【技术实现步骤摘要】
一种缓解筋膜炎足垫
[0001]本技术涉及足垫
,具体涉及一种缓解筋膜炎足垫。
技术介绍
[0002]足底筋膜炎是由于位于跟骨结节处的足底筋膜起始部的过度负荷引起的。
[0003]足底筋膜炎的主要病因为:人体正常步态行走时,跖筋膜受到3种牵伸力量,使之异常紧张,体重下压,纵弓下沉,跖筋膜被牵伸,跖筋膜的附着处跟骨内侧结节承受相当大的力量;趾短屈肌的收缩;跖趾在行走时的背伸动作牵拉跖筋膜。
[0004]跟骨内侧的结节既受体重的压迫,又受跖筋膜的牵拉。当存在多种致痛因素时,如不合适的穿鞋习惯、长时间站立工作、超重、高强度大量走路或跑步及扁平足等,可导致跖筋膜起点部微小撕裂,引起局部炎症反应。
[0005]目前的足垫不能在患有足底筋膜炎的足部行走时,像手部一样由足跟向足弓逐步按压足部,从而达到放松筋膜组织的效果,不利于舒缓患有足底筋膜炎的足部。
技术实现思路
[0006]本技术的目的在于针对现有技术的缺陷和不足,提供一种在患有足底筋膜炎的足部穿着足垫行走时,能够像手部一样由足跟向足弓逐步按 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种缓解筋膜炎足垫,包括足垫主体、设置于所述足垫主体上用于缓解患有足底筋膜炎的足部的缓解装置,其特征在于:所述缓解装置包括设置于所述足垫主体上用于在行走时由足跟向足弓逐步按压的按压块。2.根据权利要求1所述的一种缓解筋膜炎足垫,其特征在于:所述按压块为向下凸起的按压块,所述按压块的宽度由足跟向足弓方向依次减小。3.根据权利要求1所述的一种缓解筋膜炎足垫,其特征在于:所述足垫主体上端面位于横弓位置设置有在行走时提高所述足垫主体与患有足底筋膜炎的足部的横弓位置贴合的横弓支撑块。4.根据权利要求3所述的一种缓解筋膜炎足垫,其特征在于:所述横弓支撑块为向上突起的横弓支撑块。5.根据权利要求3所述的一种缓解筋膜炎足垫,其特征在于:所...
【专利技术属性】
技术研发人员:秦壮利,
申请(专利权)人:泉州邦尼生物科技有限公司,
类型:新型
国别省市:
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