一种粘合剂生产用辐照反应装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种粘合剂生产用辐照反应装置，包括辐照源装置和多个辐照聚合釜；位于所述辐照源装置的下方设有水井，所述辐照源装置升降式进出所述水井；所述辐照聚合釜均匀分布在所述辐照源装置所在区域的两侧；所述辐照源装置上升至与所述辐照聚合釜平行的高度进行辐照聚合。本实用新型专利技术一种粘合剂生产用辐照反应装置，其通过辐照源装置和辐照聚合釜的设计，使辐照源能够均匀辐射到辐照聚合釜上，确保辐照聚合釜中的物料能够进行有效辐照聚合，提高生产效率，且辐照剂量可控，提高辐照反应的质量。反应的质量。反应的质量。

【技术实现步骤摘要】
一种粘合剂生产用辐照反应装置


[0001]本技术涉及粘合剂生产
，特别是涉及一种粘合剂生产用辐照反应装置。

技术介绍

[0002]辐射聚合是利用电离辐射能来引发有机单体进行聚合获取高分子化合物的过程，其所使用的电离辐射能主要为γ
‑
射线，通常由放射性元素放射产生，在生产中主要利用的是放射性钴
‑
60放射产生的γ
‑
射线。
[0003]丙烯酸酯乳液是合成粘合剂的关键原料，为了提高粘合剂的性能，通常需要改进丙烯酸乳液的性能。现有的化学合成方法由于合成的聚丙烯酸乳液在分子量偏低、乳液粒径偏大、乳液稳定性差、制备的粘合剂得色率低等缺点，逐渐被辐射聚合法取代。但现有辐照聚合反应存在辐照剂量不好控制，生产效率低的缺点。中国专利CN 209438543 U公开了一种高分子合成装置，其待辐照合成的原料通过管道通入到水井下的辐照源区域，一方面生产效率低，另一方面管道呈盘状绕设在辐照源上，辐照剂量大，反应过程不可控。中国专利
60
Co
‑
γ射线辐照加工用的双层辐照源架，其所采用的辐照源装在环形设计的双层辐照源架上，由于辐照源在辐照源架上环形设计，一方面辐照范围小，生产效率低，另一方面位于辐照源一侧的反应物会受到靠近其一侧的辐照源和对侧的辐照源的双重辐照影响，导致辐照剂量难以控制，辐照密集度高等缺点。

