本发明专利技术提供了一种脱模装置。脱模装置包括：载物平台具有载物凹槽，待脱模件放置在载物平台上，且待脱模件至少一部分位于载物凹槽处以保护待脱模件朝向载物平台的一侧的结构面；脱模结构朝向载物平台的一侧具有吸附面，吸附面为弧面，驱动组件与脱模结构驱动连接，当脱模结构处于初始位置和结束位置时，吸附面与载物平台之间具有第一预设高度，当脱模结构处于吸附过程时，脱模结构处于第二预设高度，第二预设高度小于第一预设高度，在吸附过程中，吸附面始终与待脱模件线接触，以使吸附面从待脱模件的一端向待脱模件的另一端逐渐压接并带动待脱模件的软模从待脱模件的基板脱离。本发明专利技术解决了现有技术中脱模装置存在脱模效果不理想且体积大的问题。效果不理想且体积大的问题。效果不理想且体积大的问题。
【技术实现步骤摘要】
脱模装置
[0001]本专利技术涉及纳米压印设备
，具体而言，涉及一种脱膜装置。
技术介绍
[0002]在纳米压印的过程中，将柔软的模具上的图案转印到基板的树脂上后，要将模具从基板上剥离，即脱模工序。现有的脱模通常是用滚轴将模具卷起的方式，滚轴是正圆形，滚轴中心不会在基板上出现上下方向的运动，而是水平方向进行移动，从而完成离型。这样的设备结构，压印面积越大，则需要的滚轴直径越大。同时，为了不破坏旁边的图案，最好能进行垂直脱模，因此滚轴直径越大越好，但是滚轴直径变大的话，设备尺寸也会随之变大，从而无法实现设备的小型化。
[0003]也就是说，现有技术中的脱模装置存在脱模效果不理想且体积大的问题。
技术实现思路
[0004]本专利技术的主要目的在于提供一种脱模装置，以解决现有技术中脱模装置存在脱模效果不理想且体积大的问题。
[0005]为了实现上述目的，本专利技术提供了一种脱模装置，包括：载物平台，载物平台具有载物凹槽，待脱模件放置在载物平台上，且待脱模件至少一部分位于载物凹槽处以保护待脱模件朝向载物平台的一侧的结构面；脱模结构，脱模结构朝向载物平台的一侧具有吸附面，吸附面为弧面，且弧面的弧心位于脱模结构的上方；驱动组件，驱动组件与脱模结构驱动连接，脱模结构具有初始位置、吸附过程和结束位置，当脱模结构处于初始位置和结束位置时，吸附面与载物平台之间具有第一预设高度，当脱模结构处于吸附过程时，脱模结构处于第二预设高度，第二预设高度小于第一预设高度，在吸附过程中，吸附面始终与待脱模件线接触，以使吸附面从待脱模件的一端向待脱模件的另一端逐渐压接并带动待脱模件的软模从待脱模件的基板脱离。
[0006]进一步地，脱模结构包括脱模板，脱模板具有吸附面。
[0007]进一步地，脱模结构包括：转动轴，驱动组件与转动轴驱动连接；脱模件，脱模件具有脱模板和多个连接板，多个连接板分别与脱模板的相对的两个侧边连接，且连接板的另一端与转动轴连接，转动轴与吸附面的距离小于吸附面的曲率半径。
[0008]进一步地，脱模结构包括吸附件，脱模板上设置有通孔，吸附件与通孔连通，以使通孔产生负压。
[0009]进一步地，吸附件至少位于脱模结构运动方向的两端。
[0010]进一步地，脱模板的厚度小于100毫米。
[0011]进一步地，脱模装置还包括压力机构，压力机构位于脱模板远离载物台的一侧，压力机构能够将脱模板压到待脱模件上。
[0012]进一步地，吸附面的曲率半径大于50毫米。
[0013]进一步地，驱动组件包括：架体，脱模结构活动设置在架体上；高度调节装置，高度
调节装置与架体驱动连接，以驱动架体运动以调整脱模结构与载物平台之间的距离；驱动件，驱动件与脱模结构驱动连接，驱动件驱动脱模结构沿平行于载物平台的方向转动。
[0014]进一步地，架体包括：连接件，高度调节装置与连接件驱动连接；支撑件，支撑件与连接件连接，连接件与支撑件之间形成容置空间，脱模结构的至少一部分位于容置空间内，支撑件具有连通容置空间的开孔，吸附面位于容置空间的外部，且吸附面能够在开孔内摆动。
[0015]进一步地，架体还包括两个阻隔器，两个阻隔器间隔设置在容置空间内，脱模结构的转动轴在两个阻隔器之间运动，阻隔器对脱模结构形成止挡以使脱模结构停止运动。
[0016]进一步地，驱动件与脱模结构齿轮连接。
[0017]进一步地，载物平台还包括吸附结构，吸附结构设置在载物平台上，以吸附待脱模件。
[0018]进一步地，载物凹槽的深度大于等于1毫米且小于等于5毫米。
[0019]进一步地，脱模结构包括吸附件，吸附件包括静电卡盘、真空卡盘、磁吸件、挂钩中的至少一种。
