一种缓解筋膜炎足垫制造技术

本实用新型专利技术提供一种在患有足底筋膜炎的足部穿着足垫行走时，能够像手部一样由足跟向足弓逐步按压足部，能够达到放松筋膜组织的效果，有利于舒缓患有足底筋膜炎的足部的一种缓解筋膜炎足垫，包括足垫主体、设置于所述足垫主体上用于缓解患有足底筋膜炎的足部的缓解装置，所述缓解装置包括设置于所述足垫主体上用于在行走时由足跟向足弓逐步按压的按压块。用于在行走时由足跟向足弓逐步按压的按压块。用于在行走时由足跟向足弓逐步按压的按压块。

【技术实现步骤摘要】
一种缓解筋膜炎足垫


[0001]本技术涉及足垫
，具体涉及一种缓解筋膜炎足垫。

技术介绍

[0002]足底筋膜炎是由于位于跟骨结节处的足底筋膜起始部的过度负荷引起的。
[0003]足底筋膜炎的主要病因为：人体正常步态行走时，跖筋膜受到3种牵伸力量，使之异常紧张，体重下压，纵弓下沉，跖筋膜被牵伸，跖筋膜的附着处跟骨内侧结节承受相当大的力量；趾短屈肌的收缩；跖趾在行走时的背伸动作牵拉跖筋膜。
[0004]跟骨内侧的结节既受体重的压迫，又受跖筋膜的牵拉。当存在多种致痛因素时，如不合适的穿鞋习惯、长时间站立工作、超重、高强度大量走路或跑步及扁平足等，可导致跖筋膜起点部微小撕裂，引起局部炎症反应。
[0005]目前的足垫不能在患有足底筋膜炎的足部行走时，像手部一样由足跟向足弓逐步按压足部，从而达到放松筋膜组织的效果，不利于舒缓患有足底筋膜炎的足部。

