一种电子束蒸发台多功能观察窗制造技术

技术编号:31483347 阅读:21 留言:0更新日期:2021-12-18 12:17
本发明专利技术公开了一种电子束蒸发台多功能观察窗,属于电子束蒸发台观察窗技术领域,包括圆型遮板和矩形通口,所述矩形通口开设在所述圆型遮板上且所述矩形通口对角线交点位于所述圆型遮板圆心处,所述圆型遮板的一侧且位于所述矩形通口两边部处分别安装有第一中空条型侧架和第二中空条型侧架,通过启动旋转驱动组件可以调节上反光镜支架和下反光镜支架的角度以便于进行观察,通过清理杆驱动组件驱动清理杆组件可以清理上反光镜支架和下反光镜支架上的反光镜上的金属粒,并通过金属粒收集组件进行收集。组件进行收集。组件进行收集。

【技术实现步骤摘要】
一种电子束蒸发台多功能观察窗


[0001]本专利技术涉及一种电子束蒸发台观察窗,特别是涉及一种电子束蒸发台多功能观察窗,属于电子束蒸发台观察窗


技术介绍

[0002]金属化是半导体芯片制造过程中在绝缘介质薄膜上沉积金属薄膜以及随后刻印图形以便形成金属互连金属线和集成电路的孔填充塞的过程,半导体制造设备电子束蒸发台是将待蒸发的材料放置进坩埚,在真空系统中用电子束加热并使其蒸发,撞击到硅片表面凝结形成金属薄膜。
[0003]在一个高真空腔体内蒸镀金属膜,工艺腔体要安装一套电子枪,4个坩埚旋转机构蒸镀不同金属,2套加热灯,1套行星盘装置的固定安装,冷却水管路等等。
[0004]现在客户对设备的产能要求也比较高,所以在有限的腔体空间内,合理优化出合适的空间,又能满足工艺要求,产能要求,维护还方便,是对腔体的设计提出大的挑战。
[0005]工艺腔体的大小,决定了设备的总尺寸,过于庞大的设备会占用半导体加工厂房的面积,洁净级别的厂房建设费用是非常高昂的。
[0006]目前在市场上的电子束蒸发台主要是日本ULVAC和美国CHA MARK50等进口品牌,它们的设备腔体设计方式都偏于庞大和载片少的问题,为此设计一种电子束蒸发台多功能观察窗来解决上述问题。

