遮光性膜及遮光性膜的制造方法技术

就遮光性膜而言，至少一个表面的入射角为60度时的光泽度被设定为0以上10以下的范围的值，光密度被设定为4以上的范围的值，且总厚度被设定为6μm以上26μm以下的范围的值。被设定为6μm以上26μm以下的范围的值。被设定为6μm以上26μm以下的范围的值。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】遮光性膜及遮光性膜的制造方法


[0001]本专利技术涉及遮光性膜及遮光性膜的制造方法。具体而言，涉及光学用途、光学设备用途、显示设备用途、机械部件或电气
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电子部件等用途中使用的遮光性膜及遮光性膜的制造方法。

技术介绍

[0002]遮光性膜在例如数码相机等电子设备、移动电话等所具备的光学部件即相机模块中、以抑制透镜单元内的光学噪声的产生及扩大的目的使用。另外，遮光性膜在相机模块中也作为配置在快门、光圈部件、或透镜等光学要素之间的间隙调节部件使用。
[0003]作为遮光性膜，例如，可使用通过在聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)中添加炭黑而着色为黑色、且在表面形成凹凸而赋予遮光性的黑色膜。另外，例如专利文献1中公开了如图5及6所示的、具有在膜基材201的至少一面重叠地配置有遮光层202的构成的遮光性膜20、21。遮光层202由作为固化性树脂或热固性树脂的树脂、和黑色微粒形成。
[0004]这样的遮光性膜20、21在图7所示的以往的透镜单元30中作为遮光性膜F7、F8使用。该图所示的透镜单元30具备收纳于筒32中的传感器透镜33、红外拦截滤波器31、及多个透镜L7、L8。图5、6的遮光性膜20、21作为分别与图7的各透镜L7、L8对应的遮光性膜F7、F8而设置。透镜单元30中,沿着入射光的行进方向,依次配置有遮光性膜F7、F8、1张或2张以上的透镜L7、L8、CMOS传感器。通过与各透镜L7、L8对应地分别设置遮光性膜F7、F8,从而能够充分地遮蔽不需要的光。
[0005]现有技术文献
[0006]专利文献
[0007]专利文献1：日本特表2010
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534342号公报

