光照射方法、光吸收材料附着装置及其相关方法和装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及光照射方法、光吸收材料附着装置及其相关方法和装置。提供了用于利用具有可被光吸收材料吸收的波长的光束照射光吸收材料的光照射方法，包括：通过汽化区域中的高于或等于外部压力的压力向光吸收材料施加能够使光吸收材料飞行的能量，其中汽化区域以围绕光轴的方式存在于透明体和光吸收材料之间的界面处。还提供了飞行体产生方法，包括：用激光束照射基体材料的与之上设置有光吸收材料的表面相对的表面，以使光吸收材料在激光束的发射方向上飞行，其中在基体材料与光吸收材料之间的界面处沿激光束照射的区域的外周产生压力高于或等于外部压力的汽化区域。力高于或等于外部压力的汽化区域。力高于或等于外部压力的汽化区域。

【技术实现步骤摘要】
光照射方法、光吸收材料附着装置及其相关方法和装置


[0001]本公开涉及光照射方法、光吸收材料附着装置、飞行体产生方法和装置、成像方法、和三维物体生产方法。

技术介绍

[0002]因为成像装置可以使墨滴飞行到期望的位置，所以最近已经对成像装置在生产三维物体的3D打印机领域以及在通过印刷技术生产电子零件的印刷电子领域的应用进行了研究。
[0003]具体地，存在对使各种材料(不仅现有图像成形中使用的低粘度油墨)精确飞行到期望位置的需要，并且已经提出了各种成像装置。
[0004]例如，一种提出的方法使通过激光照射而蒸发的油墨飞行(例如，参见日本未审查专利申请公开号08
‑
072252)。
[0005]例如，提出的激光诱导的向前转移(LIFT)方法使用光学涡旋激光(例如，参见国际公开号WO2016/136722)。LIFT方法在(供体)基底上形成转移目标材料(下文可以成为飞行目标)的膜(层)，并用激光照射该飞行目标的膜(层)以使该飞行目标飞行并使该飞行目标定位在与飞行目标相对设置的接收体基底的期望位置。LIFT本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.利用具有可被光吸收材料吸收的波长的光束照射用于吸收光的所述光吸收材料的光照射方法，所述光照射方法包括：通过汽化区域中的高于或等于外部压力的压力向所述光吸收材料施加能够使所述光吸收材料飞行的能量，其中所述汽化区域以所述汽化区域围绕光轴的方式存在于透明体和所述光吸收材料之间的界面处。2.根据权利要求1所述的光照射方法，进一步包括：通过向所述光吸收材料添加表面调节剂使所述光吸收材料的液滴量变小，以降低所述光吸收材料的表面张力并使所述光吸收材料以适合量的液滴形式飞行并降落在附着目标上。3.根据权利要求1或2所述的光照射方法，进一步包括：利用小于引起所述光吸收材料汽化的能量密度的能量照射所述光轴上的所述光吸收材料，其中在所述光轴上不存在汽化区域。4.根据权利要求1至3中任一项所述的光照射方法,其中围绕所述光束的光轴的光束轮廓的内直径为20微米或更大但90微米或更小。5.根据权利要求1至4中任一项所述的光照射方法，进一步包括：使用所述光吸收材料以引起朝向所述光轴的汽化压力，所述光吸收材料的粘度通过光照射降低。6.根据权利要求1至5中任一项所述的光照射方法，进一步包括：用使所述光吸收材料的与光照射的面相对的背面处的能量密度低于引起所述光吸收材料汽化的能量密度的能量照射所述光吸收材料。7.光吸收材料附着装置，其包括配置为利用具有可被所述光吸收材料吸收的波长的光束照射用于吸收光的所述光吸收材料的单元；和配置为转换所述光束的入射激光束波前的相位分布的单元，以转换至期望的光束轮廓，其中压力高于或等于外部压力的汽化区域以所述汽化区域围绕光轴的方式存在于透明体和所述光吸收材料之间的界面处，和其中所述光吸收材料附着装置通过所述汽化区域的压力将能够使所述光吸收材料飞行的能量施加至所述光吸收材料，以使所述光吸收材料降落在间隔至少0.5mm或更大的附着目标上。8...

【专利技术属性】
技术研发人员：须原浩之，青户淳，
申请(专利权)人：株式会社理光，
类型：发明
国别省市：