一种用于粉体投料的氮气环制造技术

本实用新型专利技术涉及化工设备技术领域，具体涉及一种用于粉体投料的氮气环，设置于备料罐和反应釜之间的输送管道上，包括本体，本体的内圈为粉体输送孔，本体的侧壁上设置有进气孔和至少一组出气组件，进气孔与出气组件之间通过气体通道连通，至少一组出气组件倾斜设置在本体的内壁上；本实用新型专利技术的氮气环能够在输送管道内形成螺旋气流，有效的将积压在管道死角或附着在管道内壁上的粉体吹落，解决了产品由于粉料含量少而造成的良品率低的问题，并且在输送管道内形成的螺旋气流能够有效降低粉体下落的速度，降低了粉料与金属的管道摩擦产生静电的概率。电的概率。电的概率。

【技术实现步骤摘要】
一种用于粉体投料的氮气环


[0001]本技术涉及化工设备
，特别是一种用于粉体投料的氮气环。

技术介绍

[0002]现有的粉体投料系统投放粉末状的固体时，由于粉料投落速度较快，存在以下弊端：粉料与金属的管道摩擦产生静电，使得粉体投料系统的安全性降低；粉料投落过程中易带动周边空气进入反应釜，致使反应釜内的氧气含量升高，一旦达到粉料的爆炸上限，容易发生尘爆风险；粉料易积压在管道的死角，造成部分粉料的损失，使得产品不达标的概率增加；目前，行业内的解决办法通常是在反应釜和备料管之间的输送管道上设置一个氮气环，氮气环上设置若干个沿周向分布的吹气孔，然而吹气孔的中心轴线通常穿过输送孔的圆心，也就是吹气孔直吹输送孔，这样的结构存在着难以吹净管道死角的粉料的问题。

