一种高强度耐磨损的二氧化硅抛光液存储设备制造技术

技术编号:31367895 阅读:33 留言:0更新日期:2021-12-13 09:38
本实用新型专利技术公开了一种高强度耐磨损的二氧化硅抛光液存储设备,包括基座、存储设备的主体、用于对主体进行固定的固定结构、用于加强主体内部强度的加固结构以及用于对基座进行搬运的行走结构,所述基座为矩形,且所述基座的上端表面开设有安装槽,所述主体安装于安装槽的内部,且所述主体的顶部和一侧底部分别开设有进料口和出料口,所述固定结构安装于基座的上端表面且位于安装槽的四周,所述加固结构安装于主体的四周外壳的内部,所述行走结构设置有两组,且两组所述行走结构分别安装与主体的两侧边缘处。本实用新型专利技术结构简单,使用方便,具有较强的刚度和耐腐蚀性能,对抛光液具有较好的保护作用,且便于对存储设备进行搬运。运。运。

【技术实现步骤摘要】
一种高强度耐磨损的二氧化硅抛光液存储设备


[0001]本技术涉及存储设备相关
,具体为一种高强度耐磨损的二氧化硅抛光液存储设备。

技术介绍

[0002]抛光液是一种不含任何硫、磷、氯添加剂的水溶性抛光剂,抛光液具有良好的去油污、防锈、清洗和增光性能,并能使金属制品显露出真实的金属光泽,性能稳定、无毒,对环境无污染等优点,而二氧化硅抛光液涂在设备表面,可以达到超精细抛光效果,抛光后设备表面没有划痕和缺陷,因此,人们二氧化硅抛光液的需求也越来越高,而在二氧化硅抛光液的生产中,需要对二氧化硅抛光液进行存储,避免外界因素对抛光液产生影响。
[0003]但是,现有的二氧化硅抛光液的存储设备存在以下不足:
[0004]1.现有的二氧化硅抛光液的存储设备整体的强度较低,容易在外界因素的影响下导致损坏,从而对其内部存储的抛光液产生影响,造成不必要的损失。
[0005]2.现有的二氧化硅抛光液的存储设备大多由体积较大的金属桶进行存放,不利于对二氧化硅抛光液进行搬运,实用性较低。

技术实现思路

[0006]本技术的目的在于本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种高强度耐磨损的二氧化硅抛光液存储设备,包括基座(1)、存储设备的主体(2)、用于对主体(2)进行固定的固定结构、用于加强主体(2)内部强度的加固结构以及用于对基座(1)进行搬运的行走结构,其特征在于:所述基座(1)为矩形,且所述基座(1)的上端表面开设有安装槽(3),所述主体(2)安装于安装槽(3)的内部,且所述主体(2)的顶部和一侧底部分别开设有进料口(4)和出料口(5),所述固定结构安装于基座(1)的上端表面且位于安装槽(3)的四周,所述加固结构安装于主体(2)的四周外壳的内部,所述行走结构设置有两组,且两组所述行走结构分别安装与主体(2)的两侧边缘处。2.根据权利要求1所述的一种高强度耐磨损的二氧化硅抛光液存储设备,其特征在于:所述固定结构包括固定板(6)、紧固旋钮(7)以及抵接板(8),所述固定板(6)固定安装于基座(1)的上端表面且位于安装槽(3)的四周,且所述固定板(6)上横向开设有贯穿的螺纹槽,所述紧固旋钮(7)安装于螺纹槽中,所述抵接板(8)安装于紧固旋钮(7)的底部靠近于安装槽(3)的一侧。3.根据权利要求...

【专利技术属性】
技术研发人员:张利陈作瑞白雪玉
申请(专利权)人:天津赛力成科技有限公司
类型:新型
国别省市:

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