【技术实现步骤摘要】
一种挖孔屏显示装置
[0001]本技术涉及AMOLED显示屏制造领域,特别涉及一种挖孔屏显示装置。
技术介绍
[0002]近年来AMOLED(Active
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Matrix Organic Light
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Emitting Diode,有源矩阵有机发光二极体)显示屏因其自发光、高对比度、广视角、可制作超薄以及可挠曲显示屏等优点,不仅在手机屏幕应用领域有深大的提升,同时在电视屏幕市场占比也有所提升。现阶段,主流手机屏幕追求几乎接近100%的超高屏占比,即全面屏手机,然而手机必不可少的需要前置摄像头,由于屏下摄像头技术尚未取得较大的突破,故而未被正式的推广和使用。因此,由挖孔屏技术结合可以制作超薄可挠曲屏幕的AMOLED显示屏技术是目前手机屏幕的主流技术方案。
[0003]挖孔屏技术是在屏幕摄像头位置挖出摄像头通道,供前置摄像头摄像使用,该位置不用于显示,故而挖孔直径要求减少对屏幕显示效果的影响;并且,AMLOED显示屏是通过有机材料进行自发光的显示方式,由于这些有机自发光材料对水氧极其敏 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种挖孔屏显示装置,其特征在于,包括封装薄膜;所述封装薄膜由底层基板、TFT电路膜层、OLED发光器件层、第一无机密封层、有机缓冲层和第二无机密封层依次叠加构成;所述封装薄膜上设置有用于放置前置摄像头的挖孔区且在所述挖孔区的四周围绕设置有薄膜防护墙;所述薄膜防护墙的顶部位于所述有机缓冲层内。2.根据权利要求1所述的一种挖孔屏显示装置,其特征在于,所述薄膜防护墙包括由内到外依次围绕所述挖孔区设置的内圈防护墙和外圈防护墙;所述内圈防护墙为负向光阻材料,所述内圈防护墙的高度高于所述第一无机密封层且顶部位于所述有机缓冲层内;所述外圈防护墙为聚氨酯阻光材料,所述外圈防护墙高于所述OLED发光器件层且顶部位于所述第一无机密封层的顶部下方。3.根据权利要求2所述的一种挖孔屏显示装置,其特征在于,所述内圈防护墙的外侧边距所述挖孔区的中心[4.0mm,4.5mm],所述内圈防护墙的内侧边距所述挖孔区的中心[3.0mm,3.5mm],所述内圈防护墙的宽度为[0.5mm,1.5mm]。4.根据权利要求2所述的一种挖孔屏显示装置,其特征在于,所述外圈防护墙的外侧边距所述挖孔区的中心[4.8mm,5mm],所述外圈防护墙的内侧边距...
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