输送系统及剔料机构技术方案

本申请属于输送装置技术领域。本申请公开了一种输送系统和剔料机构。其中，输送系统包括抓取件、转动件和剔料件。剔料件对应抓取件的移动路径设置，具有施力表面，该施力表面沿抓取件的移动方向延伸的同时逐渐远离抓取件的移动路径，且当抓取件携带物件移动至对应剔料件位置处时，施力表面的前端位于物件朝向抓取件一侧，并能够避让抓取件，施力表面用于对物件施加超过预定阈值的外部作用力，以使得抓取件释放物件。由此，能够将未成功输送出去的物件分离下来，避免其与待输送的后一个物件干涉。涉。涉。

【技术实现步骤摘要】
输送系统及剔料机构


[0001]本申请属于输送装置
，特别是涉及一种输送系统及剔料机构。

技术介绍

[0002]输送系统在第一、第二位置往复移动或转动以输送物件时，若前一个物件在第一位置未成功输送出去，在第二位置处会与待输送的另一个物件干涉，造成异常。例如，锂电池在自动化生产线中，需要在装配工位将盖帽与电池壳体焊接为一体。输送系统包括转盘和真空吸盘。转盘携带真空吸盘在上料工位和装配工位往复转动，以将上料工位的盖帽逐个输送至装配工位。在一些情况下，盖帽在装配工位未完成焊接，便随真空吸盘再次转动至上料工位。真空吸盘上的盖帽会与上料工位处的盖帽干涉。

技术实现思路

[0003]本申请主要解决的技术问题是提供一种输送系统及剔料机构，能够将未成功输送出去的物件分离下来，避免其与待输送的后一个物件干涉。
[0004]为解决上述技术问题，本申请采用的一个技术方案是：提供一种输送系统，输送系统包括：转动件，转动件绕参考轴线可自转；抓取件，抓取件设置于转动件，位于参考轴线的外周，用于抓取物件，并在物件受到超过预定阈值的外部作用力时，释放所抓取的物件；剔料件，剔料件对应抓取件的移动路径设置，具有施力表面，施力表面沿抓取件的移动方向延伸的同时逐渐远离抓取件的移动路径，且当抓取件携带物件移动至对应剔料件位置处时，施力表面的前端位于物件朝向抓取件一侧，并能够避让抓取件，施力表面用于对物件施加超过预定阈值的外部作用力，以使得抓取件释放物件。
[0005]进一步地，剔料件设置有第一凹槽，第一凹槽的底面形成施力表面，第一凹槽的开口背离抓取件。
[0006]进一步地，剔料件设置有第二凹槽，第二凹槽和第一凹槽的开口相反，且至少在施力表面前端与第一凹槽相通，以使得施力表面前端形成缺口，第二凹槽用于避让抓取件。
[0007]进一步地，当抓取件移动至对应剔料件位置处时，抓取件与第二凹槽的底面的空间无法通过一个物件。
[0008]进一步地，输送系统包括：限位件，限位件设置于第一凹槽中，其朝向施力表面一侧的表面、施力表面、第一凹槽的一对侧壁形成引导通道，以引导从抓取件上分离下来的物件移动。
[0009]进一步地，限位件与剔料件可拆卸连接。
[0010]进一步地，限位件朝向施力表面一侧的表面沿抓取件的移动方向延伸的同时逐渐远离抓取件的移动路径。
[0011]进一步地，施力表面以及限位件朝向施力表面一侧的表面均为弧形面。
[0012]进一步地，输送系统包括：收料容器；料道，料道为中空管道，料道设置于剔料件的施力表面的末端与收料容器之间，以将从抓取件上分离下来的物件引导至收料容器中。
[0013]为解决上述技术问题，本申请还提供一种剔料机构，用于将物件从抓取件上分离下来，抓取件设置于转动件，转动件绕参考轴线可自转，抓取件位于参考轴线的外周，用于抓取物件，并在物件受到超过预定阈值的外部作用力时释放所抓取的物件，剔料机构包括：剔料件，剔料件对应抓取件的移动路径设置，具有施力表面，施力表面沿抓取件的移动方向延伸的同时逐渐远离抓取件的移动路径，且当抓取件携带物件移动至对应剔料件位置处时，施力表面的前端位于物件朝向抓取件一侧，并能够避让抓取件，施力表面用于对物件施加超过预定阈值的外部作用力，以使得抓取件释放物件。
[0014]本申请的有益效果是：本申请中，剔料件对应抓取件的移动路径设置，具有施力表面，该施力表面沿抓取件的移动方向延伸的同时逐渐远离抓取件的移动路径，且当抓取件携带物件移动至对应剔料件位置处时，施力表面的前端位于物件朝向抓取件一侧，并能够避让抓取件，施力表面用于对物件施加超过预定阈值的外部作用力，以使得抓取件释放物件。由此，能够将未成功输送出去的物件分离下来，避免其与待输送的后一个物件干涉。
附图说明
[0015]图1是本申请一实施例的输送系统、上料组件以及装配组件的结构示意图；
[0016]图2是图1所示输送系统中剔料机构的结构示意图；
[0017]图3是图1所述输送系统中剔料件将物件从抓取件上分离的过程示意图；
[0018]图4是图1所示输送系统中剔料件的三维结构示意图。
具体实施方式
[0019]下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅是本申请的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。
[0020]图1是本申请一实施方式的输送系统、上料组件以及装配组件的结构示意图。展示了输送系统的工作状态。
[0021]如图1所示，上料组件100用于逐个地将物件1输送至上料工位A。输送系统200用于将上料工位A的物件1搬运至装配工位B。装配组件300在装配工位B将物件1装配并输送走。
[0022]作为示例，本实施例中的输送系统200应用于锂电池装配
该示例中，物件1为盖帽。盖帽在装配工位B被焊接至电池壳体上。当然，本申请的输送系统200的应用场景不局限于此。例如，汽车装配

