一种消影优化CF玻璃基板及触控显示屏制造技术

本实用新型专利技术公开了一种消影优化CF玻璃基板及触控显示屏，包括：OC保护层、遮光层、彩色滤光层、保护玻璃层、触控层；遮光层设置在OC保护层上，在遮光层上形成黑矩阵，黑矩阵限定出若干个像素区域；彩色滤光层形成有多个彩色滤光单元，彩色滤光单元设置于像素区域内；保护玻璃层设置在彩色滤光层外侧；触控层设置在保护玻璃层上；触控层上设置有若干触控电极，触控电极由多条金属走线连接形成，金属走线间的留白区域相对应彩色滤光层的光线透过率相同；触控显示屏为液晶显示屏。实施本实用新型专利技术，解决了SLOC显示屏由于ITO Sensor中(留白区域)Spacing区域的R/G/B开口率差异造成的显示异常不良等问题，降低了工艺流程成本。降低了工艺流程成本。降低了工艺流程成本。

【技术实现步骤摘要】
一种消影优化CF玻璃基板及触控显示屏


[0001]本技术涉及液晶显示屏
，特别涉及一种消影优化CF玻璃基板及触控显示屏。

技术介绍

[0002]在诸多液晶显示器中，薄膜晶体管液晶显示器(简称TFT
‑
LCD)具有高空间利用效率、低消耗功率、无辐射以及低电磁干扰等优越特性，薄膜晶体管液晶显示器已经广泛应用于生活的各个方面。通常液晶显示器包括壳体、设于壳体内的液晶显示面板及设于壳体内的背光模组(Backlight module)。其中，液晶显示面板一般包括薄膜晶体管阵列基板(TFT Array Substrate)、彩膜基板(Color Filter，CF)、以及一配置于两基板间的液晶层(Liquid Crystal Layer)所构成，其工作原理是通过在两片玻璃基板上施加驱动电压来控制液晶层的液晶分子的旋转，将背光模组的光线折射出来产生画面。
[0003]目前，由于车载、工控等SLOC(On Cell)产品ITO Sensor图案中Spacing区域的R/G/B开口存在差异，造成光线经过Cell后在穿过ITO Sensor中Spacing时，受到不同亮度R/G/B的影响，会导致各种显示差异，轻则显示品质变差，重则出现大批量不良NG品，尤其高PPI或超高PPI产品最为严重。
[0004]具体的表现为：在调整ITO电阻时，主要利用膜厚及Cd氧化物去改善，但是不同的膜厚及Cd氧化物，光透过ITO会出现不同颜色，也即色温差异，这种差异在经过不同ITO sensor图案的间隙即不同开口率的R/G/B滤光片时会被放大。由于受到ITO sensor图案的影响，因R/G/B亮度差异导致液晶显示屏出现Mura。同时，ITO sensor图案线的影响，液晶显示屏会出现干涉条纹，后期为消除上述干涉条纹，需要投入大量的测试split：改变ITO sensor膜厚、开口率及修改走线图案，进行验证，以求达到较好的效果，需要消耗大量的人力、材料及工艺流程等资源，提高了产品的成本。

