材料的互补干涉应力测量装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种材料的互补干涉应力测量装置，包括光源，位于光源与待测样品之间的前端光处理单元，光源发出的光经前端光处理单元透射和待测样品的应力作用后进入成像单元成像，图像传感器前端位于成像单元出射方向；成像单元包括前端位于样品出射光的方向的汇聚透镜组，汇聚透镜组的后端设有用于将样品的出射光进行分光的偏振分光部件。利用偏振分光部件使带有材料应力信息的偏振光产生互补干涉，通过识别出射的两个互补干涉条纹模态来测量材料应力，由于存在互补图像，因此可以增加图像特征信息，并且通过对两个图像的同时处理，有效提高信噪比及测量精度。有效提高信噪比及测量精度。有效提高信噪比及测量精度。

【技术实现步骤摘要】
材料的互补干涉应力测量装置


[0001]本专利技术涉及一种材料应力测量装置，尤其涉及一种材料的互补干涉应力测量装置。

技术介绍

[0002]残余应力会影响到材料的性质、寿命以及结构稳固性，这种应力往往是在制造过程中出现的。为了控制或者减小这种应力，需要利用无损检测应力的方法进行检测。目前主流的测量方法包括X射线法、超声波法、电磁法和光弹法等。
[0003]其中光弹法利用探测材料中应力产生的双折射效应来测量应力。利用各种双折射有关的光学部件，包括偏振器、波片、光弹调制仪等，可以构造不同的光路来测量双折射效应。一种利用双折射晶体板的圆锥干涉仪，利用双折射晶体形成圆锥光束的光程差，从而产生与表面曲率有关的锥形干涉，测量表面位移和应变。这种方法能够一定程度上提高信噪比。但是这种仪器复杂度高，部件多，难以携带，而且测量精度和信噪比也需要进一步提升才能满足现有的工业需求。

技术实现思路

[0004]专利技术目的：本专利技术的目的是提供一种测量精度高、信噪比高的材料的互补干涉应力测量装置。
[0005]技术方案：本专利技术所述本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种材料的互补干涉应力测量装置，包括光源(1)，位于光源(1)与待测样品(3)之间的前端光处理单元(13)，光源(1)发出的光经前端光处理单元(13)透射以及待测样品(3)应力作用后进入成像单元(14)成像，图像传感器(7)前端位于成像单元(14)出射方向；其特征在于，所述成像单元(14)包括前端位于待测样品(3)出射光方向的汇聚透镜组(4)，所述汇聚透镜组(4)的后端设有用于将待测样品(3)的出射光进行分光的偏振分光部件(6)。2.根据权利要求1所述的材料的互补干涉应力测量装置，其特征在于，所述偏振分光部件(6)为双折射晶体或偏振分光镜。3.根据权利要求1所述的材料的互补干涉应力测量装置，其特征在于，所述前端光处理单元(13)包括扩束透镜组(2)，所述扩束透镜组(2)包括单个或多个透镜，使经过扩束透镜组(2)扩束后的光束为平行光。4.根据权利要求1所述的材料的互补干涉应力测量装置，其特征在于，所述汇聚透镜组(4)包括单个或多个透镜，将待测样品(3)出射的平行光经过汇聚透镜组(4)的光束汇...

【专利技术属性】
技术研发人员：毛华德，贾康宁，万浩鹏，刘世元，徐晓东，程利平，颜学俊，
申请(专利权)人：南京大学，
类型：发明
国别省市：