【技术实现步骤摘要】
一种电容自动清洗设备
[0001]本技术属于属于电容倒角清洗领域,尤其涉及一种电容自动清洗设备。
技术介绍
[0002]在MLCC电容生产工艺中,烧结成瓷的电容器与水和磨介装在倒角罐,通过球磨、行星磨等方式运动,使之形成光洁的表面,以保证产品的内电极充分暴露,保证内外电极的连接,倒角后的电容、磨介与残渣混合一起放置在研磨桶内,实际生产时需要将研磨桶内的电容清洗干净才能进行下一道工艺。
[0003]而现有的对研磨桶的清洗方式主要还是由人工清洗,这样无法保证每次的清洗时间与清洗效果,不符合实际的使用需求。
技术实现思路
[0004]本技术目的是为了克服现有技术的不足而提供一种操作方便省力,集电容卸料、定时自动清洗、沥水于一体的电容自动清洗设备。
[0005]为达到上述目的,本技术采用的技术方案是:一种电容自动清洗设备,包括设于箱体内的:
[0006]卸料组件,所述卸料组件包括卸料槽,且,所述卸料槽的上方设有卸料水龙头;所述卸料槽内设有隔层架;
[0007]冲洗组件,所述冲洗组件设于所述 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种电容自动清洗设备,其特征在于,包括设于箱体内的:卸料组件,所述卸料组件包括卸料槽,且,所述卸料槽的上方设有卸料水龙头;所述卸料槽内设有隔层架;冲洗组件,所述冲洗组件设于所述卸料组件的一侧;其中,所述冲洗组件包括冲洗槽,在所述冲洗槽的上方设有冲洗水龙头;所述冲洗槽内设有经由转动机构可转动的冲洗桶托架;沥水组件,所述沥水组件设于所述冲洗组件一侧,所述沥水组件包括沥水槽,所述沥水槽的上方设有沥水架;沉淀池,所述沉淀池设于所述沥水组件的下方,且所述沉淀池与所述卸料槽、冲洗槽以及沥水槽相通;其中,在所述沉淀池内还设有过滤组件,用于过滤沉淀池内的杂质后排出。2.根据权利要求1所述的电容自动清洗设备,其特征在于:所述转动机构包括转轴,所述转轴通过联轴器与减速电机相连;所述转轴穿过冲洗槽与托盘相连,冲洗桶托架设置在托盘上;其中,所述转轴上靠近托盘一侧套设有轴承。3.根据权利要求1或2所述的电容自动清洗设备,其特征在于,在所述冲洗水龙头上设有限位机构,用于对冲洗水龙头进行限位,所述限位机构包括:限位板,所述限位板套...
【专利技术属性】
技术研发人员:陈碧安,倪康,
申请(专利权)人:喜而诺盛自动化科技苏州有限公司,
类型:新型
国别省市:
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