本发明专利技术公开了一种垫圈，包括一垫圈本体、一光穿透膜及一吸光膜，垫圈本体具有一外侧面、一内斜面、一物侧面及一像侧面。物侧面朝向一物侧，且连接外侧面及内斜面。像侧面朝向一像侧，且连接外侧面及内斜面。内斜面位于垫圈的一光轴与外侧面之间，内斜面包括一靠近光轴的内缘与一远离光轴的外缘，且内缘形成一通光孔。光穿透膜与吸光膜设置在内斜面上，其中垫圈本体的所有朝向光轴的表面皆相对于光轴倾斜。垫圈符合Do/Tmax≦55.000，其中Do为垫圈在垂直于光轴的方向上的最大外径，且Tmax为垫圈在光轴的方向上的最大厚度。所述垫圈能够有利于配合镜筒与透镜的应力传递增加结构强度以进行透镜安装并且有效改善杂散光问题。进行透镜安装并且有效改善杂散光问题。进行透镜安装并且有效改善杂散光问题。
【技术实现步骤摘要】
垫圈
[0001]本专利技术涉及光学组件，且特别是有关于一种垫圈。
技术介绍
[0002]现有光学成像镜头在设计组装结构时，倘若相邻的透镜的光学边界距离太远，因着透镜射出成型的限制，其透镜的组装部需要在透镜间设置垫圈以进行安装。常见的垫圈为黑色塑料材质，可用于吸光并且减少镜筒内的杂散光。但在光学成像镜头的应力结构设计上，塑料垫圈的结构强度较弱，当垫圈厚度较薄时容易造成变形而造成偏心而有结构强度不足的问题。然而，当垫圈采用金属材质则会衍生金属表面易反射而造成各种杂散光的问题，目前解决的方式是在金属垫圈涂布特殊墨水来遮盖金属表面，但金属垫圈通光孔在涂布特殊墨水时，特殊墨水在干掉后有时会无法完全包覆金属垫圈通光孔，使得金属垫圈的尖角裸露出来造成放射状杂散光(shower flare)。因此，如何设计结构强度够且可降低杂散光的垫圈是业界长久需要解决的问题。
[0003]此外，在现有技术以射出成形制程制造塑料垫圈的过程中，垫圈的通光孔会受限于塑料材料本身的限制，而无法达到原有设计模具尖角的结构，反而产生圆角的结构。当不同角度的光射至通光孔之圆角结构时，也将产生放射状杂散光，也是需要解决之问题。
技术实现思路
[0004]本专利技术提供一种垫圈，其能够有利于配合镜筒与透镜的应力传递增加结构强度以进行透镜安装并且有效改善杂散光问题。
[0005]本专利技术的实施例提出一种垫圈，包括一垫圈本体、一光穿透膜及一吸光膜，垫圈本体具有一外侧面、一内斜面、一物侧面及一像侧面。物侧面朝向一物侧，且连接外侧面及内斜面。像侧面朝向一像侧，且连接外侧面及内斜面。内斜面位于垫圈的一光轴与外侧面之间，内斜面包括一靠近光轴的内缘与一远离光轴的外缘，内缘形成一通光孔，且垫圈本体的材质为金属。光穿透膜与吸光膜设置在内斜面上，其中垫圈本体的所有朝向光轴的表面皆相对于光轴倾斜。垫圈符合Do/Tmax≦55.000，其中Do为垫圈在垂直于光轴的方向上的最大外径，且Tmax为垫圈在光轴的方向上的最大厚度。
[0006]本专利技术的实施例提出一种垫圈，包括一垫圈本体、一光穿透膜及一吸光膜，垫圈本体具有一外侧面、一内斜面、一物侧面及一像侧面。物侧面朝向一物侧，且连接外侧面及内斜面。像侧面朝向一像侧，且连接外侧面及内斜面。内斜面位于垫圈的一光轴与外侧面之间，内斜面包括一靠近光轴的内缘与一远离光轴的外缘，内缘形成一通光孔，且内斜面具有微结构。内斜面的面粗糙度大于物侧面的面粗糙度，内斜面的面粗糙度大于像侧面的面粗糙度，且垫圈本体的材质为金属。光穿透膜与吸光膜设置在内斜面上。垫圈符合Do/Tmax≦55.000，其中Do为垫圈在垂直于光轴的方向上的最大外径，且Tmax为垫圈在光轴的方向上的最大厚度。
[0007]本专利技术的实施例提出一种垫圈，包括一垫圈本体、一光穿透膜及一吸光膜，垫圈本
体具有一外侧面、一内斜面、一物侧面及一像侧面。物侧面朝向一物侧，且连接外侧面及内斜面。像侧面朝向一像侧，且连接外侧面及内斜面。内斜面位于垫圈的一光轴与外侧面之间，内斜面包括一靠近光轴的内缘与一远离光轴的外缘，内缘形成一通光孔，且内斜面具有微结构。内斜面的面粗糙度大于物侧面的面粗糙度，且大于像侧面的面粗糙度。内斜面的面粗糙度大于等于0.200微米，且小于等于7.000微米。光穿透膜与吸光膜设置在内斜面上。垫圈符合Do/Tmax≦55.000，其中Do为垫圈在垂直于光轴的方向上的最大外径，且Tmax为垫圈在光轴的方向上的最大厚度。
[0008]其中该吸光膜配置于该光穿透膜与该垫圈本体之间。
[0009]所述垫圈，进一步，其中吸光膜配置于光穿透膜与垫圈本体之间。
[0010]进一步，其中光穿透膜为抗反射多层膜。
[0011]进一步，其中光穿透膜包括至少一第一层以及至少一第二层，至少一第二层的折射率低于至少一第一层的折射率，至少一第一层与至少一第二层交替堆栈。
[0012]进一步，其中内斜面在400～870纳米波长光线范围内之反射率小于等于0.600％。
[0013]进一步，其中微结构呈不规则分布。