技术实现思路

[0004]本技术主要解决的技术问题是提供一种粘合剂生产用辐照反应装置，能够解决现有技术存在的上述缺点。/>[0005]为解决上述技术问题，本技术采用的一个技术方案是：提供一种粘合剂生产用辐照反应装置，包括辐照源装置和多个辐照聚合釜；位于所述辐照源装置的下方设有水井，所述辐照源装置升降式进出所述水井；所述辐照聚合釜均匀分布在所述辐照源装置所在区域的两侧；所述辐照源装置上升至与所述辐照聚合釜平行的高度进行辐照聚合。
[0006]在本技术一个较佳实施例中，所述辐照源装置辐照区域的高度大于等于所述辐照聚合釜的高度。
[0007]在本技术一个较佳实施例中，所述辐照源装置包括源架和竖直固定在所述源架上的辐照源棒；所述源架的顶端带有2个以上悬挂装置，所述辐照源装置通过所述悬挂装置吊置在升降机构上，实现升降式进出所述水井。
[0008]在本技术一个较佳实施例中，所述源架为长方体结构，包括两块相对设置的立板和分别水平连接两块所述立板顶端和底端的上梁和下梁，所述上梁和下梁之间的区域包括自上向下水平固定在所述立板上的第一固定板、第二固定板、第三固定板和第四固定板；所述第一固定板和第二固定板之间的区域构成第一源架放置区；所述第三固定板和第四固定板之间的区域构成第二源架放置区。
[0009]在本技术一个较佳实施例中，所述上梁和下梁之间的区域还包括位于所述第四固定板下方的第五固定板和第六固定板，其中所述第五固定板和第六固定板之间的区域构成第三源架放置区。
[0010]在本技术一个较佳实施例中，相邻两个所述辐照源棒之间的距离为34～40cm。
[0011]在本技术一个较佳实施例中，所述辐照聚合釜为长度大于宽度的扁状罐体，并以罐体的长度方向平行于所述辐照源装置的方向布置。
[0012]在本技术一个较佳实施例中，所述辐照聚合釜的横截面为矩形结构，所述矩形结构的两个相对的短边为圆弧结构。
[0013]在本技术一个较佳实施例中，所述辐照聚合釜的数量为4个，位于所述辐照源装置同一侧的辐照聚合釜为2个。
[0014]本技术的有益效果是：本技术一种粘合剂生产用辐照反应装置，其通过辐照源装置和辐照聚合釜的设计，使辐照源能够均匀辐射到辐照聚合釜上，确保辐照聚合釜中的物料能够进行有效辐照聚合，提高生产效率，且辐照剂量可控，提高辐照反应的质量。
附图说明
[0015]图1是本技术一种粘合剂生产用辐照反应装置一较佳实施例的俯视结构立体结构示意图；
[0016]图2是所示辐照源装置截面结构的俯视示意图；
[0017]图3是所示辐照源装置内部的正视结构示意图；
[0018]附图中各部件的标记如下：10.辐照源装置，20.辐照聚合釜，11.源架，12.辐照源棒，13.悬挂装置，111.立板，112.上梁，113.下梁，114.第一固定板，115.第二固定板，116.第三固定板，117.第四固定板，118.第五固定板，119.第六固定板。
具体实施方式
[0019]下面结合附图对本技术的较佳实施例进行详细阐述，以使本技术的优点和特征能更易于被本领域技术人员理解，从而对本技术的保护范围做出更为清楚明确的界定。
[0020]请参阅图1
‑
3，本技术实施例包括：
[0021]实施例1
[0022]本技术揭示了一种粘合剂生产用辐照反应装置，包括辐照源装置10和4个辐照聚合釜20。
[0023]其中，位于所述辐照源装置10的下方设有水井（未显示），所述辐照源装置10包括呈长方体结构的源架11和竖直固定在所述源架11上的辐照源棒12。所述源架11的顶端带有2个以上悬挂装置13，所述辐照源装置10通过所述悬挂装置13吊置在升降机构上，实现辐照源装置10升降式进出所述水井。
[0024]4个所述辐照聚合釜20为长度大于宽度的扁状罐体，并以罐体的长度方向平行于所述辐照源装置10的方向布置，均匀分布在所述辐照源装置10所在区域的两侧，且位于所
述辐照源装置10同一侧的辐照聚合釜20为2个。具体地，所述辐照聚合釜的横截面为矩形结构，所述矩形结构的两个相对的短边为圆弧结构。通过所述辐照聚合釜20的结构设计和分布位置设计，使得辐照源装置10产生的辐照能量能够均匀分布在各个辐照聚合釜20上，也保证了辐照聚合釜内物料能够均匀接受辐照。
[0025]所述源架11为长方体结构，包括两块相对设置的立板111和分别水平连接两块所述立板顶端和底端的上梁112和下梁113，所述上梁112和下梁113之间的区域包括自上向下水平固定在所述立板111上的第一固定板114、第二固定板115、第三固定板116、第四固定板117、第五固定板118和第六固定板119；其中，所述第一固定板114和第二固定板115之间的区域构成第一源架放置区；所述第三固定板116和第四固定板117之间的区域构成第二源架放置区；所述第五固定板118和第六固定板119之间的区域构成第三源架放置区。每个源架放置区内，相邻两个所述辐照源棒之间的距离为34cm，确保辐射剂量足以对辐照聚合釜20内的物料进行有效辐照聚合，又避免源架设置密度过高导致辐射剂量过大使物料出现糊料。
[0026]所述辐照源装置10辐照区域的高度大于等于所述辐照聚合釜20的高度，即从第一固定板114到第六固定板119之间的距离大于等于所述辐照聚合釜20的高度。
[0027]本技术一种粘合剂生产用辐照反应装置的工本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种粘合剂生产用辐照反应装置，其特征在于，包括辐照源装置和多个辐照聚合釜；位于所述辐照源装置的下方设有水井，所述辐照源装置升降式进出所述水井；所述辐照聚合釜均匀分布在所述辐照源装置所在区域的两侧；所述辐照源装置上升至与所述辐照聚合釜平行的高度进行辐照聚合。2.根据权利要求1所述的一种粘合剂生产用辐照反应装置，其特征在于，所述辐照源装置辐照区域的高度大于等于所述辐照聚合釜的高度。3.根据权利要求2所述的一种粘合剂生产用辐照反应装置，其特征在于，所述辐照源装置包括源架和竖直固定在所述源架上的辐照源棒；所述源架的顶端带有2个以上悬挂装置，所述辐照源装置通过所述悬挂装置吊置在升降机构上，实现升降式进出所述水井。4.根据权利要求3所述的一种粘合剂生产用辐照反应装置，其特征在于，所述源架为长方体结构，包括两块相对设置的立板和分别水平连接两块所述立板顶端和底端的上梁和下梁，所述上梁和下梁之间的区域包括自上向下水平固定在所述立板上的第一固定板、第二固定板、第三固定板和第四固定板...

【专利技术属性】
技术研发人员：程玉国，刘广志，
申请(专利权)人：常熟市辐照技术应用厂，
类型：新型
国别省市：