一种版图分解处理方法和电子设备技术

本发明专利技术提供一种版图分解处理方法和电子设备，方法包括以下步骤：获取版图目标图层，利用划分图形进行分解，得到若干个独立的分割区块；针对每一个分割区块确定判定边界，判定边界包括至少一个大于分割区块的外边界；对外边界内和与外边界相交的若干个版图子图形进行分类，确定与分割区块对应的版图子图形，并进行光学邻近修正，输出修正子图形；将各分割区块独立并行修正得到的修正子图形进行合并，输出修正版图。在将版图目标图层拆分成多个独立的分割区块后，在分割区块区域向外扩展出一个外边界，此外边界包括能辅助分割区块相关版图子图形修正处理的图形数据信息，每个分割区块生成独立的判定边界，提高了每个分割区块光学邻近修正的精度。邻近修正的精度。邻近修正的精度。

【技术实现步骤摘要】
一种版图分解处理方法和电子设备


[0001]本专利技术属于半导体制造
，尤其涉及一种版图分解处理方法和电子设备。

技术介绍

[0002]随着集成电路设计的高速发展，设计复杂度不断增加，特征尺寸不断减少，光刻作为集成电路生产的最重要步骤之一，当光刻工艺波长远大于集成电路的特征尺寸时，光刻中存在的衍射、干涉造成版图转移失真，可制造性降低，因此必须对掩模上的图形做邻近效应修正，以避免在光干涉衍射及其他复杂工艺作用下，在硅片成像后图形失真。光学邻近修正就是利用光学计算对掩模版上的图形进行修改，增强分辨率，以弥补光刻机波长和所制造的芯片线宽的差距。
[0003]在计算光刻领域，光学模型往往复杂且精确，因此计算量大，校正速度慢，校正结果复杂，单机难以处理深亚微米及纳米级集成电路版图。基于模型的光学邻近修正通常将物理版图根据位置划分成若干区块，并行计算每个区块。但是在进行每个区块的修正时，由于只考虑本区块内部区域的图形，没有考虑图形之间所受到的光学散射半径影响，对于版图中各图形的处理并不完善，准确度不高，且实际版图布局布线错综复杂，具体版图图形本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种版图分解处理方法，其特征在于，包括以下步骤：获取版图目标图层，利用划分图形进行分解，得到若干个独立的分割区块；针对每一个分割区块确定判定边界，所述判定边界包括至少一个大于所述分割区块的外边界；对外边界内和与外边界相交的若干个版图子图形进行分类，确定与分割区块对应的版图子图形，并进行光学邻近修正，输出修正子图形；将各分割区块独立并行修正得到的修正子图形进行合并，输出修正版图。2.如权利要求1所述的一种版图分解处理方法，其特征在于，在利用判定边界对各版图子图形进行分类时，同一版图子图形可绑定在不限于一个分割区块上，所述版图子图形在不同分割区块中分别独立进行光学邻近修正。3.如权利要求2所述的一种版图分解处理方法，其特征在于，相邻的各个所述分割区块之间边界抵接，所述分割区块相互拼接所围成的区域大于所述版图目标图层的实体区域。4.如权利要求3所述的一种版图分解处理方法，其特征在于，在对版图子图形进行光学邻近修正时，至少包括整体保留和截取保留两个动作：所述整体保留动作被配置为对于完全包含于特定判定边界内的版图子图形，进行整体保留；所述截取保留动作被配置为对于同时横跨若干个特定判定边界的版图子图形，实行针对分割区块以内的部分进行截取保留。5.如权利要求4所述的一种版图分解处理方法，其特征在于，所述判定边界从内之外依次包括第一判定边界、第二判定边界和第三判定边界，所述第三判定边界包含所述第二判定边界，所述第二判定边界包含所述第一判定边界，所述第二判定边界的大小与所述分割区块相等，相邻分割区块对应的第二判定边界之间边界抵接。6.如权利要求5所述的一种版图分解处理方法，其特征在于，所述第一判定边界的边线与所述第二判定边界对应边线之间的直线距离，等于所述第二判定边界的边线与所述第三判定边界对应边线之间的直线距离。7.如权利要求6所述的一种版图分解处理方法，其特征在于，所述判定边界之间的直线距离为50nm～500nm。8.如权利要求6所述的一种版图分解处理方法，其特征在于，设定第一图形集合和第二图形集合；将完全包含于所述第一判定边界内和与所述第一判定边界至少任意一边相交的版图子图形，归入第一图形集合内；将同时与第一判定边界、第二判定边界至少任意一边相交且不与第三判定边界任一边相交的版图子图形，归入第一图形集合内；将同时与第一判定边界、第三判定边界至少任意一边相交的版图子图形，归入第二图形集合内；对于与第二判定边界至少任意一边相交且不与第一判定边界、第三判定边界任一边相交的版图子图形，以第二判定边界相交边的延长线作为分割线对所述版图子图形进行切
割，并作以下判断：所述相交边的延长线将...

【专利技术属性】
技术研发人员：赵西金，胡滨，
申请(专利权)人：珠海市睿晶聚源科技有限公司，
类型：发明
国别省市：