技术实现思路

[0007]本专利技术的主要目的是为了提供一种电子束蒸发台多功能观察窗,在观察窗的玻璃前端按照一个同样直径的圆型遮板,在上反光镜支架和下反光镜支架上放置反光镜,通过启动升降驱动组件可带动两组主调节滑块的调节,通过两组主调节滑块的调节带动上反光镜支架和下反光镜支架在垂直方向进行反向运动调节至合适位置,通过启动旋转驱动组件可以调节上反光镜支架和下反光镜支架的角度以便于进行观察,通过清理杆驱动组件驱动清理杆组件可以清理上反光镜支架和下反光镜支架上的反光镜上的金属粒,并通过金属粒收集组件进行收集。
[0008]本专利技术的目的可以通过采用如下技术方案达到:
[0009]一种电子束蒸发台多功能观察窗,包括圆型遮板和矩形通口,所述矩形通口开设在所述圆型遮板上且所述矩形通口对角线交点位于所述圆型遮板圆心处,所述圆型遮板的一侧且位于所述矩形通口两边部处分别安装有第一中空条型侧架和第二中空条型侧架,所述第二中空条型侧架的顶部贯穿设有升降驱动组件,所述第二中空条型侧架的内侧设有可被所述升降驱动组件驱动升降的两组主调节滑块,且两组主调节滑块分别位于所述第二中空条型侧架内侧的上方和下方处,所述第一中空条型侧架的内侧设有与主调节滑块对应配合的辅限位滑块组件,所述辅限位滑块组件与对应的主调节滑块之间分别设有上反光镜支架和下反光镜支架,所述主调节滑块的外侧设有可驱动所述上反光镜支架和下反光镜支架
进行角度调节的旋转驱动组件,所述上反光镜支架和下反光镜支架上开设有一侧开口的放置槽,且在所述放置槽内放置有反光镜,所述上反光镜支架和下反光镜支架的一侧端部皆设有清理杆驱动组件,且所述清理杆驱动组件上设有贯穿所述上反光镜支架和下反光镜支架侧部位于反光镜上的清理杆组件,所述上反光镜支架和下反光镜支架的侧边部设有金属粒收集组件。
[0010]优选的,所述升降驱动组件包括升降调节电机和升降螺杆,所述第二中空条型侧架的顶中部安装有升降调节电机,所述升降调节电机的输出端贯穿所述第二中空条型侧架安装有升降螺杆,所述升降螺杆的外侧啮合有两组主调节滑块,其中所述升降螺杆的上部分和下部分螺纹相反。
[0011]优选的,所述辅限位滑块组件包括限位滑杆和辅助调节滑块,所述第一中空条型侧架的内侧沿所述第一中空条型侧架轴向上安装有限位滑杆,所述限位滑杆的外侧套设有两组辅助调节滑块,且一组辅助调节滑块位于所述限位滑杆上方,另一组辅助调节滑块位于所述限位滑杆下方。
[0012]优选的,所述旋转驱动组件包括角度调节电机和转杆,所述主调节滑块的外侧边部安装有角度调节电机,所述角度调节电机的输出端贯穿所述主调节滑块安装有转杆,两组转杆和两组辅助调节滑块之间分别安装有上反光镜支架和下反光镜支架。
[0013]优选的,所述清理杆驱动组件包括侧端固定块、清理电机和清理杆驱动螺杆,所述侧端固定块安装在所述上反光镜支架和下反光镜支架一侧的端部处,所述侧端固定块的一侧中部安装有清理电机,所述清理电机的输出端安装有贯穿所述侧端固定块的清理杆驱动螺杆,所述清理杆驱动螺杆的外侧啮合有清理杆组件。
[0014]优选的,所述清理杆组件包括清理杆、清理滑块和清理毛刷,所述清理滑块套设在所述清理杆驱动螺杆的外侧并与所述清理杆驱动螺杆啮合,所述清理滑块的一侧安装有清理杆,且所述清理杆贯穿所述上反光镜支架和下反光镜支架至反光镜顶侧方处。
[0015]优选的,所述金属粒收集组件包括金属颗粒收集槽、金属颗粒收集槽口和金属颗粒侧导出条槽口,所述上反光镜支架和下反光镜支架的边部开设有金属颗粒侧导出条槽口,所述上反光镜支架和下反光镜支架开设有金属颗粒侧导出条槽口的侧底部处安装有金属颗粒收集槽,所述金属颗粒收集槽的顶部沿所述金属颗粒收集槽轴向上开设有金属颗粒收集槽口。
[0016]优选的,所述圆型遮板的外侧环绕固定有支腿,且所述支腿侧截面为V字形结构。
[0017]优选的,所述下反光镜支架和上反光镜支架内侧壁设有弹性限位压持条。
[0018]本专利技术的有益技术效果:
[0019]本专利技术提供的一种电子束蒸发台多功能观察窗,在观察窗的玻璃前端按照一个同样直径的圆型遮板,在上反光镜支架和下反光镜支架上放置反光镜,通过启动升降驱动组件可带动两组主调节滑块的调节,通过两组主调节滑块的调节带动上反光镜支架和下反光镜支架在垂直方向进行反向运动调节至合适位置,通过启动旋转驱动组件可以调节上反光镜支架和下反光镜支架的角度以便于进行观察,通过清理杆驱动组件驱动清理杆组件可以清理上反光镜支架和下反光镜支架上的反光镜上的金属粒,并通过金属粒收集组件进行收集。
附图说明
[0020]图1为按照本专利技术的一种电子束蒸发台多功能观察窗的一优选实施例的装置整体第一视角立体结构图;
[0021]图2为按照本专利技术的一种电子束蒸发台多功能观察窗的一优选实施例的装置整体第二视角立体结构图;
[0022]图3为按照本专利技术的一种电子束蒸发台多功能观察窗的一优选实施例的装置整体第三视角立体结构图;
[0023]图4为按照本专利技术的一种电子束蒸发台多功能观察窗的一优选实施例的c处结构放大图;
[0024]图5为按照本专利技术的一种电子束蒸发台多功能观察窗的一优选实施例的a处结构放大图;
[0025]图6为按照本专利技术的一种电子束蒸发台多功能观察窗的一优选实施例的b处结构放大图。
[0026]图中:1