技术实现思路

[0008]专利技术要解决的课题
[0009]近年来，根据所搭载的设备，进一步要求相机模块小型化、薄型化、及轻质化。另外，对于相机模块，要求更广范围的变焦功能、基于细微像素的高精细的拍摄功能等高功能化。这样的高功能化在数字处理中难以实现，例如需要提高相机模块所具备的透镜单元的光学变焦功能。
[0010]然而，为了使透镜单元高功能化，需要增加例如透镜片数。在与各透镜相应地配置遮光性膜时，因透镜片数的增大，遮光性膜的总厚度也增大。由此透镜单元的光轴方向增大，难以实现透镜单元的小型化。在搭载相机模块的设备为智能手机等的情况下，可能导致例如透镜单元从壳体突出，产生设备的设计方面的问题。该问题随着遮光性膜的片数的增加而变得显著。
[0011]作为该问题的对策，考虑了例如降低遮光性膜的厚度。然而，若仅想要降低遮光性膜的厚度，则遮光性膜的遮光性会降低。如此，为了同时实现相机模块的小型化等和高功能
化，需要在维持遮光性膜的性能的同时调节厚度。
[0012]因此，本专利技术的目的在于，能够使遮光性膜在保持良好的遮光性的同时降低厚度。
[0013]用于解决课题的手段
[0014]为了解决上述课题，就本专利技术的一个方式涉及的遮光性膜而言，至少一个表面的入射角为60度时的光泽度被设定为0以上10以下的范围的值，波长380nm以上780nm以下的范围的值处的光密度被设定为4以上的范围的值，且总厚度被设定为6μm以上26μm以下的范围的值。
[0015]根据上述构成，遮光性膜的至少一个表面的光泽度被设定为0以上10以下的范围的值，因此能够对该表面赋予使入射光良好地散射的高的光散射性(抗反射性)。另外，遮光性膜的光密度被设定为4以上的范围的值、且总厚度被设定为6μm以上26μm以下的范围的值，因此即使降低遮光性膜的厚度，也能够保持良好的遮光性。
[0016]具备具有遮光性的膜基材、和与上述膜基材重叠地配置且使入射光散射的散射层，上述一个表面可以为上述散射层中的与上述膜基材呈相反侧的表面。
[0017]由此，即使降低例如散射层的厚度，也能够通过具有遮光性的膜基材而良好地维持遮光性膜的遮光效果。因此，能够容易地降低遮光性膜的总厚度。另外，在散射层中的与具有遮光性的膜基材呈相反侧的表面，能够获得良好的光散射性。另外，通过使用相对于具有遮光性的膜基材而言单独的散射层，从而能够提高散射层的设计自由度。
[0018]上述散射层的黑色成分的含量可以被设定为大于0重量％且为4重量％以下的范围的值。上述遮光性膜中，膜基材具有遮光性，因此，散射层的黑色成分的含量可以为微量。即使是这样的构成，也能够确保遮光性膜的遮光性。
[0019]另外，上述构成中，散射层的黑色成分的量得以抑制。因此，例如在使用具有紫外线固化性的树脂材料来形成散射层的情况下，也可照射紫外线使树脂材料固化而良好地形成散射层。根据该方法，与使用具有热固性的树脂材料来形成散射层的方法相比，热不易到达具有遮光性的膜基材。因此，具有遮光性的膜基材发生热收缩的可能性小，因此能够降低具有遮光性的膜基材的厚度。结果，能够降低遮光性膜的总厚度。
[0020]上述散射层可以还具有：沿着上述膜基材的表面配置的树脂部件；和，分散于上述树脂部件的内部的粒子。根据该构成，能够利用粒子对散射层的表面赋予凹凸形状。另外，能够提高散射层内部的光散射性。由此，能够对散射层良好地赋予光散射性。
[0021]上述膜基材的厚度可以被设定为2μm以上12μm以下的范围的值。根据这样的构成，通过使用具有遮光性的膜基材，从而能够在维持遮光性膜的遮光性的同时良好地降低具有遮光性的膜基材的厚度。
[0022]上述散射层的厚度可以被设定为3μm以上7μm以下的范围的值。遮光性膜中，膜基材具有遮光性，散射层可以不具有遮光性，因此能够降低散射层的厚度。因此，能够降低遮光性膜的总厚度。
[0023]上述散射层的全光线透过率可以被设定为70％以上100％以下的范围的值。通过如此构成散射层，能够利用上述具有遮光性的膜基材良好地得到遮光性膜的黑度(日语：黒味)。
[0024]上述树脂部件的折射率可以被设定为1.3以上1.9以下的范围的值。通过如此构成散射层，从而能够容易地使入射至散射层内的入射光散射。
[0025]本专利技术的一个方式的遮光性膜的制造方法具有下述步骤：
[0026]准备步骤，准备包含具有紫外线固化性及电子束固化性的树脂材料的涂布液以及具有遮光性的膜基材；
[0027]第1步骤，对上述膜基材的表面涂布上述涂布液并进行干燥，由此在上述表面上形成涂膜，并对上述涂膜照射紫外线；和，
[0028]第2步骤，对照射了上述紫外线的上述涂膜照射电子束，
[0029]通过经由上述第1步骤和上述第2步骤，从而由上述涂膜形成散射层，所述散射层的与上述膜基材呈相反侧的表面的入射角为60度时的光泽度被设定为0以上10以下的范围的值，
[0030]并且形成下述遮光性膜，所述遮光性膜具备上述膜基材和上述散射层，波长380nm以上780nm以下的范围的值处的光密度被设定为4以上的范围的值，且总厚度被设定为6μm以上26μm以下的范围的值。
[0031]根据上述制造方法，通过将光泽本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.遮光性膜，其至少一个表面的入射角为60度时的光泽度被设定为0以上且10以下的范围的值，波长380nm以上且780nm以下的范围的值处的光密度被设定为4以上的范围的值，总厚度被设定为6μm以上且26μm以下的范围的值。2.如权利要求1所述的遮光性膜，其具备：膜基材，其具有遮光性；和，散射层，其与所述膜基材重叠地配置，使入射光散射，所述一个表面为所述散射层中与所述膜基材呈相反侧的表面。3.如权利要求2所述的遮光性膜，其中，所述散射层的黑色成分的含量被设定为大于0重量％且为4重量％以下的范围的值。4.如权利要求2或3所述的遮光性膜，其中，所述散射层还具有沿着所述膜基材的表面配置的树脂部件、和分散于所述树脂部件的内部的粒子。5.如权利要求4所述的遮光性膜，其中，所述树脂部件的折射率被设定为1.3以上且1.9以下的范围的值。6.如权利要求2～5中任一项所述的遮光性膜，其中，所述膜基材的厚度被设定为2μm以上且12μm以下的范围的值。7.如权利要求2～6中任一项所述的遮光性膜，其中，所述散射层的厚度被设定为3μm以上且7μm以下的范围的值。8.如权利要求2～7中任一项所述的遮光性膜，其中，所述散射层的全光线透过率被设定为70％以上且100％以下的范围的值。9.遮光性膜的制造方法，其具有：准备步骤，准备包含具有紫外线固化性及电子束固化性的树脂材料的涂布液、以及具有遮光性的膜基材；第1步骤，对所述膜基材的表面涂布所述涂布液并进行干燥，由此在所述表面上形成涂膜，并对所述涂膜照射紫外线；和，第2步骤，对照射了所述紫外线的所述涂膜照射电子束，通过经由所述第1步骤和所述第2步骤,从而由所述涂膜形成散射层,所述散射层的与所述膜基材呈相反侧的表面的入射角为60度时的光泽度被设定为0以上且10以下的范围的值,并且形成下述遮光性膜，所述遮光性膜具备所述膜基材...

【专利技术属性】
技术研发人员：西村一晃，
申请(专利权)人：株式会社大赛璐，
类型：发明
国别省市：