一种高弓足足垫制造技术

本实用新型专利技术提供一种伴有外翻的单纯性高弓足足部在穿着传统足垫时，能够对伴有外翻的单纯性高弓足足部进行矫正，有利于患者行走及康复的一种高弓足足垫，包括足垫主体、设置于所述足垫主体上用于矫正伴有外翻的单纯性高弓足足部的矫正装置，所述矫正装置包括设置于所述足垫主体下端面内侧纵弓位置用于矫正伴有外翻的单纯性高弓足足部的数个矫正块。有外翻的单纯性高弓足足部的数个矫正块。有外翻的单纯性高弓足足部的数个矫正块。

【技术实现步骤摘要】
一种高弓足足垫


[0001]本技术涉及足垫
，具体涉及一种高弓足足垫。

技术介绍

[0002]高弓足是儿童颇为常见足畸形，多为神经肌肉性疾病引起的前足固定性跖屈，从而使足纵弓增高。根据足弓增高的程度，是否伴发足的其它畸形，通常将高弓足分成四个类型。其中一种为单纯性高弓足：主要是前足有固定性跖屈畸形，第一和第五跖骨均匀负重。足内外侧纵弓呈一致性增高，足跟仍保持中立位，或者有轻度的外翻。
[0003]伴有外翻的单纯性高弓足足部在穿着传统足垫时，无法对伴有外翻的单纯性高弓足足部进行矫正，不利于患者行走及康复。