技术实现思路

[0003]为解决现有技术中存在的上述问题，本技术提供了一种用于粉体投料的氮气环，设置于备料罐和反应釜之间的输送管道上，包括本体，所述本体的内圈为粉体输送孔，所述本体的侧壁上设置有进气孔和至少一组出气组件，所述进气孔连接外置的气源，所述进气孔与所述出气组件之间通过气体通道连通，至少一组所述出气组件倾斜设置在所述本体的内壁上。
[0004]倾斜设置在所述本体的内壁上。
[0005]进一步的，所述出气组件包括若干个出气孔，并且若干个所述出气孔沿所述本体的周向分布，若干个所述出气孔的中心轴线位于同一平面上，并且所述出气孔的中心轴线与所述粉体输送孔的中心轴线垂直。
[0006]进一步的，所述输送管道沿竖向设置，所述出气组件倾斜朝上或倾斜朝下设置。
[0007]进一步的，所述出气组件有两组，其中一组所述出气组件倾斜朝上设置，另一组所述出气组件倾斜朝下设置。
[0008]进一步的，两组所述出气组件分别连通两个气体通道。
[0009]进一步的，所述出气孔的内径自所述气体通道向所述粉体输送孔方向逐渐增大。
[0010]本技术主要具有以下有益效果：本技术的氮气环采用倾斜设置的出气组件往粉体输送孔通入氮气从而在输送管道内形成螺旋气流，能够有效的将积压在管道死角或附着在管道内壁上的粉体吹落，解决了产品由于粉料含量少而造成的良品率低的问题，并且在输送管道内形成的螺旋气流能够有效降低粉体下落的速度，降低了粉料与金属的管道摩擦产生静电的概率，同时输入少量氮气形成螺旋气流即可实现降低粉体下落速度的效果，有效避免管道内因氮气增加而导致的气压过大的问题。
附图说明
[0011]本技术的上述和/或附加的方面和优点从结合下面附图对实施例的描述中将
变得明显和容易理解，其中：
[0012]图1是本技术实施例的氮气环的剖面示意图；
[0013]图2是本技术其中一个实施例的氮气环的剖视图；
[0014]图3是本技术另外一个实施例的氮气环的剖视图。
具体实施方式
[0015]为了使本技术的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本技术进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅用以解释本技术，并不用于限定本技术。
[0016]参见图1与图2所示的一种用于粉体投料的氮气环，该氮气环设置在备料罐和反应釜之间的输送管道上，该氮气环包括呈环状的本体100以及分别设置在本体100侧壁上的进气口和出气组件，环状本体100的内圈为粉体输送孔200，即自备料罐送出的粉体原料经过输送管道送入反应釜内，粉体原料在输送管道输送时经过该氮气环上的粉体输送孔200，所述进气孔300连接外置的气源，气源产生并输送氮气，所述进气孔300与所述出气组件之间通过气体通道400连通，该气体通道400优选地呈环状，所述本体100的侧壁上设置至少一组出气组件，出气组件的一端连通气体通道400，另一端自本体100的内壁倾斜穿出，优选的，所述出气组件沿粉体输送孔200的切线方向设置，氮气能够其出气组件吹出并在粉体输送孔200的侧壁形成螺旋气流，螺旋气流沿着输送管道的内壁流动进而有效的将积压在管道死角或者是附着在管道内壁的粉体吹落，避免投料的粉体原料在经输送管道输送的过程中因积压在管道死角或附着在管道内壁而造成实际投料量少于设定投料量的问题，提高产品良率，同时在输送管道内形成的螺旋气流还可以有效降低粉体的下落速度，降低粉料与金属的管道摩擦产生静电的概率，同时螺旋气流可以沿输送管道的内壁吹送，有效降低粉体与金属的管道内壁之间摩擦，进一步降低产生静电的概率；再者由于螺旋气流对阻碍粉体下落的效果较优，可以适当降低氮气的吹入量，相比于直吹式结构，本技术的倾斜式结构能够降低氮气的吹入量，有效避免因氮气增加而导致输送管道或粉体投料系统的内部气压过大的问题。
[0017]在一些实施例中，参照图1与图2所示，所述出气组件包括若干个出气孔500，并且若干个所述出气孔500沿所述本体100的周向分布，若干个所述出气孔500的中心轴线位于同一平面上，并且所述出气孔500的中心轴线与所述粉体输送孔200的中心轴线垂直，也就是说，螺旋气流在垂直于输送管道的中心轴线的平面上形成，通过该平面上形成的螺旋气流能够有效降低粉体的下落速度。
[0018]在一些实施例中，所述输送管道沿竖向设置，所述出气组件倾斜朝上或倾斜朝下设置，也就是说螺旋气流能够沿着输送管道的内壁流动，进而能够吹落输送管道上积压和附着的粉体原料，方便维护和清洁输送管道。
[0019]在一些实施例中，参照图3所示，所述出气组件有两组，其中一组倾斜朝上设置，另外一组倾斜朝下设置，此时该氮气环可以安装于输送管道的中间位置，在生产时倾斜朝上的出气组件工作，能够有效降低粉体的下落速度，同时吹落附着在输送管道内壁的粉体，而在需要维护粉体投料系统时，倾斜朝下的出去组件开始工作，能够有效清理附着在输送管道下端的粉体，进一步的，两个所述出气组件分别连通两个气体通道400。
[0020]在一些实施例中，所述出气孔500的内径自所述气体通道400向所述粉体输送孔200方向逐渐增大，其目的在于增大螺旋气流的范围，进一步增强降低粉体下落速度和清理积压在管道死角或附着在管道内壁的粉体的效果。
[0021]以上所述是本技术的优选实施方式，应当指出，对于本
的普通技术人员来说，在不脱离本技术原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也视为本技术的保护范围。
本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于粉体投料的氮气环，设置于备料罐和反应釜之间的输送管道上，其特征在于，包括本体(100)，所述本体(100)的内圈为粉体输送孔(200)，所述本体(100)的侧壁上设置有进气孔(300)和至少一组出气组件，所述进气孔(300)连接外置的气源，所述进气孔(300)与所述出气组件之间通过气体通道(400)连通，至少一组所述出气组件倾斜设置在所述本体(100)的内壁上。2.根据权利要求1所述的一种用于粉体投料的氮气环，其特征在于，所述出气组件包括若干个出气孔(500)，并且若干个所述出气孔(500)沿所述本体(100)的周向分布，若干个所述出气孔(500)的中心轴线位于同一平面上，并且所述出气孔...

【专利技术属性】
技术研发人员：赖龙，张桂秋，刘韧俊，梁家源，周宏，
申请(专利权)人：长兴材料工业广东有限公司，
类型：新型
国别省市：