近场偏馈毫米波双反射面天线及其控制方法、控制仿真方法技术

本发明专利技术中公开了一种近场偏馈毫米波双反射面天线及其控制方法、控制仿真方法，所述毫米波双反射面天线包括主反射面、副反射面和馈源，所述馈源发射出的波束经副反射面反射到主反射面后，经主反射面聚焦射出形成聚焦波束；所述副反射面位于馈源波束出射方向上，所述副反射面可沿一直线轨迹运动，所述直线轨迹位于馈源波束出射方向所在的竖直平面内，所述副反射面沿所述直线轨迹运动时，所述聚焦波束的出射方向保持不变。通过控制副反射面沿特定的轨迹运动，实现了毫米波双反射面天线焦距调节的同时，保证天线主反射面聚焦波束方向能够保持不变，满足天线近场变焦的功能需求。满足天线近场变焦的功能需求。满足天线近场变焦的功能需求。

【技术实现步骤摘要】
近场偏馈毫米波双反射面天线及其控制方法、控制仿真方法


[0001]本专利技术涉及毫米波天线
，特别涉及一种近场偏馈毫米波双反射面天线及其控制方法、控制仿真方法。

技术介绍

[0002]近年来，随着毫米波技术的发展，在大功率毫米波无线能量传输、毫米波成像、毫米波等离子体加热和毫米波人员拒止等领域获得了越来越多的应用。在其中的一些应用中(如毫米波无线能量传输、毫米波人员拒止)，目标处于发射天线近场区，同时目标与发射天线之间的距离实时变化。为了提高到达目标处的功率，需要实时调节毫米波发射天线聚焦焦点位置，使目标始终位于菲涅峰内。
[0003]文献“Millimetre wavelength variable focusingantenna for power beaming and active denialsystems，IET Microw.Antennas Propag.,2015，Vol.9,pp.1167
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1172”公开了一种毫米波可变焦反射面天线，通过改变副反射面位置从而实现天线聚焦焦点可变；但这种天线属本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.近场偏馈毫米波双反射面天线，其特征在于，包括主反射面、副反射面和馈源，所述馈源发射出的波束经副反射面反射到主反射面后，经主反射面聚焦射出形成聚焦波束；所述副反射面位于馈源波束出射方向上，所述副反射面可沿一直线轨迹运动，所述直线轨迹位于馈源波束出射方向所在的竖直平面内，所述副反射面沿所述直线轨迹运动时，所述聚焦波束的出射方向保持不变。2.根据权利要求1所述的近场偏馈毫米波双反射面天线，其特征在于，所述直线轨迹与馈源波束出射方向之间呈一设定的倾斜角度。3.根据权利要求2所述的近场偏馈毫米波双反射面天线，其特征在于，所述直线轨迹相对馈源波束出射方向朝下方倾斜设置，所述直线轨迹与馈源波束出射方向之间的倾斜角度根据所述双反射面天线参数通过电磁仿真方法确定。4.根据权利要求1、2或3所述的近场偏馈毫米波双反射面天线，其特征在于，所述副反射面沿直线轨迹运动的范围根据所述双反射面天线参数、聚焦波束的聚焦范围通过电磁仿真方法确定。5.根据权利要求1、2或3所述的近场偏馈毫米波双反射面天线，其特征在于，所述副反射面设置在一运动机构上，所述运动机构上设置有直线导轨，所述副反射面可沿所述直线导轨运动。6.根据权利要求5所述的近场偏馈毫米波双反射面天线，其特征在于，所述主反射面、馈源分别设置在一底座支架上，所述主反射面、馈源位于底座支架的一端，所述运动机构相对设置于底座的另一端。7.基于权利要求1
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6中任一所述近场偏馈毫米波双反射面天线的控制方法，其特征在于，通过控制副反射面运动对聚焦波束的出射焦距位置进行调节，并使聚焦波束的出射方向保持不变；包括：控制所述副反射面沿一设定轨迹运动，所述设定轨迹为位于馈源波束出射方向所在竖直平面内的直线轨迹。8....

【专利技术属性】
技术研发人员：孟凡宝，
申请(专利权)人：四川新明微波技术有限责任公司，
类型：发明
国别省市：