用于从废气中去除颗粒的气体清洗器和废气处理设备制造技术

用于从废气中去除颗粒的气体清洗器和具有气体清洗器的废气处理设备，包括：具有废气入口和废气出口的壳体；板件，其围绕其自身的轴线能转动地布置在壳体中并且基本上为圆形，其中，废气可经由废气入口被导入到板件的大致中部；排出喷嘴，用于将液体、尤其清洁液或清洗液喷洒到板件上，以便在板件之前获得废气和液体的混合物；内转子组件和与内转子组件间隔开的外转子组件，它们围绕轴线可转动地布置；内定子组件和与该内定子组件间隔开地布置的外定子组件，其中，转子组件和定子组件为了产生湍流而彼此交替地并且同心地布置，从而能够将来自废气流的颗粒传递到液体中。此外，设置有用于雾化液体的旋转式雾化器，其尤其布置在圆形的板件上。形的板件上。形的板件上。

【技术实现步骤摘要】
用于从废气中去除颗粒的气体清洗器和废气处理设备


[0001]本专利技术涉及一种用于从废气中去除颗粒的气体清洗器。此外，本专利技术涉及一种具有气体清洗器的废气处理设备。
[0002]在半导体工业中，通常通过化学气相沉积(chemical vapour deposition
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CVD)将薄层施加到不同的基底上，并且通过用反应气体蚀刻使其结构化。在这种过程中会产生有毒的、可燃的、腐蚀性的或冷凝的气体的混合物。因此，这些气体混合物必须尽可能靠近其产生的地点被处理。通过这些混合物的化学反应经常产生＜1μm范围内的极细颗粒，其用传统的气体清洗器仅不完全地被洗出。在非常高的颗粒浓度下，静电分离器也是不合适的。
[0003]在使用用于废气清洁的设备时应用不同技术。因此，能够对废气进行燃烧、洗出或清除极细颗粒。为了清洁由生产半导体产品(例如基于硅或LED的太阳能模块)产生的废气，这种设备通常连续运行地，即每天24小时和每周七天地运行。然而，本专利技术还包括用于处理废气流(例如工艺气体流)的装置。这种废气流可以在处理链内在分离器中处理之后被进一步本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于从废气中去除颗粒、尤其是灰尘的气体清洗器(1)，包括：壳体(10)，所述壳体具有废气入口(2)和废气出口(3)；板件(8)，所述板件围绕其自身的轴线(11)能转动地布置在所述壳体(10)中并且基本上为圆形，其中，所述废气能够经由所述废气入口(2)被导入到所述板件(8)的大致中部(15)；排出喷嘴(12)，用于将液体(13)、尤其清洁液或清洗液喷洒到所述板件(8)上，以便在所述板件(8)之前获得由所述废气和所述液体(13)组成的混合物；至少一个内转子组件(4)和与所述内转子组件(4)间隔开的外转子组件(5)，所述内转子组件和所述外转子组件围绕所述轴线(11)能转动地布置；至少一个内定子组件(6)和与所述内定子组件间隔开地布置的外定子组件(7)，其中，所述内转子组件(4)和所述外转子组件(5)以及所述内定子组件(6)和所述外定子组件(7)为了产生湍流而彼此交替地并且同心地布置，从而能够将来自废气流的颗粒传递到所述液体(13)中，其特征在于，设置有用于雾化所述液体(13)的旋转式雾化器(20)，所述旋转式雾化器尤其布置在圆形的所述板件(8)上。2.根据权利要求1所述的气体清洗器(1)，其特征在于，所述旋转式雾化器(20)构型为具有撕裂棱边(21)的盘。3.根据权利要求1或2所述的气体清洗器(1)，其特征在于，所述旋转式雾化器(20)朝向其外边缘凹进地成形。4.根据前述权利要求中任一项所述的气体清洗器(1)，其特征在于，所述旋转式雾化器(20)在其中心(32)处具有凸出的隆起(33)，所述隆起优选达到或超过所述撕裂棱边(21)的高度。5.根据前述权利要求中任一项所述的气体清洗器(1)，其特征在于，所述内转子组件(4)和所述外转子组件(5)由一共同的轴驱动。6.根据前述权利要求中任一项所述的气体清洗器(1)，其特征在于，所述内转子组件(4)和所述外转子组件(5)与圆形的所述板件(8)机械地作用连接，尤其布置在该板件上。7.根据前述权利要求中任一项所述的气体清洗器(1)，其特征在于，在所述气体清洗器(1)的外周上设置第一转向板(16)。8.根据前述权利要求中任一项所述的气体清洗器(1)，其特征在于，布置有第二转向板(17)，尤其是，该第二转向板与所述第一转向板(16)径向地间隔开。9.根据前述权利要求中任...

【专利技术属性】
技术研发人员：M，
申请(专利权)人：达斯环境专家有限责任公司，
类型：发明
国别省市：