[0014]进一步，其中微结构包括多个从内缘往外缘延伸的凸条。
[0015]进一步，其中垫圈符合Do/Lbmax≦40.000，其中Lbmax为内斜面从内缘至外缘的长度。
[0016]进一步，其中垫圈符合Do/|Di o-Di i|≦33.000，其中Di o为物侧面的内径，且Di i为像侧面的内径。
[0017]进一步，其中内斜面相对于光轴的倾斜角大于等于5.000度，且小于等于70.000度。
[0018]在本专利技术的实施例的垫圈中，由于采用内斜面及配置于其上的光穿透膜及吸光膜来有效降低内斜面的反射率，因此可以有效改善垫圈产生杂散光的问题。
附图说明
[0019]图1为本专利技术的一实施例的垫圈设置于镜头模块的镜筒中的剖面示意图。
[0020]图2为图1的垫圈的物侧正视图。
[0021]图3为图2的垫圈沿着J-J线的剖面示意图。
[0022]图4为图1的垫圈从光轴往径向方向向外看所看到的垫圈的内斜面的示意图。
[0023]图5为图3之光穿透膜与吸光膜的局部放大剖面示意图。
[0024]图6为本专利技术的另一实施例的垫圈从光轴往径向方向向外看所看到的垫圈的内斜面的示意图。
[0025]图7为本专利技术的又一实施例的垫圈的剖面示意图。
[0026]图8为本专利技术的再一实施例的垫圈的剖面示意图。
[0027]图9为本专利技术的另一实施例的垫圈的剖面示意图。
[0028]图10为本专利技术的又一实施例的垫圈的剖面示意图。
[0029]图11为本专利技术的再一实施例的垫圈的剖面示意图。
[0030]图12为本专利技术的另一实施例的垫圈的垫圈本体在垂直于光轴的一参考平面上的正投影的示意图。
[0031]图13为上述各实施例的垫圈的内斜面的反射频谱。
[0032]图14为上述各实施例的垫圈本体的各项参数表。
具体实施方式
[0033]在开始详细描述本专利技术之前，首先清楚表示附图中的符号说明：100、100b、100c、100d、100e、100f:垫圈；110:光穿透膜；112:第一层；114:第二层；120:吸光膜；200:镜头模块；210:镜筒；220:透镜保持器；300、300b、300c、300d、300e、300f:垫圈本体；310:外侧面；320、320a、320b:内斜面；322:内缘；324:外缘；326、326a:微结构；327a:凸条；329a:沟槽；330、330b、330c、330d、330e、330f:物侧面；332c、332d、332e、332f、338e、338f、342d、342e、342f:径向延伸面；334c、334f、336d、344e、344f、346f:倾斜表面；339e、339f:倾斜连接面；340、340b、340d、340e、340f:像侧面；344d:弯曲表面；348f:径向本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种垫圈，包括：一垫圈本体，具有：一外侧面；一内斜面；一物侧面，朝向一物侧，且连接该外侧面及该内斜面；以及一像侧面，朝向一像侧，且连接该外侧面及该内斜面，其中该内斜面位于该垫圈的一光轴与该外侧面之间，该内斜面包括一靠近该光轴的内缘与一远离该光轴的外缘，该内缘形成一通光孔，且该垫圈本体的材质为金属；以及一光穿透膜与一吸光膜，设置在该内斜面上，其中，该垫圈本体的所有朝向该光轴的表面皆相对于该光轴倾斜，且该垫圈符合Do/Tmax≦55.000，其中Do为该垫圈在垂直于该光轴的方向上的最大外径，且Tmax为该垫圈在该光轴的方向上的最大厚度。2.一种垫圈，包括：一垫圈本体，具有：一外侧面；一内斜面；一物侧面，朝向一物侧，且连接该外侧面及该内斜面；以及一像侧面，朝向一像侧，且连接该外侧面及该内斜面，其中该内斜面位于该垫圈的一光轴与该外侧面之间，该内斜面包括一靠近该光轴的内缘与一远离该光轴的外缘，该内缘形成一通光孔，该内斜面具有微结构，且该内斜面的面粗糙度大于该物侧面的面粗糙度，且该内斜面的面粗糙度大于该像侧面的面粗糙度，且该垫圈本体的材质为金属；以及一光穿透膜与一吸光膜，设置在该内斜面上，其中，该垫圈符合Do/Tmax≦55.000，其中Do为该垫圈在垂直于该光轴的方向上的最大外径，且Tmax为该垫圈在该光轴的方向上的最大厚度。3.一种垫圈，包括：一垫圈本体，具有：一外侧面；一内斜面；一物侧面，朝向一物侧，且连接该外侧面及该内斜面；以及一像侧面，朝向一像侧，且连接该外侧面及该内斜面，其中该内斜面位于该垫圈的一光轴与该外侧面之间，该内斜面包括一靠近该光轴的...
【专利技术属性】
技术研发人员：徐子文，陈君礁，詹海斌，
申请(专利权)人：玉晶光电厦门有限公司，
类型：发明
国别省市：
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