一种清洁抛光盘制造技术

本实用新型专利技术涉及磨具技术领域，具体涉及一种清洁抛光盘，包括弹性层、设置于弹性层上表面的第一胶粘层、设置于第一胶粘层上表面的磨砂层、设置于弹性层下表面的囊状体层、设置于囊状体层下表面的第二胶粘层，以及设置于第二胶粘层下表面的离型纸层，磨砂层的上表面凸设有若干均匀分布的凸起部，凸起部呈矩阵状分布。本实用新型专利技术的清洁抛光盘结构简单，通过在磨砂层的表面设置呈矩阵状分布的凸起部，抛光过程中抛光液可以在相邻凸起部之间排出，而且由于凸起部的设置增加了抛光盘与被抛光物品之间的空隙，便于抛光过程中散热，另外，还有利于排出磨削屑，避免了磨削屑堆积而损伤工件表面。面。面。

【技术实现步骤摘要】
一种清洁抛光盘


[0001]本技术涉及磨具
，具体涉及一种清洁抛光盘。

技术介绍

[0002]抛光玻璃制品或金属制品所需核心工具之一为抛光盘。目前市场上所生产的抛光盘内部气孔分布不均匀，磨粒硬度高，许多远高于玻璃制品的硬度，例如以氧化铝作为磨粒的抛光盘，在抛光过程中特别容易使玻璃表面造成划伤。目前的抛光盘耐磨性差，抛光过程中温升严重，造成工件形貌发生变化，被研磨后的工件表面极易出现划痕和炸纹，严重影响抛光品的抛光质量、抛光精度和抛光速度，而且现有的抛光盘表面为磨砂结构，磨料不能及时排出，磨料堆积而损伤工件，且研磨表面容易被磨料划伤。

技术实现思路

[0003]为了克服现有技术中存在的缺点和不足，本技术的目的在于提供一种清洁抛光盘，该清洁抛光盘结构简单，通过在磨砂层的表面设置呈矩阵状分布的凸起部，抛光过程中抛光液可以在相邻凸起部之间排出，而且由于凸起部的设置增加了抛光盘与被抛光物品之间的空隙，便于抛光过程中散热，另外，还有利于排出磨削屑，避免了磨削屑堆积而损伤工件表面，大大提高了清洁质量和效率；另外设置的囊状体层自我储备一部本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种清洁抛光盘，其特征在于：包括弹性层、设置于所述弹性层上表面的第一胶粘层、设置于第一胶粘层上表面的磨砂层、设置于弹性层下表面的囊状体层、设置于囊状体层下表面的第二胶粘层，以及设置于第二胶粘层下表面的离型纸层，所述磨砂层的上表面凸设有若干均匀分布的凸起部，所述凸起部呈矩阵状分布。2.根据权利要求1所述的一种清洁抛光盘，其特征在于：所述磨砂层设有若干贯穿磨砂层的针孔，且所述针孔位于凸起部之间。3.根据权利要求1所述的一种清洁抛光盘，其特征在于：相邻两个所述凸起部之间的间距为3
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6mm。4.根据权利要求1所述的一种清洁抛光盘，其特征在于：所述凸起部厚度占磨砂层厚度的1/2
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3/4。5.根据...

【专利技术属性】
技术研发人员：郭丙力，方红，
申请(专利权)人：东莞金太阳研磨股份有限公司，
类型：新型
国别省市：