圆型遮板,2

支腿,3

第一中空条型侧架,4

第二中空条型侧架,5

升降调节电机,6

矩形通口,7

上反光镜支架,8
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种电子束蒸发台多功能观察窗,其特征在于:包括圆型遮板(1)和矩形通口(6),所述矩形通口(6)开设在所述圆型遮板(1)上且所述矩形通口(6)对角线交点位于所述圆型遮板(1)圆心处,所述圆型遮板(1)的一侧且位于所述矩形通口(6)两边部处分别安装有第一中空条型侧架(3)和第二中空条型侧架(24),所述第二中空条型侧架(24)的顶部贯穿设有升降驱动组件,所述第二中空条型侧架(24)的内侧设有可被所述升降驱动组件驱动升降的两组主调节滑块(10),且两组主调节滑块(10)分别位于所述第二中空条型侧架(24)内侧的上方和下方处,所述第一中空条型侧架(3)的内侧设有与主调节滑块(10)对应配合的辅限位滑块组件,所述辅限位滑块组件与对应的主调节滑块(10)之间分别设有上反光镜支架(7)和下反光镜支架(8),所述主调节滑块(10)的外侧设有可驱动所述上反光镜支架(7)和下反光镜支架(8)进行角度调节的旋转驱动组件,所述上反光镜支架(7)和下反光镜支架(8)上开设有一侧开口的放置槽(20),且在所述放置槽(20)内放置有反光镜,所述上反光镜支架(7)和下反光镜支架(8)的一侧端部皆设有清理杆驱动组件,且所述清理杆驱动组件上设有贯穿所述上反光镜支架(7)和下反光镜支架(8)侧部位于反光镜上的清理杆组件,所述上反光镜支架(7)和下反光镜支架(8)的侧边部设有金属粒收集组件。2.根据权利要求1所述的一种电子束蒸发台多功能观察窗,其特征在于:所述升降驱动组件包括升降调节电机(5)和升降螺杆(14),所述第二中空条型侧架(4)的顶中部安装有升降调节电机(5),所述升降调节电机(5)的输出端贯穿所述第二中空条型侧架(4)安装有升降螺杆(14),所述升降螺杆(14)的外侧啮合有两组主调节滑块(10),其中所述升降螺杆(14)的上部分和下部分螺纹相反。3.根据权利要求2所述的一种电子束蒸发台多功能观察窗,其特征在于:所述辅限位滑块组件包括限位滑杆(21)和辅助调节滑块(9),所述第一中空条型侧架(3)的内侧沿所述第一中空条型侧架(3)轴向上安装有限位滑杆(21),所述限位滑杆(21)的外侧套设有两组辅助调节滑块(9),且一组辅助调节滑块(9)位于所述限位滑杆(21)上方,另一组辅助调节滑块(9)位于所述限位...

【专利技术属性】
技术研发人员:马溢华赵志强
申请(专利权)人:无锡芯谱半导体科技有限公司
类型:发明
国别省市:

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