一种显示面板的制作方法、显示面板及显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及显示设备技术领域，公开了一种显示面板的制作方法、显示面板及显示装置，该显示面板的制作方法包括在衬底基板上形成像素界定层，所述像素界定层包括呈阵列分布的多个开口区；在所述像素界定层背离所述衬底基板的一侧形成隔离层，所述隔离层包括位于每两个相邻的所述开口区之间、用于隔开相邻的两个所述开口区的多个隔断柱；在所述隔离层背离所述像素界定层的一侧形成一整层发光层；剥离所述隔离层，以使位于所述隔离层远离所述衬底基板的表面上的发光层剥离。该显示面板的制作方法能够避免现有技术中因位于像素界定层表面的发光层连接导致的光学串扰。发光层连接导致的光学串扰。发光层连接导致的光学串扰。

【技术实现步骤摘要】
一种显示面板的制作方法、显示面板及显示装置


[0001]本专利技术涉及显示设备
，特别涉及一种显示面板的制作方法、显示 面板及显示装置。

技术介绍

[0002]有机电致发光显示面板(Organic Electro luminesecent Display，OLED)凭借 其低功耗、高色饱和度、广视角、薄厚度、能实现柔性化等优异性能，逐渐成 为显示领域的主流，可以广泛应用于智能手机、平板电脑、电视等终端产品。
[0003]目前3000PPI以上高分辨率有机电致发光显示面板通常采用白光有机电致 发光层(WOLED)加彩膜(Color filter,CF)的方式进行发光。由于缺乏高分 辨率子像素排版的技术(常用的金属掩膜版FMM排版技术的分辨率极限为 600PPI)，白光有机电致发光层采用整面蒸镀的方式，而RGB子像素的定义， 通过封装层上的彩膜来实现。这样，整面蒸镀的有机电致发光层，由于高分辨 率下子像素间距离很近，导致光学串扰(crosstalk)问题严重，即点亮单一子 像素时，电子/空穴横向传输至相邻像素，导致相邻像素点亮。