[0023]输送系统200包括转动件12和抓取件13。
[0024]转动件12绕参考轴线可自转。相对应地，还设置有驱动设备，例如电机，来驱动转动件12转动。本实施例中，转动件12为圆盘状。在别的实施例中，也可以为框架结构，或其它形状。
[0025]抓取件13用于抓取物件1，并在物件1受到超过预定阈值的外部作用力时，释放所抓取的物件1。此处的抓取指将物件1保持于抓取件13上，使得物件1不会脱离抓取件13。抓取件13可以为真空吸盘。真空吸盘连接有负压源(图未示)，通过真空环境吸附物件1。当对物件1施加较大的作用力时，物件1能够从真空吸盘上分离下来。在别的实施例中，抓取件13
可以为永磁体，通过磁性吸附物件1(前提是物件1能够被磁性吸附)。又或者，抓取件13具有粘性，能够粘接物件1。
[0026]抓取件13设置于转动件12，位于参考轴线的外周。转动件12转动时，能够带动抓取件13转动。本实施例中，抓取件13设置有多个，多个抓取件13均布于转动件12的外周侧壁上。多个抓取件13能够提高输送物件1的效率。
[0027]抓取件13转动到对应上料工位A处时，抓取物件1，并带动物件1转动至装配工位B。在装配工位B，抓取件13释放物件1，并继续转动至上料工位A，以抓取下一个物件1。
[0028]若物件1在装配工位B未成功与抓取件13分离，抓取件13将带动物件1继续转动到上料工位A，抓取件13上的物件1会与上料工位A处的物件1干涉，造成异常状况。
[0029]为此，本申请输送系统200还包括剔料机构。剔料机构对应抓取件13的移动路径设置，且设置于装配工位B的下游侧以及上料工位A的上游侧。剔料机构用于将抓取件13上的物件1剔除。
[0030]图2是图1所示输送系统中剔料机构的结构示意图。如图2所示，本申请的剔料机构本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种输送系统，其特征在于，包括：转动件，所述转动件绕参考轴线可自转；抓取件，所述抓取件设置于所述转动件，位于所述参考轴线的外周，用于抓取物件，并在所述物件受到超过预定阈值的外部作用力时，释放所抓取的所述物件；剔料件，所述剔料件对应所述抓取件的移动路径设置，具有施力表面，所述施力表面沿所述抓取件的移动方向延伸的同时逐渐远离所述抓取件的所述移动路径，且当所述抓取件携带所述物件移动至对应所述剔料件位置处时，所述施力表面的前端位于所述物件朝向所述抓取件一侧，并能够避让所述抓取件，所述施力表面用于对所述物件施加超过所述预定阈值的所述外部作用力，以使得所述抓取件释放所述物件。2.根据权利要求1所述的输送系统，其特征在于，所述剔料件设置有第一凹槽，所述第一凹槽的底面形成所述施力表面，所述第一凹槽的开口背离所述抓取件。3.根据权利要求2所述的输送系统，其特征在于，所述剔料件设置有第二凹槽，所述第二凹槽和所述第一凹槽的开口相反，且至少在所述施力表面前端与所述第一凹槽相通，以使得所述施力表面前端形成缺口，所述第二凹槽用于避让所述抓取件。4.根据权利要求3所述的输送系统，其特征在于，当所述抓取件移动至对应所述剔料件位置处时，所述抓取件与所述第二凹槽的底面的空间无法通过一个所述物件。5.根据权利要求2所述的输送系统，其特征在于，包括：限位件，所述限位件设置于所述第一凹槽中，其朝向所述施力表面一侧的表面、所述施力表面、所述第一凹槽的一对侧壁形成...

【专利技术属性】
技术研发人员：ꢀ七四专利代理机构，
申请(专利权)人：无锡先导智能装备股份有限公司，
类型：新型
国别省市：