅拌叶(303),罐体(1)顶部的中央位置处安装有电机(301),电机(301)的底部安装有连接杆(302),连接杆(302)的外侧等距安装有搅拌叶(303)。4.根据权利要求1所述的有源矩阵有机发光二极体显示器用阳极蚀刻液的制备装置,其特征在于:所述罐体(1)的正...

【专利技术属性】
技术研发人员:汤晓春何珂戈烨铭
申请(专利权)人:江阴润玛电子材料股份有限公司
类型:新型
国别省市:

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