一种光刻机及其掩膜吸附结构制造技术

本实用新型专利技术涉及光刻机技术领域，更具体地说，它涉及一种光刻机及其掩膜吸附结构，其中，掩膜吸附结构包括掩膜吸附板；所述掩膜吸附板上设有贯穿的光线过孔，且一侧设有内凹的环形槽，另一侧设有连通所述环形槽的抽真空孔，所述抽真空孔用于与外部抽真空装置连接；其中，所述环形槽的槽体环绕光线过孔设置，所述掩膜吸附板通过所述环形槽吸附固定掩膜板。相对于现有技术中呈点状分布的吸附孔，本实用新型专利技术的技术方案采用环形槽吸附固定掩膜板，由于环形槽为槽体连续延伸的槽，其可以在掩膜板上呈环形的连续表面提供吸附力，掩膜板上的受力区域相对较集中和连续，使得掩膜吸附板对掩膜板的吸附稳定性更好。吸附稳定性更好。吸附稳定性更好。

【技术实现步骤摘要】
一种光刻机及其掩膜吸附结构


[0001]本技术涉及光刻机
，特别涉及一种光刻机及其掩膜吸附结构。

技术介绍

[0002]光刻是半导体制造过程中一道非常重要的工序，它是将一系列掩膜板上的芯片图形通过曝光依次转移到硅片相应层上的工艺过程，被认为是大规模集成电路制造中的核心步骤。半导体制造中一系列复杂而耗时的光刻工艺主要由相应的光刻机来完成。
[0003]如图1所示，现有的光刻机包括承载部110和掩膜板，掩膜板通过曝光将其上的线路图形转移到晶圆上。其中，承载部110上设有多个吸附孔111，该多个吸附孔111依次间隔设置，以相互配合共同吸附固定掩膜板。
[0004]在上述示例中，由于多个吸附孔111依次间隔设置，每个吸附孔111均对掩膜板施加一定的吸附力，各吸附力的分布相对较分散，导致承载部110对掩膜板的吸附稳定性欠佳，故急需针对这种情况进行改进。

技术实现思路

[0005]有鉴于此，本技术提供一种光刻机及其掩膜吸附结构，主要所要解决的技术问题是：如何提高掩膜板的吸附稳定性。
[0006]为达到上述目的，本技本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种光刻机的掩膜吸附结构，其特征在于，包括掩膜吸附板(1)；所述掩膜吸附板(1)上设有贯穿的光线过孔(101)，且一侧设有内凹的环形槽(13)，另一侧设有连通所述环形槽(13)的抽真空孔(11)，所述抽真空孔(11)用于与外部抽真空装置连接；其中，所述环形槽(13)的槽体环绕光线过孔(101)设置，所述掩膜吸附板(1)通过所述环形槽(13)吸附固定掩膜板(3)。2.根据权利要求1所述的光刻机的掩膜吸附结构，其特征在于，掩膜吸附板(1)的所述一侧还设有连通环形槽(13)内部的扩容槽(14)，所述扩容槽(14)用于与环形槽(13)配合共同吸附掩膜板(3)。3.根据权利要求2所述的光刻机的掩膜吸附结构，其特征在于，所述扩容槽(14)的数量为两个以上、且在环形槽(13)的周向上均匀间隔设置。4.根据权利要求1至3中任一项所述的光刻机的掩膜吸附结构，其特征在于，所述掩膜吸附板(1)的内部设有过气通道(15)，所述抽真空孔(11)通过所述过气通道(15)与环形槽(13)连通。5.根据权利要求4所述的光刻机的掩膜吸附结构，其特征在于，所述过气通道(15)包括依次连接的第一孔段(151)和第二孔段(152)，所述第一孔段(151)和第二孔段(152)均为直线型孔；其中，所述第一孔段(151)从掩膜吸附板(1)的侧面延伸至内部，所述第二孔段(152)从环形槽(13...

【专利技术属性】
技术研发人员：霍锦充，
申请(专利权)人：东莞王氏港建机械有限公司，
类型：新型
国别省市：