离子分析装置制造方法及图纸

本发明专利技术的离子分析装置(1)，具备：离子化室(10)；分析室(20)，通过形成有开口(211)的分隔壁(21)而与离子化室(10)分离；离子化部(3)，在离子化室(10)中从试样(11)生成离子；离子输送部(22、23、24)，设于分析室(20)内，输送由离子化部生成的离子；离子捕捉部(25)，设于分析室(20)内，捕捉由离子输送部(22、23、24)输送的离子；离子检测部(26)，设于分析室(20)内，检测从离子捕捉部(25)放出的离子；单一排气机构(28)，仅与分析室(20)连接使该分析室达到10

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】离子分析装置


[0001]本专利技术涉及离子分析装置。

技术介绍

[0002]作为质量分析装置中使用的试样的离子化法之一，有基质辅助激光解吸离子化(MALDI：Matrix Assisted Laser Desorption/Ionization)法(例如专利文献1
‑
3)。在基质辅助激光解吸离子化法中，将容易吸收激光，或容易离子化的物质(基质物质)涂覆于试样的表面，从中捕获试样分子。然后，通过将捕获的试样分子的基质物质微晶化并对其照射激光，由此将试样分子离子化。从试样分子生成的离子供质量分析和离子迁移率分析等离子分析装置。通过MALD I法生成离子的离子源被称为MALDI离子源，具备MALDI离子源的质量分析装置被称为MALDI
‑
MS。
[0003]在MALDI离子源中，在多数情况下，使用在真空气氛下将试样分子离子化的真空MALDI离子源。由离子化室内的真空MALDI离子源生成的离子通过离子导入口被导入与离子化室连通的质量分析室。在质量分析室中例如设有由离子透镜等构成的离子输送光学系统、离子阱及离子检测部。通过离子导入口导入的离子被离子输送光学系统收敛并被导入离子阱。对离子阱施加用于捕捉离子的高频电压。此外，对离子阱的内部导入氦气等冷却气体，通过与该冷却气体的碰撞将离子冷却并捕捉至离子阱内的中央附近。之后，从离子阱依次放出离子并由离子检测部进行检测。
[0004]在上述MALDI
‑
MS中，真空MALDI离子源需要10
‑1～10/>‑2Pa的真空度。另一方面，对离子输送光学系统及离子检测部要求10
‑3以下Pa的压力(高真空)。因此，在MALDI
‑
MS中，离子化室与质量分析室独立由涡轮分子泵排气。此外，对离子阱的内部导入冷却气体时的离子阱内的真空度达到10
‑1～10
‑2Pa。因此，在质量分析室中，离子阱所处的空间与收容了离子输送光学系统及离子检测部的空间被分隔壁分离，分别通过涡轮分子泵来排气。
[0005]现有技术文献
[0006]专利文献
[0007]专利文献1：日本特开平10
‑
228881号公报
[0008]专利文献2：国际公开第2018/092271号
[0009]专利文献3：日本特开2016
‑
115565号公报

