【技术实现步骤摘要】
显示基板及其制备方法、显示装置
[0001]本专利技术涉及显示
,尤其涉及一种显示基板及其制备方法、显示装置。
技术介绍
[0002]有机发光二极管(Organic Light Emitting Diode,简称为OLED),因具有自发光、驱动电压低、发光效率高、响应速度快以及可柔性显示等优点,已在显示领域得到广泛应用。
技术实现思路
[0003]本专利技术实施例的目的在于提供一种显示基板及其制备方法、显示装置,用于提高显示基板的分辨率和良率。
[0004]为达到上述目的,本专利技术实施例提供了如下技术方案:
[0005]一方面,本专利技术实施例提供了一种显示基板的制备方法。所述制备方法包括:提供背板。在所述背板的一侧形成像素界定薄膜,利用光刻工艺,对所述像素界定薄膜进行图案化处理,形成多个第一开口,得到像素界定层。在所述像素界定层远离所述背板的一侧形成层叠的牺牲层和光刻胶层,其中,所述光刻胶层具有多个第二开口,所述第一开口在所述背板上的正投影位于所述第二开口在所述背板上的正投影范围内, ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种显示基板的制备方法,其特征在于,所述制备方法包括:提供背板;在所述背板的一侧形成像素界定薄膜;利用光刻工艺,对所述像素界定薄膜进行图案化处理,形成多个第一开口,得到像素界定层;在所述像素界定层远离所述背板的一侧形成层叠的牺牲层和光刻胶层;其中,所述光刻胶层具有多个第二开口,所述第一开口在所述背板上的正投影位于所述第二开口在所述背板上的正投影范围内;所述牺牲层在所述背板上的正投影与所述光刻胶层在所述背板上的正投影范围重合,或位于所述光刻胶层在所述背板上的正投影范围内;在所述光刻胶层远离所述背板的一侧依次形成发光薄膜、第一功能薄膜以及封装薄膜;对所述牺牲层进行剥离,去除所述牺牲层、所述光刻胶层以及所述发光薄膜、所述第一功能薄膜及所述封装薄膜中位于所述光刻胶层远离所述背板一侧表面的部分,保留所述发光薄膜、所述第一功能薄膜及所述封装薄膜中位于所述第二开口内的部分。2.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,形成所述层叠的牺牲层和光刻胶层,包括:在所述像素界定层远离所述背板的一侧依次形成牺牲薄膜和光刻胶薄膜;对所述光刻胶薄膜进行曝光、显影,形成所述多个第二开口,得到所述光刻胶层;对所述牺牲薄膜进行显影,形成所述牺牲层;在所述牺牲层在所述背板上的正投影位于所述光刻胶层在所述背板上的正投影范围内的情况下,所述牺牲层靠近所述多个第二开口的部分,相对于所述光刻胶层缩进。3.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述显示基板具有显示区及位于所述显示区旁侧的周边区;所述显示基板包括位于所述周边区的公共电压信号线;所述第一功能薄膜中位于所述第二开口内的部分构成第一功能部,多个所述第一功能部构成第一功能层;所述封装薄膜中位于所述第二开口内的部分构成封装部,多个所述封装部构成第一封装层;所述制备方法还包括:至少去除所述第一封装层中位于所述周边区的部分,暴露所述第一功能层的至少一部分;至少在所述周边区形成第二功能层;所述第二功能层与所述公共电压信号线电接触,并与所述第一功能层电接触。4.根据权利要求3所述的制备方法,其特征在于,所述制备方法还包括:在所述第二功能层远离所述背板的一侧形成第二封装层;所述第二封装层覆盖所述第二功能层。5.根据权利要求1~4中任一项所述的制备方法,其特征在于,所述第二开口包括相连接的像素区和走线区;所述像素区的至少一部分位于所述第一开口内;所述走线区延伸至所述周边区;所述至少去除所述第一封装层位于所述周边区的部分,包括:去除所述第一封装层中位于所述周边区的部分,暴露所述第一功能层的一部分;
所述至少在所述周边区形成第二功能层,包括:在所述周边区形成所述第二功能层;所述第二功能层覆盖所述第一功能层暴露的一部分及所述公共电压信号线的至少一部分。6.根据权利要求5所述的制备方法,其特征在于,不同次形成的至少两个第二开口中的走线区在所述背板上的正投影部分重叠。7.根据权利要求1~4中任一项所述的制备方法,其特征在于,所述第二开口呈阵列状排布;所述至少去除所述第一封装层位于所述周边区的部分,暴露所述第...
【专利技术属性】
技术研发人员:赵梦,关峰,吕杨,杜建华,李超,吴昊,王超璐,袁广才,
申请(专利权)人:京东方科技集团股份有限公司,
类型:发明
国别省市:
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