技术实现思路

[0004]本技术的目的在于针对现有技术的缺陷和不足，提供一种伴有外翻的单纯性高弓足足部在穿着传统足垫时，能够对伴有外翻的单纯性高弓足足部进行矫正，有利于患者行走及康复的一种高弓足足垫。
[0005]为实现上述目的，本技术采用以下技术方案是：
[0006]一种高弓足足垫，包括足垫主体、设置于所述足垫主体上用于矫正伴有外翻的单纯性高弓足足部的矫正装置，所述矫正装置包括设置于所述足垫主体下端面内侧纵弓位置用于矫正伴有外翻的单纯性高弓足足部的数个矫正块。
[0007]进一步改进的是：数个所述矫正块从前至后依次设置，数个所述矫正块的厚度由前至后依次增大，相邻两个所述矫正块的间距由前至后依次增大。
[0008]进一步改进的是：所述足垫主体上端面位于横弓位置设置有在行走时提高所述足垫主体与伴有外翻的单纯性高弓足足部的横弓位置贴合的横弓支撑块。
[0009]进一步改进的是：所述横弓支撑块为向上突起的横弓支撑块。
[0010]进一步改进的是：所述足垫主体下端面位于大拇指位置开设有用于在行走时提高大拇指发力效果的发力槽。
[0011]进一步改进的是：所述发力槽的深度由前至后依次增大。
[0012]进一步改进的是：所述足垫主体下端面位于足跟位置设置有用于在行走时提高足跟省力效果的省力块。
[0013]进一步改进的是：所述足垫主体上端面为与伴有外翻的单纯性高弓足足部贴合的端面。
[0014]进一步改进的是：所述足垫主体包括足垫上层、设置于所述足垫上层下端面的足垫下层，所述足垫下层位于所述足垫上层前脚掌后方。
[0015]进一步改进的是：所述足垫主体下端面位于横弓位置设置有与所述横弓支撑块配合在行走时减缓所述横弓支撑块对伴有外翻的单纯性高弓足足部的横弓位置长时间支撑造成损伤的减伤槽。
[0016]采用上述技术方案后，本技术有益效果为：足垫主体下端面内侧纵弓位置设置有数个矫正块，用于矫正伴有外翻的单纯性高弓足足部，伴有外翻的单纯性高弓足足部在穿着传统足垫时，能够对伴有外翻的单纯性高弓足足部进行矫正，有利于患者行走及康复。
[0017]进一步的效果：数个矫正块从前至后依次设置，数个矫正块的厚度由前至后依次增大，相邻两个矫正块的间距由前至后依次增大，用于与伴有外翻的单纯性高弓足足部的内侧纵弓位置更好的贴合配合，更好的实现外翻矫正效果。
附图说明
[0018]为了更清楚地说明本技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0019]图1是本技术的结构示意图；
[0020]图2是对应图1的主视图。
具体实施方式
[0021]现结合附图和具体实施例对本技术进一步说明。
[0022]参看图1至图2所示，本具体实施方式采用的技术方案是：一种高弓足足垫，包括足垫主体1、设置于所述足垫主体1上用于矫正伴有外翻的单纯性高弓足足部的矫正装置，所述矫正装置包括设置于所述足垫主体1下端面内侧纵弓位置用于矫正伴有外翻的单纯性高弓足足部的数个矫正块2。数个所述矫正块2从前至后依次设置，数个所述矫正块2的厚度由前至后依次增大，相邻两个所述矫正块2的间距由前至后依次增大。用于与伴有外翻的单纯性高弓足足部的内侧纵弓位置更好的贴合配合，更好的实现外翻矫正效果。所述足垫主体1上端面位于横弓位置设置有在行走时提高所述足垫主体1与伴有外翻的单纯性高弓足足部的横弓位置贴合的横弓支撑块3。所述横弓支撑块3为向上突起的横弓支撑块。所述足垫主体1下端面位于大拇指位置开设有用于在行走时提高大拇指发力效果的发力槽4。所述发力槽4的深度由前至后依次增大。所述足垫主体1下端面位于足跟位置设置有用于在行走时提高足跟省力效果的省力块5。所述足垫主体1上端面为与伴有外翻的单纯性高弓足足部贴合的端面。所述足垫主体1包括足垫上层6、设置于所述足垫上层6下端面的足垫下层7，所述足垫下层7位于所述足垫上层6前脚掌后方。所述足垫主体1下端面位于横弓位置设置有与所述横弓支撑块3配合在行走时减缓所述横弓支撑块3对伴有外翻的单纯性高弓足足部的横弓位置长时间支撑造成损伤的减伤槽8。工作原理：足垫主体1下端面内侧纵弓位置设置有数个矫正块2，用于矫正伴有外翻的单纯性高弓足足部，伴有外翻的单纯性高弓足足部在穿着传统足垫时，能够对伴有外翻的单纯性高弓足足部进行矫正，有利于患者行走及康复。
[0023]以上显示和描述了本技术的基本原理和主要特征及其优点，本行业的技术人员应该了解，本技术不受上述实施例的限制，上述实施例和说明中描述的只是说明本技术的原理，在不脱离本技术精神和范围的前提下，本技术还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本技术范围内，本技术要求保护范围
由所附的权利要求书及其等效物界定。本技术未详述之处，均为本领域技术人员的公知技术。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种高弓足足垫，包括足垫主体、设置于所述足垫主体上用于矫正伴有外翻的单纯性高弓足足部的矫正装置，其特征在于：所述矫正装置包括设置于所述足垫主体下端面内侧纵弓位置用于矫正伴有外翻的单纯性高弓足足部的数个矫正块。2.根据权利要求1所述的一种高弓足足垫，其特征在于：数个所述矫正块从前至后依次设置，数个所述矫正块的厚度由前至后依次增大，相邻两个所述矫正块的间距由前至后依次增大。3.根据权利要求1所述的一种高弓足足垫，其特征在于：所述足垫主体上端面位于横弓位置设置有在行走时提高所述足垫主体与伴有外翻的单纯性高弓足足部的横弓位置贴合的横弓支撑块。4.根据权利要求3所述的一种高弓足足垫，其特征在于：所述横弓支撑块为向上突起的横弓支撑块。5.根据权利要求1所述的一种高弓足足垫，其特征在于：所述足垫主体下端面位于大拇指位置开设有用于...

【专利技术属性】
技术研发人员：秦壮利，
申请(专利权)人：泉州邦尼生物科技有限公司，
类型：新型
国别省市：