用于调制光源波长的设备和方法技术

用于控制激光系统的设备和方法，该激光系统能够生成具有多个交替波长的激光辐射的脉冲的脉冲串，其中控制波长的元件被预定位在脉冲串之间，以处于其产生一个波长的位置与其产生另一波长的位置之间波长。还公开了一种使用二次规划、动态规划、反向前馈控制或迭代学习控制来确定元件在位置之间移动的最佳控制波形的系统。诸如预填充的查找表或现场可编程门阵列的数据存储装置可以用于针对多个重复速率中的每个重复速率存储至少一个最佳控制参数。数。数。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于调制光源波长的设备和方法
[0001]相关申请的交叉引用
[0002]本申请要求于2019年5月14日提交的题为“APPARATUS FOR AND METHOD OF MODULATING A LIGHT SOURCE WAVELENGTH”的美国申请No.62/847,464的优先权，其整体通过引用被并入本文中。


[0003]本公开涉及用于生成例如在光刻设备中使用的多个激光束的系统和方法。

技术介绍

[0004]光刻设备将期望的图案施加到诸如半导体材料的晶片的衬底上，通常施加到衬底的目标部分上。备选地被称为掩膜或掩模版的图案形成装置可以被用来生成要在晶片的单个层上形成的电路图案。图案的转移通常通过成像到在衬底上提供的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上来完成。通常，单个衬底将包含被连续图案化的相邻目标部分。
[0005]光刻设备包括所谓的步进器和所谓的扫描仪，在该步进器中通过将整个图案一次曝光到目标部分上来辐射每个目标部分，在该扫描仪中，通过辐射束在给定方向(“扫描”方向)上扫描图案，同时通过以平行或反平行于该方向的方式同本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种激光系统，包括：致动器，具有第一状态和第二状态，在所述第一状态中所述致动器使所述激光系统生成具有第一波长的一个或多个激光辐射脉冲的第一脉冲串，在所述第二状态中所述致动器使所述激光系统生成具有第二波长的一个或多个激光辐射脉冲的第二脉冲串，所述第二波长不同于所述第一波长；以及致动控制器，被布置为向所述致动器提供信号以使所述致动器在脉冲串之间呈现第三状态，所述第三状态介于所述第一状态和所述第二状态。2.根据权利要求1所述的激光系统，其中所述第一状态是第一位置，所述第二状态是第二位置，并且所述第三状态是在所述第一位置与所述第二位置之间的第三位置。3.一种激光系统，包括：致动器，具有第一状态和第二状态，在所述第一状态中所述致动器使所述激光系统生成具有第一波长的一个或多个激光辐射脉冲的第一脉冲串，在所述第二状态中所述致动器使所述激光系统生成具有第二波长的一个或多个激光辐射脉冲的第二脉冲串，所述第二波长不同于所述第一波长；以及致动控制器，被布置为向所述致动器提供信号以使所述致动器从所述第一状态转变到所述第二状态，所述致动控制器包括被布置为计算针对使所述致动器从所述第一状态转变到所述第二状态的所述信号的最佳控制波形的模块，所述致动控制器使所述致动器在所述最佳控制波形的控制下沿着轨迹从所述第一状态转变到所述第二状态。4.根据权利要求3所述的激光系统，其中所述模块被适配为使用具有约束的二次规划来计算所述最佳控制波形。5.根据权利要求3所述的激光系统，其中所述模块被适配为使用动态规划来计算所述最佳控制波形。6.根据权利要求3所述的激光系统，其中所述模块被适配为使用模型反演前馈控制来计算所述最佳控制波形。7.根据权利要求3所述的激光系统，其中所述模块被适配为使用迭代学习控制来计算所述最佳控制波形。8.根据权利要求4所述的激光系统，其中所述模块还包括：用于针对多个重复速率中的每个重复速率存储至少一个最佳控制参数的部件。9.根据权利要求8所述的激光系统，其中用于针对多个重复速率中的每个重复速率存储至少一个最佳控制参数的所述部件包括预填充的查找表。10.根据权利要求8所述的激光系统，其中用于针对多个重复速率中的每个重复速率存储至少一个最佳控制参数的所述部件包括现场可编程门阵列。11.一种控制激光系统的方法，所述方法包括以下步骤：将致动器放置在第一状态，在所述第一状态中所述致动器使所述激光系统生成具有第一波长的一个或多个激光辐射脉冲的第一脉冲串；以及将所述致动器放置在第二状态，在所述第二状态中所述致动器使所述激光系统生成具有第二波长的一个或多个激光辐射脉冲的第二脉冲串，所述第二波长不同于所述第一波长；所述方法还包括：将所述致动器放置在第三状态的第三步骤，所述第三步骤在将所述
致动器放置在所述第一状态与将所述致动器放置在所述第二状态的步骤之间，所述第三状态介于所述第一状态和所述第...

【专利技术属性】
技术研发人员：邓国泰，R，
申请(专利权)人：西默有限公司，
类型：发明
国别省市：