技术实现思路

[0010]专利技术所要解决的技术问题
[0011]如上所述，在以往的MALDI
‑
MS中，为了对所要求的真空度不同的多个空间进行排气，必须使用多台涡轮分子泵，存在装置变得大型化且昂贵的问题。
[0012]在此以MALDI
‑
MS为例进行了说明，但在使用了MALDI离子源以外的真空离子化源的装置和进行在离子阱捕捉的离子的迁移率分析等的装置中也存在与上述相同的问题。
[0013]本专利技术所要解决的技术问题在于，使由离子捕捉部对由真空离子源生成的来自试
样的离子进行捕捉并分析的离子分析装置小型化及低成本化。
[0014]用于解决上述技术问题的方案
[0015]为了解决上述技术问题而完成的本专利技术的离子分析装置具备：
[0016]离子化室；
[0017]分析室，通过形成有开口的分隔壁与所述离子化室分离；
[0018]离子化部，在所述离子化室中从试样生成离子；
[0019]离子输送部，设于所述分析室内，输送由所述离子化部生成的离子；
[0020]离子捕捉部，设于所述分析室内，捕捉由所述离子输送部输送的离子；
[0021]离子检测部，设于所述分析室内，检测从所述离子捕捉部放出的离子；
[0022]单一排气机构，仅与所述分析室连接使该分析室为10
‑3Pa以下的压力。
[0023]专利技术效果
[0024]在离子分析装置中，对离子输送部和离子检测部一般要求10
‑3Pa以下的高真空度(低压)。另一方面，对配置于离子化室的离子源要求的真空度为10
‑1～10
‑2Pa左右，比对离子输送部和离子检测部要求的真空度低。于是，在本专利技术的离子分析装置中，使得将被连接空间设为10
‑3Pa以下的压力的单一排气机构仅与分析室连接对分析室进行直接排气同时经由开口对离子化室进行间接排气。然后，在将分析室与离子化室分别排气至规定的真空度后，使离子化部动作而从试样生成离子。此外，在从试样生成离子的同时，或者比其稍晚地，对离子捕捉部内导入规定种类的气体(冷却气体)。被导入离子捕捉部的离子通过与冷却气体的碰撞被冷却并被捕捉至离子捕捉部的中央附近。被导入离子捕捉部的冷却气体逐渐流出至分析室内，由此分析室内的真空度降低。因此，通过排气机构将该气体排出至分析室内达到规定的真空度为止后将离子捕捉至离子捕捉部内。然后，在分析室内达到规定的真空度后，从离子捕捉部依次放出离子，由离子检测部进行检测。
[0025]所述单一排气机构例如由进行主抽吸的涡轮分子泵等主泵与进行粗抽吸的隔膜泵等辅助泵构成。进行主抽吸的主泵一般大型且昂贵。在本专利技术的离子分析装置中，由于仅具备仅与分析室连接的单一排气机构，因此与具备多个这样的排气机构的以往的离子分析装置相比，能够实现小型化及低成本化。另外，所述单一排气机构这一用词是与主泵(即，使被连接空间为10
‑3Pa以下的压力的排气机构)相关的限定事项，并不排除例如将用于在离子化室中进行负载锁闭(load lock)动作的粗抽吸泵连接等方案。
附图说明
[0026]图1是作为本专利技术的离子分析装置的一实施例的质量分析装置的主要部分构成图。
具体实施方式
[0027]以下，参照附图对作为本专利技术的离子分析装置的一实施例的质量分析装置进行说明。本实施例的质量分析装置是通过离子阱(IT)将由MALDI(Matrix Assisted Laser Desorption/Ionization)离子源生成的离子进行质量分离并检测的基质激光解吸离子化
‑
离子阱(MALDI
‑
IT)型的质量分析装置。
[0028]图1示出本实施例的质量分析装置1的主要部分构成。该质量分析装置1大致由离
子化室10、质量分析室20、电压施加部30及控制部40构成。在离子化室10与质量分析室20之间设有分隔壁21。在分隔壁21形成有朝向质量分析室20侧逐渐变宽的锥状的开口211。
[0029]在离子化室10设有试样载台12，用于载置具有收纳试样11的多个孔的试样板111。此外，使试样载台12在测量位置(图1所示的位置)与更换位置之间移动，并且在测量位置设有用于与开口211接近/分离的载台移动机构13。此外，设有阀14和用于使该阀14在将开口211封锁的封锁位置(图1所示的位置)与退让位置之间移动的阀移动机构15。由该阀14与阀移动机构15构成负载锁闭机构。在离子化室10还设本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种离子分析装置，其特征在于，具备：离子化室；分析室，通过形成有开口的分隔壁与所述离子化室分离；离子化部，在所述离子化室中从试样生成离子；离子输送部，设于所述分析室内，输送由所述离子化部生成的离子；离子捕捉部，设于所述分析室内，捕捉由所述离子输送部输送的离子；离子检测部，设于所述分析室内，检测从所述离子捕捉部放出的离子；单一排气机构，仅与所述分析室连接，使分析室达到10
‑3Pa以下的压力。2.如权利要求1所述的离子分析装置，其特征在于，在所述离子化室具备负载锁闭机构，...

【专利技术属性】
技术研发人员：山内祥圣，古田匡智，细井孝辅，
申请(专利权)人：株式会社岛津制作所，
类型：发明
国别省市：