一种用于半导体制造的洁净室系统及其电场除尘方法技术方案

一种用于半导体制造的洁净室系统及其电场除尘方法，所述洁净室系统(100)包括洁净室(101)、电场除尘系统(102)；所述洁净室(101)包括气体入口；所述电场除尘系统(102)包括除尘系统出口、电场装置(1021)；所述洁净室(101)的气体入口与所述电场除尘系统(102)的除尘系统出口连通；所述电场装置(1021)包括电场装置入口(1011)、电场装置出口、电场阴极(10142)和电场阳极(10141)，所述电场阴极(10142)和所述电场阳极(10141)用于产生电离电场。该洁净室系统及其电场除尘方法能有效除去半导体制造行业中的颗粒物。业中的颗粒物。业中的颗粒物。业中的颗粒物。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

【专利技术属性】
技术研发人员：唐万福，赵晓云，王大祥，段志军，邹永安，奚勇，
申请(专利权)人：上海必修福企业管理有限公司，
类型：发明
国别省市：