一种盘中心添加抛光液、防导管打结的抛光装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种盘中心添加抛光液、防导管打结的抛光装置，包括平面抛光盘、凹槽部和自动加液部，所述平面抛光盘，中心有四个孔，盘底部一端的孔，设有宝塔接头，用于连接硅胶管，所述凹槽部，包括凹槽环、硅胶导管和连接杆，凹槽环设有四个孔，孔的低端设有宝塔接头，该宝塔接头通过硅胶导管与平面抛光盘的宝塔接头相连接，凹槽环通过连接杆与平面抛光盘固定，所述自动加液系统包括蠕动泵和硅胶导管，硅胶导管悬放于凹槽环上且不固定，避免硅胶导管跟随盘转动而打结。本实用新型专利技术使抛光液能充分分布于平面抛光盘中心区域，光学元件在平面抛光盘上能得到均匀的抛光。抛光盘上能得到均匀的抛光。抛光盘上能得到均匀的抛光。

【技术实现步骤摘要】
一种盘中心添加抛光液、防导管打结的抛光装置


[0001]本技术涉及抛光装置，特别涉及一种盘中心添加抛光液、防导管打结的抛光装置。

技术介绍

[0002]在光学元件平面加工中，光学元件一般多片粘贴于样板上，形成较大加工截面，在平面抛光盘上抛光，并且同时在平面抛光盘边缘加入抛光液。该过程中，由于光学元件加工截面大，摆动抛光，且平面抛光盘不断旋而使抛光液做离心运动，导致平面抛光盘中心区域很难加入抛光液，光学元件在平面抛光盘中心区域无法得到均匀抛光，从而出现“干抛”现象。

技术实现思路

[0003]本技术提出一种盘中心添加抛光液、防导管打结的抛光装置，抛光液能充分分布于平面抛光盘中心区域，使光学元件在平面抛光盘上得到均匀的抛光。
[0004]本技术采用以下方案。
[0005]一种盘中心添加抛光液、防导管打结的抛光装置，其特征在于包括平面抛光盘、凹槽部和自动加液部，所述平面抛光盘，中心有四个孔，盘底部一端的孔，设有宝塔接头，用于连接硅胶管，所述凹槽部，包括凹槽环、硅胶导管和连接杆，凹槽环设有四个孔，孔的低端设有宝塔接头，该宝塔接头通过硅胶导管与平面抛光盘的宝塔接头相连接，凹槽环通过连接杆与平面抛光盘固定，所述自动加液系统包括蠕动泵和硅胶导管，硅胶导管悬放于凹槽环上且不固定，避免硅胶导管跟随盘转动而打结。
[0006]本技术从平面抛光盘底部钻孔，向平面抛光盘中心区域导入抛光液，解决了平面抛光过程中，抛光盘中心区域抛光液少而出现的
ꢀ“
干抛”现象。另外，由于光学元件加工过程中，光学元件不断地自转和摆动，平面抛光盘不断地转动，若将硅胶导管固定于光学元件轴上，会导致硅胶导管打结。本技术通过设计凹槽环部，解决了抛光液均匀分布于平面抛光盘中心区域的问题。
附图说明
[0007]下面结合附图对本技术进一步说明：
[0008]图1是本技术所述产品的盘中心添加抛光液、防导管打结的抛光装置局部示意图
[0009]其中：1
‑
凹槽环，2
‑
硅胶管，3
‑
连接杆，4
‑
宝塔接头，5
‑
主轴，6
‑
平面抛光盘，7
‑
宝塔接头，8
‑
硅胶管，9
‑
蠕动泵，10
‑
光学元件样板，11
‑
光学元件轴。
具体实施方式
[0010]一种盘中心添加抛光液、防导管打结的抛光装置，包括平面抛光盘、凹槽部和自动
加液部。所述平面抛光盘，中心有四个孔；盘底部的一端的孔，设有宝塔接头。所述凹槽部，包括凹槽环、硅胶导管和连接杆；凹槽环设有四个孔，孔的低端设有宝塔接头，该宝塔接头通过硅胶导管与平面抛光盘的宝塔接头相连接；凹槽环通过连接杆与平面抛光盘固定。所述自动加液系统包括蠕动泵和硅胶导管，硅胶导管悬放于凹槽环上且不固定，避免硅胶导管跟随盘转动而打结。
[0011]实施例1：
[0012]如图1所示，将凹槽环1通过连接杆3与平面抛光盘6固定。使用硅胶导管2分别将平面抛光盘6的宝塔接头4与凹槽环1的宝塔接头7连接。将蠕动泵9上的硅胶导管7放于凹槽环1上方。开动蠕动泵9，抛光液从硅胶导管8导入凹槽环1，再从凹槽环1的孔流入硅胶导管2，再进入平面抛光盘面6。光学元件样板10在平面抛光盘6上随光学元件轴10转动不停自转和摆动进行抛光，充分接触抛光液。
本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种盘中心添加抛光液、防导管打结的抛光装置，其特征在于包括平面抛光盘、凹槽部和自动加液部，所述平面抛光盘，中心有四个孔，盘底部一端的孔，设有宝塔接头，用于连接硅胶管，所述凹槽部，包括凹槽环、硅胶导管和连接杆，凹槽环设有四个...

【专利技术属性】
技术研发人员：叶青，王敏，郑文瑞，林菊芳，曹志伟，李雄，陈秋华，陈伟，
申请(专利权)人：福建福晶科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：