技术实现思路

[0005]现有的CF玻璃基板，由于车载、工控等SLOC(On Cell)产品ITO Sensor图案中Spacing区域的R/G/B开口存在差异，造成光线经过Cell后在穿过ITO Sensor中Spacing时，受到不同亮度R/G/B的影响，会导致各种显示差异，轻则显示品质变差，重则出现大批量不良NG品，尤其高PPI或超高PPI产品最为严重。
[0006]针对上述问题，提出一种消影优化CF玻璃基板及触控显示屏，通过对触控层的电极走线进行设计，使得电极走线留白区域的彩色滤光层开口率相同，解决了SLOC(单层多点外嵌式)产品，由于ITO Sensor中(留白区域)Spacing区域的R/G/B开口率差异造成的显示异常不良等问题，而触控层(ITO Sensor Pattern)也不再受限于产线设备精度的影响，解决了为满足ITO Sensor电阻而调整ITO膜厚导致的色温差异问题，降低了为消除干涉条纹，需要投入大量的测试split需要消耗大量的人力、材料及工艺流程成本。
[0007]一种消影优化CF玻璃基板，包括：
[0008]一OC保护层；
[0009]一遮光层；
[0010]一彩色滤光层；
[0011]一保护玻璃层；
[0012]一触控层；
[0013]所述遮光层设置在所述OC保护层上，在所述遮光层上形成黑矩阵，所述黑矩阵限定出若干个像素区域；
[0014]所述彩色滤光层形成有若干个彩色滤光单元，所述彩色滤光单元设置于所述像素区域内；
[0015]所述保护玻璃层设置在所述彩色滤光层外侧；所述触控层设置在所述保护玻璃层上；
[0016]所述触控层上设置有触控电极图案，所述触控电极图案包括若干个触控电极，所述触控电极由多条金属走线连接形成，所述金属走线间的留白区域相对应彩色滤光层的光线透过率相同。
[0017]结合本技术所述的消影优化CF玻璃基板，第一种可能的实施方式中，所述触控电极图案为第一金属走线图案，所述第一金属走线图案包括多个形状规则的方形触控单元，所述触控电极设置在所述方形触控单元内，所述触控电极由多个平行设置的金属走线连接形成。
[0018]结合本技术第一种可能的实施方式，第二种可能的实施方式中，所述黑矩阵由规则排列的方形网格组成，所述方形触控单元阵列覆盖所述像素区域阵列，且所述方形触控单元边缘走线形成的走线图案与所述黑矩阵方形网格图案重合。
[0019]结合本技术第二种可能的实施方式，第三种可能的实施方式中，所述平行设置的金属走线留白区域，与所述红色色阻、绿色色阻及蓝色色阻的排列方向垂直设置。
[0020]结合本技术所述的消影优化CF玻璃基板，第四种可能的实施方式中，所述触控电极图案为第二金属走线图案，所述第二金属走线图案包括通过若干平行的贯穿触控层表面的金属走线连接形成的电极线，所述电极线间形成平行的留白柱条。
[0021]结合本技术第四种可能的实施方式，第五种可能的实施方式中，所述黑矩阵由规则排列的方形网格组成，所述留白柱条间隔设置，且所述留白柱条与所述红色色阻、绿色色阻及蓝色色阻的排列方形垂直设置。
[0022]结合本技术所述的消影优化CF玻璃基板，第六种可能的实施方式中，所述触控电极采用氧化铟镓锌、氧化铟锌、氧化铟锡、氧化铟镓锡中的一种或多种材料形成。
[0023]第二方面，一种触控显示屏，包括第一方面任一实施方式所述的消影优化CF玻璃基板及TFT玻璃基板。
[0024]结合第二方面所述的触控显示屏，第一种可能的实施方式中，所述触控显示屏为液晶触控显示屏。
[0025]实施本技术所述的消影优化CF玻璃基板及触控显示屏，通过对触控层的电极走线进行设计，使得电极走线留白区域的彩色滤光层开口率相同，解决了单层多点外嵌式(SLOC)产品，由于ITO Sensor中留白(Spacing)区域的R/G/B开口率差异造成的显示异常不良等问题，而触控层(ITO Sensor Pattern)也不再受限于产线设备精度的影响，解决了为
满足ITO Sensor电阻而调整ITO膜厚导致的色温差异问题，降低了为消除干涉条纹，需要投入大量的测试split需要消耗大量的人力、材料及工艺流程成本。
附图说明
[0026]为了更清楚地说明本技术实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0027]图1是现有单层多点外嵌式(SLOC)触控屏分解示意图；
[0028]图2是现有单层多点外嵌式(SLOC)触控屏CF侧截面示意图；
[0029]图3是现有单层多点外嵌式(SLOC)触控屏CF侧截面透射光路示意图；
[0030]图4是本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种消影优化CF玻璃基板，其特征在于，包括：一OC保护层；一遮光层；一彩色滤光层；一保护玻璃层；一触控层；所述遮光层设置在所述OC保护层上，在所述遮光层上形成黑矩阵，所述黑矩阵限定出若干个像素区域；所述彩色滤光层形成有若干个彩色滤光单元，所述彩色滤光单元设置于所述像素区域内；所述保护玻璃层设置在所述彩色滤光层外侧；所述触控层设置在所述保护玻璃层上；所述触控层上设置有触控电极图案，所述触控电极图案包括若干个触控电极，所述触控电极由多条金属走线连接形成，所述金属走线间的留白区域相对应彩色滤光层的光线透过率相同。2.根据权利要求1所述的消影优化CF玻璃基板，其特征在于，所述触控电极图案为第一金属走线图案，所述第一金属走线图案包括多个形状规则的方形触控单元，所述触控电极设置在所述方形触控单元内，所述触控电极由多个平行设置的金属走线连接形成。3.根据权利要求2所述的消影优化CF玻璃基板，其特征在于，所述黑矩阵由规则排列的方形网格组成，所述方形触控单元阵列覆盖所述像素区域阵列，且所述方形触控单元边缘走线形成的走线图案与所述黑矩阵方形网格图案重合。4...

【专利技术属性】
技术研发人员：郑彪，
申请(专利权)人：信利仁寿高端显示科技有限公司，
类型：新型
国别省市：