一种清洁基站和清洁系统技术方案

本申请实施例提供一种清洁基站和清洁系统，清洁基站包括清洗装置以及基站主体，基站主体与清洗装置围设成污水腔和工作腔，污水腔位于工作腔的下方，基站主体形成有导引部和挡水部，沿导引方向，导引部位于挡水部背离清洗装置的一侧，挡水部凸出于导引部的顶表面。由于挡水部凸出于导引部的顶表面起到挡水的作用，即使清洗装置中的水位高于导引部的顶表面，污水腔中的水难以越过挡水部从污水腔溢出至导引部，污水溅入导引部上方主机内的可能性较低，降低了污水进入主机造成清洁设备的主机损坏的可能性。损坏的可能性。损坏的可能性。

【技术实现步骤摘要】
一种清洁基站和清洁系统


[0001]本申请涉及清洁设施
，尤其涉及一种清洁基站和清洁系统。

技术介绍

[0002]清洁设备通常包括主机和清洁件，通过清洁件对地面或其它的清洁对象进行清洁处理后，清洁设备需要移动至清洁基站，通过清洁基站对清洁件进行清洗。相关技术中，当清洁基站对清洁设备进行清洗的过程中，污水有可能会进入到主机造成清洁设备的主机损坏。

技术实现思路

[0003]有鉴于此，本申请实施例期望提供一种清洁基站和清洁系统，降低污水进入清洁设备的主机造成清洁设备的主机损坏的可能性。
[0004]为达到上述目的，本申请实施例一方面提供一种清洁基站，包括：
[0005]清洗装置；以及
[0006]基站主体，与所述清洗装置围设成污水腔和工作腔，所述污水腔位于所述工作腔的下方，所述基站主体形成有导引部和挡水部，沿导引方向，所述导引部位于所述挡水部背离所述清洗装置的一侧，所述挡水部凸出于所述导引部的顶表面。
[0007]一实施例中，所述挡水部的形状呈长条状，所述挡水部沿所述基站主体的宽度方向延伸设置。...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种清洁基站，其特征在于，包括：清洗装置(1)；以及基站主体(2)，与所述清洗装置(1)围设成污水腔(3)和工作腔(4)，所述污水腔(3)位于所述工作腔(4)的下方，所述基站主体(2)形成有导引部(21)和挡水部(22)，沿导引方向，所述导引部(21)位于所述挡水部(22)背离所述清洗装置(1)的一侧，所述挡水部(22)凸出于所述导引部(21)的顶表面(211)。2.根据权利要求1所述的清洁基站，其特征在于，所述挡水部(22)的形状呈长条状，所述挡水部(22)沿所述基站主体(2)的宽度方向延伸设置。3.根据权利要求1所述的清洁基站，其特征在于，所述基站主体(2)形成有定位部(23)；所述挡水部(22)的数量为多个，多个所述挡水部(22)沿所述基站主体(2)的宽度方向间隔设置，相邻两个所述挡水部(22)之间设置有所述定位部(23)，所述定位部(23)具有第一定位槽(231)，所述第一定位槽(231)的最低位置低于所述挡水部(22)的最高位置。4.根据权利要求1所述的清洁基站，其特征在于，所述挡水部(22)具有缓冲面(221)，所述缓冲面(221)位于所述挡水部(22)背离所述清洗装置(1)的一侧，沿所述挡水部(22)背离所述清洗装置(1)的方向，所述缓冲面(221)的高度逐渐降低。5.根据权利要求1～4任一项所述的清洁基站，其特征在于，所述基站主体(2)包括：下基座(24)；上基座(25)，与所述下基座(24)连接，所述上基座(25)、所述下基座(24)以及所述清洗装置(1)围设成所述工作腔(4)；以及托盘(26)，安装于所述下基座(24)，所述托盘(26)与所述清洗装置(1)围设成所述污水腔(3)，所述挡水部(22)和所述导引部(21)均形成于所述托盘(26)。6.根据权利要求1～4任一项所述的清洁基站，其特征在于，所述工作腔(4)包括容纳腔(41)和清洗槽(42)，所述清洗装置(1)包括：清洗装置主体(11)；以及挡板(12)，沿所述清洗装置(1)的周围设置，所述挡板(12)与所述清洗装置主体(11)围设成所述清洗槽(42)以及连通所述清洗槽(42)的第一开口(13)和第二开口(14)，所述第一开口(13)和所述第二开口(14)均与所述容纳腔(41)连通，所述第一开口(13)位于所述清洗槽(42)的上方，所述第二开口(14)位于所述清洗槽(42)朝向所述挡水部(22)件的一侧。7.根据权利要求1～4任一项所述的清洁基站，其特征...

【专利技术属性】
技术研发人员：朱金钟，张金龙，张猛，
申请(专利权)人：美智纵横科技有限责任公司，
类型：新型
国别省市：