【技术实现步骤摘要】
线圈组件
[0001]本申请要求于2020年5月26日在韩国知识产权局提交的第10-2020-0063246号韩国专利申请的优先权的权益，该韩国专利申请的公开内容通过引用被全部包含于此。
[0002]本公开涉及一种线圈组件。
技术介绍
[0003]电感器(一种类型的线圈组件)是与电阻器和电容器一起在电子装置中使用的代表性无源电子组件。
[0004]随着电子装置已经被设计成具有高性能和减小的尺寸，已经在电子装置中使用了数量增加的线圈组件，并且已经减小了线圈组件的尺寸。因此，已经开发了一种薄膜电感器，所述薄膜电感器可通过以下方式形成：通过镀覆工艺在基板上形成线圈部，使用磁性材料片掩埋形成在基板上的线圈，以及在磁性主体的外表面上形成外电极。
[0005]在制造普通的线圈组件的工艺中，可在主体的表面的除了形成有外电极的区域之外的区域上优先印刷绝缘层之后，再形成外电极。在这种情况下，可能需要在主体的上表面、侧表面和下表面上印刷绝缘层，从而可能难以在主体的表面上共同形成绝缘层，这是工艺上的限制。此外，在单独的印刷...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种线圈组件，包括：支撑基板；线圈部，设置在所述支撑基板的至少一个表面上；主体，所述支撑基板和所述线圈部设置在所述主体中；外电极，设置在所述主体的至少一个表面上并且连接到所述线圈部；以及绝缘层，设置在所述主体的至少一个表面的除了其中设置有所述外电极的区域之外的区域中，其中，所述主体的与所述外电极接触的表面的平均粗糙度和所述主体的与所述绝缘层接触的表面的平均粗糙度不同。2.根据权利要求1所述的线圈组件，其中，所述主体的与所述外电极接触的表面的平均粗糙度大于所述主体的与所述绝缘层接触的表面的平均粗糙度。3.根据权利要求2所述的线圈组件，其中，所述主体的与所述外电极接触的表面的平均粗糙度大于等于5μm且小于等于50μm。4.根据权利要求1所述的线圈组件，其中，所述外电极包括设置在所述主体的所述至少一个表面上并且彼此间隔开的第一外电极和第二外电极。5.根据权利要求4所述的线圈组件，其中，所述主体具有彼此相对的第一表面和第二表面、将所述第一表面连接到所述第二表面且彼此相对的第三表面和第四表面以及将所述第一表面连接到所述第二表面且彼此相对的第五表面和第六表面，其中，所述线圈部包括设置在所述支撑基板的一个表面上的第一引出图案和设置在所述支撑基板的所述一个表面上并且与所述第一引出图案间隔开的第二引出图案，并且其中，所述第一外电极和所述第二外电极分别连接到所述第一引出图案和所述第二引出图案。6.根据权利要求5所述的线圈组件，其中，所述第一引出图案和所述第二引出图案分别暴露于所述主体的所述第二表面和所述第一表面，其中，所述第一外电极和所述第二外电极分别设置在所述主体的所述第二表面和所述第一表面上，并且延伸到所述主体的所述第六表面上并且彼此间隔开，并且其中，所述第一引出图案的与所述第一外电极接触的暴露表面的平均粗糙度和所述第二引出图案的与所述第二外电极接触的暴露表面的平均粗糙度小于所述主体的所述第二表面的与所述第一外电极接触的部分的平均粗糙度和所述主体的所述第一表面的与所述第二外电极接触的部分的平均粗糙度。7.根据权利要求6所述的线圈组件，其中，所述第一引出图案的与所述第一外电极接触的暴露表面的平均粗糙度和所述第二引出图案的与所述第二外电极接触的暴露表面的平均粗糙度为1μm或更小。8.根据权利要求6所述的线圈组件，其中，所述第一外电极和所述第二外电极中的每个还延伸到所述主体的所述第五表面上。9.根据权利要求5所述的线圈组件，所述线圈组件还包括：
凹部，形成在所述主体的所述第六表面的边缘中的每个边缘上并且将所述第一引出图案的一部分和所述第二引出图案的一部分暴露于所述主体的外部，其中，所述第一外电极和所述第二外电极均包括连接部和延伸部，所述连接部设置在所述凹部上并且连接到所述第一引出图案和所述第二引出图案中的相应的一个，所述延伸部连接到相应的连接部并且沿着所述主体的所述第六表面延伸。10.根据权利要求9所述的线圈组件，所述线圈组件还包括：填充部，填充所述凹部的一部分并且覆盖相应的连接部。11.根据权利要求1所述的线圈组件，其中，所述外电极的宽度小于所述主体的宽度。12.一种线圈组件，包括：主体，包括彼此相对的第一表面和第二表面、将所述第一表面连接到所述第二表面且彼此相对的第三表面和第四表面以及将所述第一表面连接到所述第二表面且彼此相...
【专利技术属性】
技术研发人员：梁主欢，林承模，朴鲁逸，姜炳守，文炳喆，
申请(专利权)人：三星电机株式会社，
类型：发明
国别省市：
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