一种显示装置结构及其制备方法制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种显示装置结构及其制备方法，包括基板，基板上设有TFT驱动电路，并在TFT驱动电路上通过OLED发光器件蒸镀设有OLED发光器件；基板的上端通过TFT和OLED蒸镀制程后形成前置摄像头装置预留模块；基板上依次设有第一无机密封层、有机缓冲层以及第二无机密封层；前置摄像头装置预留模块中部蚀刻出摄像头开口，其余部分为前置摄像头装置预留模块的保留部分，保留部分面积占前置摄像头装置预留模块整体的八分之一。本发明专利技术无需通过物理挖孔的方式形成摄像头安装通道，避免在显示装置进行前置摄像头物理挖孔时对封装薄膜的破坏，从而避免葫芦屏现象或是其他封装失效异常的出现，提升全面屏手机在使用过程中的稳定性和寿命。命。命。

【技术实现步骤摘要】
一种显示装置结构及其制备方法


[0001]本专利技术属于显示屏
，具体涉及一种显示装置结构及其制备方法。

技术介绍

[0002]现今，主流手机屏幕追求超高屏占比，几乎接近100%，也就大家口中的全面屏手机，全面屏是手机业界对于超高屏占比手机设计的一个比较宽泛的定义。从字面上解释就是手机的正面全部都是屏幕，手机的四个边框位置都是采用无边框设计，追求接近100%的屏占比，由于屏下摄像头技术尚未取得较大的突破，故而未被正式的推广和使用，挖孔屏技术结合AMOLED显示屏技术可以制作超薄可挠曲、高屏占比屏幕是目前手机屏幕主流技术方案。
[0003]挖孔屏技术，顾名思义，在屏幕侧摄像头位置挖出摄像头通道，供前置摄像头摄像使用，该位置不用于显示，故而挖孔直径要求尽量小，减小对屏幕显示效果的影响。AMOLED显示屏是通过有机材料进行自发光的显示方式，由于这些有机自发光材料对水氧极其敏感，一旦有水氧入侵屏幕内部，显示屏内部像素点会与水氧反应失效，并出现黑点，然而挖孔技术（一般采用激光切割）在实施过程中会对AMOLED显示屏封装膜层进行破坏，极大影响本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种显示装置结构，包括基板（7），其特征在于：所述基板（7）上设有TFT驱动电路（2），并在TFT驱动电路（2）上通过OLED发光器件蒸镀设有OLED发光器件（3）；所述基板（7）的上端通过TFT和OLED蒸镀制程后形成前置摄像头装置预留模块（1）；所述基板（7）上依次设有第一无机密封层（4）、有机缓冲层（5）以及第二无机密封层（6）；所述前置摄像头装置预留模块（1）中部蚀刻出摄像头开口（12），其余部分为前置摄像头装置预留模块（1）的保留部分（11），所述保留部分（11）面积占前置摄像头装置预留模块（1）整体的八分之一。2.根据权利要求1所述的一种显示装置结构，其特征在于：所述基板（7）为柔性塑料基板或者硬性玻璃基板，其膜层厚度为0.30
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0.40mm，所述柔性塑料基板的选材为聚酰亚胺、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯或者聚碳酸酯，所述硬性玻璃基板为二氧化硅玻璃材质。3.根据权利要求1所述的一种显示装置结构，其特征在于：所述TFT驱动电路（2）材料选择IGZO，TFT驱动电路（2）的TFT电路膜层厚度为4.00
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4.20um。4.根据权利要求1所述的一种显示装置结构，其特征在于：所述OLED发光器件（3）通过蒸镀的方式将有机发光材料和电极材料蒸镀形成，OLED发光器件（3）的膜层厚度为0.30
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0.35um。5.根据权利要求1所述的一种显示装置结构，其特征在于：所述第一无机密...

【专利技术属性】
技术研发人员：骆丽兵，吴聪原，
申请(专利权)人：福建华佳彩有限公司，
类型：发明
国别省市：