[0020]应用本专利技术的技术方案，脱模装置包括载物平台、脱模结构和驱动组件，载物平台具有载物凹槽，待脱模件放置在载物平台上，且待脱模件至少一部分位于载物凹槽处以保护待脱模件朝向载物平台的一侧的结构面；脱模结构朝向载物平台的一侧具有吸附面，吸附面为弧面，且弧面的弧心位于脱模结构的上方；驱动组件与脱模结构驱动连接，脱模结构具有初始位置、吸附过程和结束位置，当脱模结构处于初始位置和结束位置时，吸附面与载物平台之间具有第一预设高度，当脱模结构处于吸附过程时，脱模结构处于第二预设高度，第二预设高度小于第一预设高度，在吸附过程中，吸附面始终与待脱模件线接触，以使吸附面从待脱模件的一端向待脱模件的另一端逐渐压接并带动待脱模件的软模从待脱模件的基板脱离。
[0021]载物平台的设置能够用于支撑待脱模件，以使得待脱模件各处平齐，便于脱模结构对待脱模件进行脱模处理。吸附面能够吸附住待脱模件的软模，以使得软模从基板上脱离下来。吸附面的设置能够保证在脱模的过程中，软模始终与吸附面贴合，以保证脱模结构对软模吸附力，以快速完整地将软模从基板上分离下来。驱动组件的设置能够驱动脱模结构同时在水平方向和竖直方向运动，以使得吸附面完全将软模吸附住，以保证待脱模件脱模的完整性。脱模结构的运动轨迹类似于摆动的钟的边缘运动的轨迹，但是脱模结构在初始位置和结束位置的高度是相同的，但是在水平方向上脱模结构发生了位移。而在脱模的过程中，脱模结构先逐渐由第一预设高度向第二预设高度移动，同时脱模结构在水平方向上移动，以使得吸附面逐渐吸附软模。同时先被吸附的软模在脱模结构逐渐运动的过程中逐渐与基板分离。脱模结构再逐渐由第二预设高度向第一预设高度移动，同时脱模结构继续在水平方向上移动，以使得吸附面进一步吸附软模，同时先被吸附的软模在脱模结构逐渐运动的过程中逐渐与基板分离，直至脱模结构达到结束位置时，脱模结构又回到第一预设高度，此时软模与基板完全脱离，完成了脱模的过程。将待脱模件放置在载物凹槽处，使得待脱模件的另一侧的微结构伸入到载物凹槽内，以保证待脱模件的另一侧的微结构的完整性。
附图说明
[0022]构成本申请的一部分的说明书附图用来提供对本专利技术的进一步理解，本专利技术的示意性实施例及其说明用于解释本专利技术，并不构成对本专利技术的不当限定。在附图中：
[0023]图1示出了本专利技术的一个可选实施例的脱模装置的结构示意图；以及
[0024]图2示出了图1中脱模结构的工作状态图；
[0025]图3示出了图1中脱模结构处于初始位置时的状态图；
[0026]图4示出了图1中脱模结构处于脱模过程中的状态图；
[0027]图5示出了图1中脱模结构处于结束位置时的状态图。
[0028]其中，上述附图包括以下附图标记：
[0029]10、载物平台；20、脱模结构；21、吸附面；22、转动轴；23、连接板；30、驱动组件；31、架体；311、连接件；312、支撑件；313、容置空间；314、阻隔器。
具体实施方式
[0030]需要说明的是，在不冲突的情况下，本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。下面将参考附图并结合实施例来详细说明本专利技术。
[0031]需要指出的是，除非另有指明，本申请使用本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种脱模装置，其特征在于，包括：载物平台(10)，所述载物平台(10)具有载物凹槽，待脱模件放置在所述载物平台(10)上，且所述待脱模件至少一部分位于所述载物凹槽处以保护所述待脱模件朝向所述载物平台(10)的一侧的结构面；脱模结构(20)，所述脱模结构(20)朝向所述载物平台(10)的一侧具有吸附面(21)，所述吸附面(21)为弧面，且所述弧面的弧心位于所述脱模结构(20)的上方；驱动组件(30)，所述驱动组件(30)与所述脱模结构(20)驱动连接，所述脱模结构(20)具有初始位置、吸附过程和结束位置，当所述脱模结构(20)处于所述初始位置和所述结束位置时，所述吸附面(21)与所述载物平台(10)之间具有第一预设高度，当所述脱模结构(20)处于所述吸附过程时，所述脱模结构(20)处于第二预设高度，所述第二预设高度小于所述第一预设高度，在所述吸附过程中，所述吸附面(21)始终与所述待脱模件线接触，以使所述吸附面(21)从所述待脱模件的一端向所述待脱模件的另一端逐渐压接并带动所述待脱模件的软模从所述待脱模件的基板脱离。2.根据权利要求1所述的脱模装置，其特征在于，所述脱模结构(20)包括脱模板，所述脱模板具有所述吸附面(21)。3.根据权利要求2所述的脱模装置，其特征在于，所述脱模结构(20)包括：转动轴(22)，所述驱动组件(30)与所述转动轴(22)驱动连接；脱模件，所述脱模件具有所述脱模板和多个连接板(23)，多个所述连接板(23)分别与所述脱模板的...
【专利技术属性】
技术研发人员：张学颖，邓启威，孙理斌，汪杰，陈远，
申请(专利权)人：宁波舜宇奥来技术有限公司，
类型：发明
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。