技术实现思路

[0006]本技术的目的在于针对现有技术的缺陷和不足，提供一种在患有足底筋膜炎的足部穿着足垫行走时，能够像手部一样由足跟向足弓逐步按压足部，能够达到放松筋膜组织的效果，有利于舒缓患有足底筋膜炎的足部的一种缓解筋膜炎足垫。
[0007]为实现上述目的，本技术采用以下技术方案是：
[0008]一种缓解筋膜炎足垫，包括足垫主体、设置于所述足垫主体上用于缓解患有足底筋膜炎的足部的缓解装置，所述缓解装置包括设置于所述足垫主体上用于在行走时由足跟向足弓逐步按压的按压块。
[0009]进一步改进的是：所述按压块为向下凸起的按压块，所述按压块的宽度由足跟向足弓方向依次减小。
[0010]进一步改进的是：所述足垫主体上端面位于横弓位置设置有在行走时提高所述足垫主体与患有足底筋膜炎的足部的横弓位置贴合的横弓支撑块。
[0011]进一步改进的是：所述横弓支撑块为向上突起的横弓支撑块。
[0012]进一步改进的是：所述足垫主体下端面位于横弓位置设置有与所述横弓支撑块配合在行走时减缓所述横弓支撑块对患有足底筋膜炎的足部的横弓位置长时间支撑造成损伤的减伤槽。
[0013]进一步改进的是：所述足垫主体下端面位于大拇指位置开设有用于在行走时提高大拇指发力效果的发力槽。
[0014]进一步改进的是：所述发力槽的深度由前至后依次增大。
[0015]进一步改进的是：所述足垫主体包括足垫上层、设置于所述足垫上层下端面的足垫下层，所述足垫下层位于所述足垫上层前脚掌后方。
[0016]进一步改进的是：所述按压块与所述足垫主体平滑过渡连接。
[0017]采用上述技术方案后，本技术有益效果为：在患有足底筋膜炎的足部穿着足垫行走时，足垫主体上设置的按压块通过足垫主体、足部的配合，由足跟向足弓逐步按压足部，像手部一样由足跟向足弓逐步按压足部，能够达到放松筋膜组织的效果，有利于舒缓患有足底筋膜炎的足部。
[0018]进一步的效果：所述按压块为向下凸起的按压块，所述按压块的宽度由足跟向足弓方向依次减小。按压块为向下凸起的按压块，能够提高按压的触感，按压块的宽度由足跟向足弓方向依次减小，能够减少足跟的压力，并且由足跟向足弓方向逐步增加对足部的按压压力。
附图说明
[0019]为了更清楚地说明本技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0020]图1是本技术的结构示意图；
[0021]图2是本技术另一视角的结构示意图。
具体实施方式
[0022]现结合附图和具体实施例对本技术进一步说明。
[0023]参看图1至图2所示，本具体实施方式采用的技术方案是：
[0024]一种缓解筋膜炎足垫，包括足垫主体1、设置于所述足垫主体1上用于缓解患有足底筋膜炎的足部的缓解装置，所述缓解装置包括设置于所述足垫主体1上用于在行走时由足跟向足弓逐步按压的按压块2。
[0025]所述按压块2为向下凸起的按压块，所述按压块2的宽度由足跟向足弓方向依次减小。
[0026]所述足垫主体1上端面位于横弓位置设置有在行走时提高所述足垫主体1与患有足底筋膜炎的足部的横弓位置贴合的横弓支撑块3。
[0027]所述横弓支撑块3为向上突起的横弓支撑块。
[0028]所述足垫主体1下端面位于横弓位置设置有与所述横弓支撑块3配合在行走时减缓所述横弓支撑块3对患有足底筋膜炎的足部的横弓位置长时间支撑造成损伤的减伤槽4。
[0029]所述足垫主体1下端面位于大拇指位置开设有用于在行走时提高大拇指发力效果的发力槽5。
[0030]所述发力槽5的深度由前至后依次增大。
[0031]所述足垫主体1包括足垫上层6、设置于所述足垫上层6下端面的足垫下层7，所述足垫下层7位于所述足垫上层6前脚掌后方。
[0032]所述按压块2与所述足垫主体1平滑过渡连接。
[0033]本技术的工作原理：在患有足底筋膜炎的足部穿着足垫行走时，足垫主体1上设置的按压块2通过足垫主体1、足部的配合，由足跟向足弓逐步按压足部，像手部一样由足跟向足弓逐步按压足部，能够达到放松筋膜组织的效果，有利于舒缓患有足底筋膜炎的足
部。
[0034]本技术要保护的是产品的结构，各元件的型号不是本技术保护的内容，也是公知技术，市面上只要能实现本技术上述功能的元件均可以做为一种选择应用。因此，本技术不做详细述说。
[0035]以上显示和描述了本技术的基本原理和主要特征及其优点，本行业的技术人员应该了解，本技术不受上述实施例的限制，上述实施例和说明中描述的只是说明本技术的原理，在不脱离本技术精神和范围的前提下，本技术还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本技术范围内，本技术要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。本技术未详述之处，均为本领域技术人员的公知技术。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种缓解筋膜炎足垫，包括足垫主体、设置于所述足垫主体上用于缓解患有足底筋膜炎的足部的缓解装置，其特征在于：所述缓解装置包括设置于所述足垫主体上用于在行走时由足跟向足弓逐步按压的按压块。2.根据权利要求1所述的一种缓解筋膜炎足垫，其特征在于：所述按压块为向下凸起的按压块，所述按压块的宽度由足跟向足弓方向依次减小。3.根据权利要求1所述的一种缓解筋膜炎足垫，其特征在于：所述足垫主体上端面位于横弓位置设置有在行走时提高所述足垫主体与患有足底筋膜炎的足部的横弓位置贴合的横弓支撑块。4.根据权利要求3所述的一种缓解筋膜炎足垫，其特征在于：所述横弓支撑块为向上突起的横弓支撑块。5.根据权利要求3所述的一种缓解筋膜炎足垫，其特征在于：所...

【专利技术属性】
技术研发人员：秦壮利，
申请(专利权)人：泉州邦尼生物科技有限公司，
类型：新型
国别省市：