【技术实现步骤摘要】
自动调整离子束溅射角和入射角的离子镀装置及方法
[0001]本专利技术属于电子机械真空离子镀
,涉及一种自动调整离子束溅射角和入射角的离子镀装置及方法。
技术介绍
[0002]离子源采用电子的能量存在分布的特性,收集二次电子,并形成离子束,使较低动能的电子采用较高电位的收集极,软着陆于工件表面,降低电子与工件表面的碰撞损耗,在工件表面形成导电膜层,所存在的问题是,离子束直接抵达工件表面存在斑点瑕疵,使得导电膜层不均匀,无法调整溅射角和入射角,不能适应不同厚度和规格的材料。
技术实现思路
[0003]本专利技术所要解决的技术问题是提供一种自动调整离子束溅射角和入射角的离子镀装置及方法, 结构简单,采用真空箱内设置旋转机构、夹持机构和调整机构与离子源位于同一竖直轴线上,夹持机构与转盘连接,调整机构的溅射座位于夹持机构上部,工件被夹持机构夹持于转盘和调整机构之间,离子源发射离子束,竖推杆驱动溅射座调整高度,斜推杆驱动溅射片的倾角发生变化,使离子束的溅射角和入射角发生改变,工件随转盘旋转形成导电膜层,有利于使导 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种自动调整离子束溅射角和入射角的离子镀装置,其特征是:它包括真空箱(1)、旋转机构(2)、夹持机构(3)和调整机构(4);所述旋转机构(2)的转盘(22)、夹持机构(3)和调整机构(4)皆位于真空箱(1)内与离子源(12)位于同一竖直轴线上,多个夹持机构(3)与转盘(22)连接,调整机构(4)的溅射座(41)位于夹持机构(3)上部,溅射座(41)的高度或溅射片(45)倾角发生变化时,溅射角和入射角随之变化。2.根据权利要求1所述的自动调整离子束溅射角和入射角的离子镀装置,其特征是:所述真空箱(1)为一侧设置封板(11)的中空箱体,位于顶部设置离子源(12),离子源(12)的发射端位于中空箱体内。3.根据权利要求1所述的自动调整离子束溅射角和入射角的离子镀装置,其特征是:所述真空箱(1)的上下两侧分别设置抽气孔(13)和充气孔(14)。4.根据权利要求1所述的自动调整离子束溅射角和入射角的离子镀装置,其特征是:所述旋转机构(2)包括电机(21)输出端连接的转盘(22),位于转盘(22)上设置多个呈环形分布的透热孔(23)和承托片(24),电机(21)位于真空箱(1)下侧与其连接。5.根据权利要求4所述的自动调整离子束溅射角和入射角的离子镀装置,其特征是:所述转盘(22)下部设置环形加热片(25),环形加热片(25)位于真空箱(1)内。6.根据权利要求1所述的自动调整离子束溅射角和入射角的离子镀装置,其特征是:所述夹持机构(3)包括滑动座(31)配合的夹持把(32),滑动座(31)底部的滑块与转盘(22)上的滑槽滑动配合,锁紧螺钉(33)与滑块连接锁紧,夹持把(32)的端头深入滑动座(31)一侧的夹持口(34)内。7.根据权利要求1所述的自动调整离子束溅射角和入射角的离子镀装置,其特征是:所述调整机构(4)包括溅射座(41)上下两侧分别连接的多个斜推杆(42)和竖推杆(43),与斜推杆(42)连接的滑座(44)与溅射片(45)滑动配合。8.根据权利要求7所述的自动调整离子束溅射角和入射角的离子镀装置,其特征是:所述溅射座(41)为圆形的平板,位于中心设置入射孔(46),多个溅射片(45)分布于入射孔(46)周围,铰接座(47)与溅射片(45)...
【专利技术属性】
技术研发人员:秦工,张江城,邹丽,
申请(专利权)人:湖北三峡职业技术学院,
类型:发明
国别省市:
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