掩膜数据、掩膜数据的处理方法及系统技术方案

本发明专利技术提供了一种掩膜数据、掩膜数据处理方法及系统，方法包括：将版图中的图层数据划分为若干区块，每个区块包括一个编号；将各区块的编号及对应的映射边界图形信息形成一组数据存储；解析提取不同编号对应区块内的版图数据并执行预先设定的数据处理程序，对每个区块编号的执行状态及数据处理结果进行存储；当在数据处理过程中断重启时，获取每个区块编号的执行状态，当某一区块编号的执行状态为未完成数据处理，则获取对应的映射边界图形信息，根据映射边界图形信息提取区块的版图数据，继续执行预先设定的数据处理程序。本发明专利技术系统重新启动任务后，可以根据已有的计算结果，继续执行剩余的运算，计算处理时间得到了大大降低。低。低。

【技术实现步骤摘要】
掩膜数据、掩膜数据的处理方法及系统


[0001]本专利技术涉及半导体制造和计算机辅助设计
，尤其涉及一种支持暂停与恢复的掩膜数据处理方法及系统，还涉及一种经过集成电路版图数据的几何图形修正，数据检验等生成的半导体制造需要的掩膜数据。

技术介绍

[0002]随着集成电路的发展，其特征尺寸不断缩小，电路规模不断增大。集成电路版图单层图形数量可达数百亿量级。集成电路设计版图到掩膜的转换过程中，需要做一系列的图形处理，包括设计与制造规则检查，辅助图形插入，光学邻近修正，掩膜数据拆分等。这些对几何图形的处理过程计算量大，处理时间长。特别是光学邻近修正领域的处理，光刻仿真模型复杂，一层版图数据所需要的计算资源与时间成本巨大。虽然版图数据的分解与并行计算可以降低掩膜数据处理的时间。但即使利用集群并行计算也需要上千CPU花费数天的时间，才能利用光刻模型计算出最佳的掩膜图像数据。
[0003]长时间运行的分布式程序，由硬件失效或软件环境更改造成的系统终端处理失效概率变大。在集群环境中，各个节点出现故障的概率较高.任何计算节点的任何组件都有可能出现失本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种掩膜数据处理方法，其特征在于，所述方法包括：将版图中的图层数据划分为若干区块，每个区块包括一个编号，其中，不同位置的重复单元的区块在某一平面内的映射边界图形相同，但映射变换信息不同；将各区块的编号及对应的映射边界图形信息形成一组数据存储；解析提取不同编号对应区块内的版图数据并执行预先设定的数据处理程序，同时，对每个区块编号的执行状态及数据处理结果进行存储；当在数据处理过程中断重启时，获取每个区块编号的执行状态，当某一区块编号的执行状态为未完成数据处理，则获取对应的映射边界图形信息，根据映射边界图形信息提取区块的版图数据，继续执行预先设定的数据处理程序。2.如权利要求1所述的掩膜数据处理方法，其特征在于，对每个区块编号的数据处理结果进行存储之前，还需要对数据处理结果进行校验。3.如权利要求2所述的掩膜数据处理方法，其特征在于，所述方法还包括：当某一区块编号的执行状态为已完成数据处理，则获取该编号对应的区块的处理结果，根据该映射边界图形信息及对应的映射变换信息，转换并合并结果。4.如权利要求1所述的掩膜数据处理方法，其特征在于，每个区块的编号信息及该区块的映射边界图形信息构成一组数据由同一存储器或不同存储器存储，所述存储器采用非易失性存储器。5.如权利要求1所述的掩膜数据处理方法，其特征在于，映射边界图形信息包括由平面坐标系的坐标点顺时针或逆时针围成的第一多边形以及平面映射变换信息，其中，平面映射变换信息包括偏移、旋转及镜像。6.如权利要求1所述的掩膜数据处理方法，其特征在于，将版图中的图层数据划分为若干区块的方法包括：根据扁平化版图的平面坐标信息划分多个区块，每个区块包括一个编号，其中，不同位置的区块编号不相同。7.如权利要求1所述的掩膜数据处理方法，其特征在于，将版图中的图层数据划分为若干区块的方法包括：根据层次化版图，提取重复单元，其中，重复单元被划分为一个或多个区块，不同位置的重复单元，区块编号相同。8.如权利要求1所述的掩膜数据处理方法，其特征在于，版图中区块的映射边界图形之间无缝隙，相互不重叠，整体拼接后覆盖整个版图。9.如权利要求1所述的掩膜数据处理方法，其特征在于，所述数据处理程序包括版图图形规则检查、版图图形插入以及图形的几何变换。10.如权利要求1所述的掩膜数据处理方法，其特征在于，将每个区块编号的数据处理结果进行存储的存储格式包括GDS及OASIS格式；对数据处理结果进行校验时采用的文件校验方法包括MD5、SHA1、CRC。11.如权利要求1所述的掩膜数据处理方法，其特征在于，根据映射边界图形信息提取区块的版图数据的方法...

【专利技术属性】
技术研发人员：赵西金，胡滨，
申请(专利权)人：珠海市睿晶聚源科技有限公司，
类型：发明
国别省市：