技术实现思路

[0004]本专利技术提供了一种显示面板的制作方法、显示面板及显示装置，上述显示 面板的制作方法能够避免现有技术中因位于像素界定层表面的发光层连接导 致的光学串扰。
[0005]为达到上述目的，本专利技术提供以下技术方案：
[0006]一种显示面板的制作方法，包括：
[0007]在衬底基板上形成像素界定层，所述像素界定层包括呈阵列分布的多个开 口区；
[0008]在所述像素界定层背离所述衬底基板的一侧形成隔离层，所述隔离层包括 位于每两个相邻的所述开口区之间、用于隔开相邻的两个所述开口区的多个隔 断柱；
[0009]在所述隔离层背离所述像素界定层的一侧形成一整层发光层；
[0010]剥离所述隔离层，以使位于所述隔离层远离所述衬底基板的表面上的发光 层剥离。
[0011]本专利技术提供的显示面板的制作方法中，首先在像素界定层背离衬底基板的 一侧形成隔离层，隔离层包括位于每两个相邻的开口区之间、用于隔开相邻的 两个开口区的多个隔断柱；然后，在隔离层背离像素界定层的一侧形成一整层 发光层；然后，剥离隔离层，以使位于隔离层远离衬底基板的表面上的发光层 剥离。上述制作方法中，通过隔离层中的隔断柱能够在形成发光层时将发光层 隔断，将隔离层和位于隔离层远离衬底基板的表面上的发光层剥离后，能够使 得发光层形成与像素界定层的开口区一一对应的多个发光单元，且每两个相邻 的发光单元之间具有隔断间隙，当单一的发光单元发光时，能够避免现有技术 中因位于像素界定层表面的发光层连接导致的发光单元之间的光学串扰。
[0012]可选地，所述剥离所述隔离层之后，包括：
[0013]在所述发光层背离所述衬底基板的一侧形成一整层第一阴极层。
[0014]可选地，所述隔断柱沿其隔开的两个所述开口区的排列方向的截面的形状 为T字型。
[0015]可选地，所述在所述像素界定层背离所述衬底基板的一侧形成隔离层，包 括：
[0016]在所述像素界定层背离所述衬底基板的一侧形成牺牲层；
[0017]在所述牺牲层背离所述像素界定层的一侧形成光刻胶层；
[0018]通过掩膜板对所述光刻胶层进行曝光和显影，形成光刻胶层图案；
[0019]以所述光刻胶层图案为掩膜通过显影液对所述牺牲层进行各项同性刻蚀 工艺，形成所述牺牲层图案，所述牺牲层图案和所述光刻胶层图案共同组成所 述隔离层。
[0020]可选地，所述在所述隔离层背离所述像素界定层的一侧形成一整层发光层， 包括：
[0021]在所述隔离层背离所述像素界定层的一侧通过热蒸镀形成所述发光层；
[0022]所述在所述隔离层背离所述像素界定层的一侧形成一整层发光层之后，包 括：
[0023]在所述发光层背离所述衬底基板的一侧通过溅射沉积形成第二阴极层。
[0024]可选地，所述第二阴极层的厚度大于等于90nm且小于等于100nm。
[0025]本专利技术还提供一种显示面板，包括：
[0026]衬底基板；
[0027]位于所述衬底基板上的像素界定层，所述像素界定层包括呈阵列分布的多 个开口区；
[0028]位于所述像素界定层背离所述衬底基板一侧的发光层，所述发光层包括与 所述开口区一一对应的多个发光单元，每两个相邻的所述发光单元之间具有用 于隔断两个相邻的所述发光单元的隔断间隙，且所述像素界定层的图案位于所 述衬底基板上的正投影完全覆盖所述发光层上的隔断间隙位于所述衬底基板 上的正投影。
[0029]可选地，还包括位于所述发光层远离所述衬底基板一侧的一整层第一阴极 层，所述第一阴极层与所述隔断间隙相对的区域与所述像素界定层接触。
[0030]可选地，所述发光层为白光发光层，每个所述发光单元包括在所述衬底基 板上依次形成的空穴注入层、空穴传输层、第一子发光层、第二子发光层、电 荷产生层、第三子发光层以及电子传输层；其中，所述第一子发光层为绿色子 发光层，所述第二子发光层为红色子发光层，所述第三子发光层为蓝色子发光 层；或者，所述第一子发光层为红色子发光层，所述第二子发光层为绿色子发 光层，所述第三子发光层为蓝色子发光层。
[0031]可选地，每个所述发光单元的所有膜层的侧边平齐。
[0032]可选地，还包括位于所述发光层与所述第一阴极层之间的第二阴极层，所 述第二阴极层包括与所述发光单元一一对应的保护阴极，每个所述保护阴极位 于所述衬底基板上的正投影完全覆盖其对应的所述发光单元位于所述衬底基 板上的正投影，且每个所述保护阴极完全包裹其对应的所述发光单元的四周侧 壁。
[0033]可选地，所述第二阴极层的厚度为大于等于90nm且小于等于100nm，所 述第一阴极层的厚度为大于等于100nm且小于等于110nm。
[0034]本专利技术还提供一种显示装置，包括上述技术方案中提供的任意一种显示面 板。
附图说明
[0035]图1为本专利技术实施例提供的一种显示面板的制作方法的流程图；
[0036]图2
‑
图6为本专利技术实施例提供的一种显示面板的制作工艺示意图；
[0037]图7
‑
图9为本专利技术实施例提供的一种隔离层的制作工艺示意图；
[0038]图10为本图3中A区域的放大图；
[0039]图11为本专利技术实施例提供的一种发光单元的结构示意图。
[0040]图标：
[0041]1‑
衬底基板；2
‑
像素界定层；21
‑
开口区；3
‑
隔断柱；4
‑
发光层；51
‑
第一阴 极层；52
‑
第二阴极层；6
‑
牺牲层；7
‑
光刻胶；8
‑
掩膜板。本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种显示面板的制作方法，其特征在于，包括：在衬底基板上形成像素界定层，所述像素界定层包括呈阵列分布的多个开口区；在所述像素界定层背离所述衬底基板的一侧形成隔离层，所述隔离层包括位于每两个相邻的所述开口区之间、用于隔开相邻的两个所述开口区的多个隔断柱；在所述隔离层背离所述像素界定层的一侧形成一整层发光层；剥离所述隔离层，以使位于所述隔离层远离所述衬底基板的表面上的发光层剥离。2.根据权利要求1所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述剥离所述隔离层之后，包括：在所述发光层背离所述衬底基板的一侧形成一整层第一阴极层。3.根据权利要求2所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述隔断柱沿其隔开的两个所述开口区的排列方向的截面的形状为T字型。4.根据权利要求3所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述在所述像素界定层背离所述衬底基板的一侧形成隔离层，包括：在所述像素界定层背离所述衬底基板的一侧形成牺牲层；在所述牺牲层背离所述像素界定层的一侧形成光刻胶层；通过掩膜板对所述光刻胶层进行曝光和显影，形成光刻胶层图案；以所述光刻胶层图案为掩膜通过显影液对所述牺牲层进行各项同性刻蚀工艺，形成所述牺牲层图案，所述牺牲层图案和所述光刻胶层图案共同组成所述隔离层。5.根据权利要求3所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述在所述隔离层背离所述像素界定层的一侧形成一整层发光层，包括：在所述隔离层背离所述像素界定层的一侧通过热蒸镀形成所述发光层；所述在所述隔离层背离所述像素界定层的一侧形成一整层发光层之后，包括：在所述发光层背离所述衬底基板的一侧通过溅射沉积形成第二阴极层。6.根据权利要求5所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述第二阴极层的厚度大于等于90nm且小于等于100nm。7.一种显示面板，其特征在于，包括：衬底基板；位于所述衬底基板上的像素界定层，所述像素界定层包括呈阵列分布的多个开口...

【专利技术属性】
技术研发人员：赵梦，黄清雨，焦志强，袁广才，关峰，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：