一种陶瓷砖清洗架制造技术

本实用新型专利技术公开了一种陶瓷砖清洗架，包括框架本体，框架本体的四周开设有通风口，框架本体的两相对内壁上固定安装有第一承接板和第二承接板，第一承接板和第二承接板上分别开设有第一滑槽和第二滑槽，第一卡条的两侧边缘均匀开设有多个第一卡槽，第一卡条的两端还设有第一凸键，框架本体的两侧还开设有第一通槽和第二通槽，第一螺纹连接孔上配备有第一紧固螺钉，第一紧固螺钉贯穿第一通槽与第一螺纹连接孔螺纹连接，第二承接板上放置有第二卡条，第二卡条的两端底部设有第二凸键，第二卡条的一端面还开设有第二螺纹连接孔，第二螺纹连接孔上配备有第二紧固螺钉，第二卡条的上端均匀开设有多个第二卡槽。本实用新型专利技术解决了目前陶瓷砖清洗不便的问题。瓷砖清洗不便的问题。瓷砖清洗不便的问题。

【技术实现步骤摘要】
一种陶瓷砖清洗架


[0001]本技术涉及瓷砖清理
，具体为一种陶瓷砖清洗架。

技术介绍

[0002]陶瓷砖在经过切割后会存在大量的碎屑，并吸附在板面上，影响产品的合格率，为了提高产品合格率率，需对该陶瓷砖进行清洁，目前瓷砖加工清洗装置其实往往都是将瓷砖铺设在架体上，利用外部的水管进行清洗，清洗效率低，一次性只能清洗一面，清洗另一面需要翻转，且翻转过后二次清洗，会由于原有支架上存在污垢，造成瓷砖清洗后的面二次污染的现象，该种清洗工作量极大，并且效率低下。同时该种支架往往尺寸不易调节，难以适应不同型号的陶瓷砖使用。

技术实现思路

[0003]本技术的目的是克服现有技术中存在的不足，提供一种陶瓷砖清洗架，解决了目前陶瓷砖清洗不便的问题。
[0004]为了实现上述目的，本技术采用的技术方案为：
[0005]一种陶瓷砖清洗架，包括框架本体，其特征在于，所述框架本体的四周开设有通风口，所述框架本体的两相对内壁上固定安装有第一承接板和第二承接板，所述第一承接板和第二承接板上分别开设有第一滑槽和第二滑槽，所述述第一承接板上放置本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种陶瓷砖清洗架，包括框架本体（1），其特征在于，所述框架本体（1）的四周开设有通风口（2），所述框架本体（1）的两相对内壁上固定安装有第一承接板（3）和第二承接板（4），所述第一承接板（3）和第二承接板（4）上分别开设有第一滑槽（5）和第二滑槽（6），所述述第一承接板（3）上放置有第一卡条（7），所述第一卡条（7）的两侧边缘均匀开设有多个第一卡槽（8），所述第一卡条（7）的两端还设有第一凸键（9），所述第一凸键（9）与第一滑槽（5）相匹配，所述框架本体（1）的两侧还开设有第一通槽（10）和第二通槽（11），所述第一卡条（7）的一端面还开设有第一螺纹连接孔（12），所述第一螺纹连接孔（12）上配备有第一紧固螺钉（13），所述第一紧固螺钉（13）贯穿第一通槽（10）与第一螺纹连接孔（12）螺纹连接，所述第二承接板（4）上放置有第二...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈前，沈海军，陈易，
申请(专利权)人：江西斯米克陶瓷有限公司，
类型：新型
国别省市：