场发射显示元件的跨接支撑结构及其制作方法技术

一种场发射显示元件的跨接支撑结构及其制作方法，该场发射显示元件的跨接支撑结构包括：多个绝缘层，所述绝缘层以堆叠形式相互重叠；以及导电层，其设置在所述绝缘层的最后一层表面，其中该导电层具有形成在表面的凹槽。本发明专利技术场发射元件的跨接支撑结构是设置在场发射显示的阴极基板与阳极基板之间，以提供各电极导线的跨接，从而达到最短距离的导通路径，用以作为阴极基板与阳极基板之间的真空支撑，同时，设置在阴、阳极之间的电极导线结构均匀稳定，使得导通电路能够稳定并且维持最佳效果。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术是关于一种用于， 尤其是指一种用于场发射显示元件的阴极基板与阳极基板之间的跨接支撑 结构，利用该跨接支撑结构以达到阴极或阳极导线的跨接与支撑效果。
技术介绍
公知的二极场发射(FED)显示元件的应用范围广泛，例如家用电话显示 面板、车用仪表面板、户外照明装置及信号灯显示装置等用途，而近年来由 于纳米碳管(Carbon-nanotube)使用在发射元件中，所产生的电子发射光束 效率极佳，所以场发射显示元件大多采用纳米碳管。所以场发射显示器的电 子发射源将纳米碳管设置在场发射显示器的阴极导电层的电极上以形成电 子发射源的方法。然而该电子发射源材料的电子效率高，其对于电场的敏感度极高且显示 面板的电场均匀性，可使得产生光景影像均匀性提高，因此，电场机制的形 成结构(如阻隔壁支撑装置的高度均匀性及各电极阻抗的控制)是当前的重 要课题。所谓的阻隔壁支撑装置是为了保持阴极板与阳极板间真空区域的联系， 以避免外加电场使该阴极板与阳极板产生导通，该电场强度与该阴、阳极板 内各单元的阴、阳极的电压呈现正比关系；反之，与各单元阴、阳极间的间 隙呈现反比关系，因此阴、阳极板之间各单元的阴阳极间本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种场发射显示的支撑结构的制作方法，其特征在于：包含下列步骤：（ａ）提供基板；（ｂ）通过印制方式，将绝缘层形成在该基板上；（ｃ）通过第一预烤加工，以预烤该绝缘层表面；（ｄ）通过该印制方式，堆叠另一个绝缘层在该绝缘层上；（ｅ）通过该第一预烤加工，以预烤该另一个绝缘层表面；（ｆ）重复步骤（ｄ）（ｅ），以在该基板上堆叠印制出多个绝缘层；（ｇ）通过该印制方式，将导电层堆叠在最后一层绝缘层上；（ｈ）通过第二预烤加工，以预烤该导电层表面；（ｉ）通过压模方式，在该导电层表面形成凹槽；（ｊ）通过第三预烤加工，以预烤所述绝缘层与该导电层；以及（ｋ）通过烧结方式，以固化所述绝缘层与该导电层。

【技术特征摘要】
1.一种场发射显示的支撑结构的制作方法，其特征在于包含下列步骤(a)提供基板；(b)通过印制方式，将绝缘层形成在该基板上；(c)通过第一预烤加工，以预烤该绝缘层表面；(d)通过该印制方式，堆叠另一个绝缘层在该绝缘层上；(e)通过该第一预烤加工，以预烤该另一个绝缘层表面；(f)重复步骤(d)(e)，以在该基板上堆叠印制出多个绝缘层；(g)通过该印制方式，将导电层堆叠在最后一层绝缘层上；(h)通过第二预烤加工，以预烤该导电层表面；(i)通过压模方式，在该导电层表面形成凹槽；(j)通过第三预烤加工，以预烤所述绝缘层与该导电层；以及(k)通过烧结方式，以固化所述绝缘层与该导电层。2、 如权利要求1所述的场发射显示的支撑结构的制作方法，其特征在 于步骤(c)(e)的第一预烤加工为IO分钟的IO(TC度预烤工艺。3、 如权利要求1所述的场发射显示的支撑结构的制作方法，其特征在 于步骤(h)的第二预烤加工为2分钟的100度'C预烤工艺。4、 如权利要求1所述的场发射显示的支撑结构的制作方法，其特征在 于所述多个绝缘层所形成的厚度为50Kim。5、 如权利要求1所述的场发射显示的支撑结构的制作方法，其特征在 于该导电层所形成的厚度为25 30pm。6、 如权利要求1所述的场发射显示的支撑结构的制作方法，其特征在 于该导电层的涂料为具有玻璃粉的银胶涂料。7、 如权利要求1所述的场发射显示的支撑结构的制作方法，其特征在 于步骤(i)的压模方式为利用模板以对应该导电层，从而印压...

【专利技术属性】
技术研发人员：徐伟胜，高正杰，钟易蓉，
申请(专利权)人：东元电机股份有限公司，
类型：发明
国别省市：71[中国|台湾]