阵列基板及其制作方法技术

一种阵列基板及其制作方法，包括：衬底基板(101)；晶体管(102)，位于衬底基板(101)之上，晶体管(102)包括有源层(1021)，有源层(1021)的材料为半导体材料；像素电极(103)，与有源层(1021)同层设置，像素电极(103)在衬底基板(101)上的正投影与有源层(1021)的正投影互不交叠，且像素电极(103)的材料为导体化的半导体材料；第一无机钝化层(104)，位于像素电极(103)背离衬底基板(101)的一侧；第二无机钝化层(105)，位于第一无机钝化层(104)背离衬底基板(101)的一侧，第二无机钝化层(105)的至少部分区域与第一无机钝化层(104)直接接触。部分区域与第一无机钝化层(104)直接接触。部分区域与第一无机钝化层(104)直接接触。部分区域与第一无机钝化层(104)直接接触。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

【专利技术属性】
技术研发人员：贺家煜，宁策，李正亮，姚念琦，黄杰，刘雪，胡合合，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：